英特爾攜Tri-Gate技術(shù)向ARM發(fā)出挑戰(zhàn)
IHS iSuppli公司的研究顯示,憑借其新型Tri-Gate 3-D晶體管技術(shù),英特爾將得到其所需的低功率微處理器,進(jìn)軍平板與智能手機(jī)半導(dǎo)體市場(chǎng),并擊退ARM芯片可能向PC領(lǐng)域發(fā)起的進(jìn)攻。
英特爾將利用其22納米制程技術(shù)生產(chǎn)基于3-D tri-gate晶體管的x86微處理器。這些微處理器的功耗將不到采用32納米制程和傳統(tǒng)平面晶體管的器件的一半,但性能毫不遜色。
功耗下降50%非??捎^。電子器件的功耗越小,電池的續(xù)航時(shí)間就越長(zhǎng),用戶(hù)就能移動(dòng)更遠(yuǎn)的距離。
英特爾的舉措,將使其能夠再度試圖在平板與智能手機(jī)芯片組市場(chǎng)建立自己的地盤(pán)?,F(xiàn)在該市場(chǎng)由基于ARM的應(yīng)用與基帶處理器占據(jù)。但是,雖然更小的制程將幫助英特爾滲透移動(dòng)設(shè)備市場(chǎng),但這只是其中的一個(gè)因素,對(duì)于這些類(lèi)型的器件來(lái)說(shuō),功率效率還要求對(duì)處理器進(jìn)行系統(tǒng)級(jí)優(yōu)化。
ARM勢(shì)頭強(qiáng)勁
Tri-Gate技術(shù)也可以充當(dāng)英特爾的防御手段。在其核心的PC微處理器領(lǐng)域,英特爾正面臨來(lái)自ARM的新挑戰(zhàn)。微軟在2011年第一季度宣布,將在下一版Windows操作系統(tǒng)中支持ARM微處理器,這在全球PC市場(chǎng)中是一個(gè)重大變化。以前Windows幾乎一直是x86的獨(dú)家操作系統(tǒng)。
憑借歷來(lái)在功耗方面的優(yōu)勢(shì),ARM可能堅(jiān)持打入PC領(lǐng)域的x86核心市場(chǎng),尤其是在筆記本領(lǐng)域。但是,Tri-Gate將使X86能夠更好地抗衡ARM。就功耗而言,在筆記本、上網(wǎng)本、平板電腦和智能手機(jī)等低功耗設(shè)備方面,X86與ARM競(jìng)爭(zhēng)的能力將變得更強(qiáng)。
值得大批量生產(chǎn)
英特爾的Tri-Gate晶體管技術(shù)采用3D結(jié)構(gòu),可以大大提高功率效率。3D概念在芯片制造方面并不是新東西,臺(tái)積電和IBM幾年來(lái)一直在開(kāi)發(fā)這種技術(shù)。但是,與臺(tái)積電/IBM的努力不同,英特爾的Tri-Gate技術(shù)已可批量生產(chǎn),這是重大的技術(shù)成就。
投入大批量生產(chǎn)的能力,應(yīng)該使英特爾比競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手具有兩到三年的制造優(yōu)勢(shì)。
英特爾Tri-Gate技術(shù)的其它優(yōu)勢(shì)包括制程縮小能力、成本、產(chǎn)品路線圖和不必使用特殊晶圓。
當(dāng)下一代光刻設(shè)備問(wèn)世的時(shí)候,Tri-Gate可以縮小到小于20納米的水平,從而可以進(jìn)一步提高性能、改善功耗和降低成本。另外,Tri-Gate技術(shù)的單位器件制造成本只比傳統(tǒng)平面技術(shù)高出2-3%左右。
Tri-Gate也為英特爾提供了一個(gè)路線圖,把它的22納米半導(dǎo)體制程擴(kuò)展到Atom平臺(tái),這可能促成可以用于手機(jī)的低功耗微架構(gòu)的出現(xiàn)。
最后,轉(zhuǎn)向tri-gate晶體管使得英特爾不必采用絕緣硅(SOI)結(jié)構(gòu)就能夠制造全耗盡晶體管。這樣就不必使用成本高于普通晶圓的特殊SOI晶圓。
早該如此
英特爾在PC和服務(wù)器X86微處理器市場(chǎng)的主要對(duì)手AMD,多年來(lái)一直在致力于降低芯片功耗,與英特爾相似。
實(shí)際上,AMD最近推出了其加速處理器(APU),把微處理器內(nèi)核與圖形處理器組合在同一個(gè)芯片之中。AMD芯片也著眼于在系統(tǒng)層面延長(zhǎng)電池續(xù)航時(shí)間。