2010年浸潤式微米光刻機(jī)臺(tái)設(shè)備(Immersion Scanner)大缺貨，形成DRAM產(chǎn)業(yè)轉(zhuǎn)進(jìn)40納米工藝的天險(xiǎn)，隨著缺貨問題解決，ASML針對(duì)20納米工藝，推出深紫外光(EUV)機(jī)臺(tái)，目前已有10臺(tái)訂單在手，預(yù)計(jì)2012年將正式交貨;不過，對(duì)于資金拮據(jù)的DRAM廠，1臺(tái)要價(jià)近1億美元的EUV機(jī)臺(tái)，將會(huì)是更大的資金挑戰(zhàn)，目前僅瑞晶下單訂購1臺(tái)，藉以確保20納米工藝的參賽權(quán)。

ASML成立于1984年，是從荷商飛利浦(Philipsa)分割出來的獨(dú)立半導(dǎo)體設(shè)備公司，設(shè)備不斷推陳出新，在1984和1989年分別推出PAS 2000和PAS 5000機(jī)臺(tái)，1990年代推出PAS 5000 Stepper和Scanner，2000年推出Twinscan光刻機(jī)，2010年進(jìn)入EUV機(jī)臺(tái)。在ASML各地區(qū)營收比重中，亞洲市場(chǎng)占53%，其中南韓占16%、臺(tái)灣占28%、新加坡占5%、大陸占4%，而美國市場(chǎng)占33%、歐洲市場(chǎng)占14%。

ASML指出，2006年推出第1代EUV機(jī)臺(tái)，出貨給比利時(shí)微電子研究中心(imec)，第2代NEX 3100機(jī)臺(tái)，截至2011年第1季已出貨3臺(tái)，預(yù)計(jì)此款機(jī)臺(tái)只會(huì)出6臺(tái)，其余3臺(tái)會(huì)在年底前出貨，之后會(huì)推出NEX 3300機(jī)臺(tái)量產(chǎn)型機(jī)臺(tái)，其曝光速度和瞄準(zhǔn)率均較高。

ASML進(jìn)一步表示，目前NEX 3300機(jī)臺(tái)全球接獲訂單數(shù)量已有10臺(tái)，客戶包括晶圓代工業(yè)者，以及臺(tái)、韓、美、日等內(nèi)存制造商，預(yù)計(jì)NEX 3300機(jī)臺(tái)可在2012年正式交貨。

ASML進(jìn)一步表示，第1代EUV機(jī)臺(tái)1片晶圓曝光時(shí)間要2小時(shí)，NEX 3100機(jī)臺(tái)估計(jì)每小時(shí)可達(dá)曝光60片晶圓，但目前尚未達(dá)此目標(biāo)，未來NEX 3300機(jī)臺(tái)目標(biāo)是1小時(shí)可曝光100片晶圓。

2010年DRAM產(chǎn)業(yè)剛從全球金融風(fēng)暴中復(fù)蘇，當(dāng)時(shí)各廠加速轉(zhuǎn)進(jìn)40納米工藝，卻遇到Immersion Scanner機(jī)臺(tái)設(shè)備大缺貨，各廠工藝微縮進(jìn)度都被關(guān)鍵機(jī)臺(tái)卡住;再者，浸潤式微米光刻機(jī)臺(tái)1臺(tái)要價(jià)近新臺(tái)幣10億元，對(duì)當(dāng)時(shí)體質(zhì)虛弱的DRAM廠而言，資本障礙也形成競(jìng)爭力天險(xiǎn)。

目前浸潤式微米光刻機(jī)臺(tái)設(shè)備缺貨問題已逐漸解除，半導(dǎo)體廠只有資金充裕，在固定交期下，拿到浸潤式微米光刻機(jī)臺(tái)都不是問題，不過要進(jìn)入20納米工藝以下的技術(shù)競(jìng)賽，必須要轉(zhuǎn)進(jìn)EUV機(jī)臺(tái)，以1臺(tái)單價(jià)近30億元來看，對(duì)于DRAM廠而言，又是另一個(gè)艱巨的資金天險(xiǎn)。

據(jù)了解，目前臺(tái)系內(nèi)存廠中，只有瑞晶已向ASML預(yù)定1臺(tái)EUV機(jī)臺(tái)，其他DRAM廠都按兵不動(dòng)，加上如力晶、茂德等DRAM廠的營運(yùn)重心都轉(zhuǎn)型至晶圓代工，真正生產(chǎn)標(biāo)準(zhǔn)型DRAM的產(chǎn)能比重也降低，未來在轉(zhuǎn)進(jìn)20納米工藝后，是否要購入EUV機(jī)臺(tái)，可能要從財(cái)務(wù)狀況評(píng)估。