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[導(dǎo)讀]2013年5月15日,概倫電子科技有限公司(下稱概倫電子)宣布中芯國(guó)際集成電路制造有限公司(下稱中芯國(guó)際, 紐交所代號(hào):SMI,港交所股份代號(hào):981)已在其先進(jìn)工藝制程開發(fā)流程中采用概倫電子NanoYieldTM高良率(High Sigma

2013年5月15日,概倫電子科技有限公司(下稱概倫電子)宣布中芯國(guó)際集成電路制造有限公司(下稱中芯國(guó)際, 紐交所代號(hào):SMI,港交所股份代號(hào):981)已在其先進(jìn)工藝制程開發(fā)流程中采用概倫電子NanoYieldTM高良率(High Sigma)解決方案。

概倫電子作為SPICE模型解決方案的全球領(lǐng)導(dǎo)廠商及業(yè)界領(lǐng)先的良率導(dǎo)向設(shè)計(jì)(DFY)技術(shù)供應(yīng)商,于2012年推出NanoYield—專為存儲(chǔ)器、邏輯和模擬電路設(shè)計(jì)所研發(fā)的快速而精準(zhǔn)的良率預(yù)測(cè)和優(yōu)化軟件。

靜態(tài)隨機(jī)存取存儲(chǔ)器(SRAM)的良率受局部工藝漂移所限制,這種情況在先進(jìn)工藝制程、在28納米及以下的工藝節(jié)點(diǎn)上尤為突出。在傳統(tǒng)的工藝開發(fā)中,工程師需要同時(shí)運(yùn)行多個(gè)不同的工藝批次,然后對(duì)結(jié)果加以分析來(lái)判斷工藝漂移對(duì)SRAM良率的影響,在耗費(fèi)時(shí)間的同時(shí)也增加了開發(fā)成本。在IBM授權(quán)技術(shù)基礎(chǔ)上改進(jìn)和開發(fā)且通過硅認(rèn)證的NanoYield高良率分析技術(shù)(HS-Pro),可以成幾個(gè)數(shù)量級(jí)地縮短傳統(tǒng)蒙特卡羅(Monte Carlo)用于高良率(High Sigma)分析的仿真時(shí)間。通過運(yùn)行一系列代表不同工藝改進(jìn)的計(jì)算機(jī)仿真,工程師可以利用NanoYield高良率分析技術(shù)在工藝制程開發(fā)的早期對(duì)SRAM良率進(jìn)行高達(dá)6s的快速預(yù)測(cè)和驗(yàn)證,幫助半導(dǎo)體代工廠在先進(jìn)工藝開發(fā)過程中更好地控制成本,加快上市的進(jìn)程,同時(shí)為其客戶提供更好的產(chǎn)品良率。

中芯國(guó)際與概倫電子在先進(jìn)SPICE建模領(lǐng)域已合作多年,雙方已建立長(zhǎng)期的戰(zhàn)略合作關(guān)系,本次合作將延伸到面向良率提升的工藝制程技術(shù)研發(fā)和設(shè)計(jì)流程改進(jìn)等。在此次合作中,中芯國(guó)際采用NanoYield對(duì)28納米、20納米及以下工藝節(jié)點(diǎn)的先進(jìn)工藝制程開發(fā)中的SRAM進(jìn)行優(yōu)化。“NanoYield已成為我們工藝制程開發(fā)流程中的重要組成部分?!敝行緡?guó)際技術(shù)研發(fā)執(zhí)行副總裁李序武博士表示,“NanoYield可以幫助我們改進(jìn)工藝,減少實(shí)現(xiàn)良率目標(biāo)所需的時(shí)間?!?

“中芯國(guó)際是我們最有價(jià)值的合作伙伴之一”,概倫電子董事長(zhǎng)兼總裁劉志宏博士表示,“通過雙方的緊密合作,中芯國(guó)際28納米工藝制程的開發(fā)已采用NanoYield高良率解決方案進(jìn)行SRAM良率的優(yōu)化。早期的SRAM良率的驗(yàn)證可以增強(qiáng)客戶和IP合作伙伴的信心,從而加快產(chǎn)能提升的步伐?!?/P>

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