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臺積電將于十二廠安裝ASML超紫外光微影設(shè)備

時間：2010-02-24 06:36:00

關(guān)鍵字： ASML 臺積電紫外光制程技術(shù)

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[導讀]晶圓代工大廠臺積電(TSMC)日前與荷蘭半導體設(shè)備業(yè)者艾司摩爾(ASML)共同宣布，臺積電將取得ASML的TWINSCAN NXE:3100超紫外光(Extreme Ultra-violet，EUV)微影設(shè)備，是全球六個取得這項設(shè)備的客戶伙伴之一。該套AS

晶圓代工大廠臺積電(TSMC)日前與荷蘭半導體設(shè)備業(yè)者艾司摩爾(ASML)共同宣布，臺積電將取得ASML的TWINSCAN NXE:3100超紫外光(Extreme Ultra-violet，EUV)微影設(shè)備，是全球六個取得這項設(shè)備的客戶伙伴之一。
該套ASML的超紫外光微影設(shè)備將安裝于臺積電超大晶圓廠(GigaFab)──臺積十二廠，用以發(fā)展新世代的制程技術(shù)。臺積電也因此成為號稱全球首家可在自身晶圓廠發(fā)展超紫外光微影技術(shù)的專業(yè)晶圓代工業(yè)者。

臺積電表示，相較于現(xiàn)行浸潤式微影技術(shù)以193奈米波長當作光源，超紫外光微影技術(shù)導入更短波長的光源，將有機會降低生產(chǎn)成本，而成為集成電路制造更先進技術(shù)世代一個有潛力的選擇。該公司目前正在對超紫外光及其他微影技術(shù)的最佳成本效益的潛力進行評估。

臺積電研究發(fā)展資深副總經(jīng)理蔣尚義表示：「公司將利用TWINSCAN NXE:3100設(shè)備進行更先進世代制程技術(shù)的研發(fā)。超紫外光微影技術(shù)是我們正在研究的下世代微影技術(shù)之一，而導入此項設(shè)備，不但切合我們保持先進技術(shù)領(lǐng)先的目標，更強化了我們不斷投資于歐洲半導體業(yè)創(chuàng)新的一貫承諾。經(jīng)由ASML和其他公司，歐洲半導體業(yè)將在臺積公司未來制程技術(shù)的發(fā)展上，繼續(xù)扮演重要的角色。」

ASML執(zhí)行副總裁暨產(chǎn)品及技術(shù)長Martin van den Brink表示：「包括此次提供NXE:3100設(shè)備給臺積公司，ASML已經(jīng)為邏輯、動態(tài)隨機存取內(nèi)存、NAND閃存及專業(yè)集成電路制造服務(wù)等芯片制造主的要領(lǐng)域提供超紫外光設(shè)備。而藉由為臺積公司提供未來芯片制造最佳的技術(shù)，將可促進我們與臺積公司長久的伙伴關(guān)系?！?br>

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