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[導(dǎo)讀]根據(jù)國(guó)際研究暨顧問(wèn)機(jī)構(gòu)Gartner發(fā)布的最終統(tǒng)計(jì)結(jié)果,2012年全球半導(dǎo)體資本設(shè)備支出總額為378億美元,較2011年減少16.1%。晶圓級(jí)制造受到微影(lithography)與沈積(deposition)領(lǐng)域疲弱的影響,在2012年表現(xiàn)低于整體市

根據(jù)國(guó)際研究暨顧問(wèn)機(jī)構(gòu)Gartner發(fā)布的最終統(tǒng)計(jì)結(jié)果,2012年全球半導(dǎo)體資本設(shè)備支出總額為378億美元,較2011年減少16.1%。晶圓級(jí)制造受到微影(lithography)與沈積(deposition)領(lǐng)域疲弱的影響,在2012年表現(xiàn)低于整體市場(chǎng)。在主要領(lǐng)域中,亦即主要受到邏輯制造影響的領(lǐng)域,以28/20奈米制程和良率改善的表現(xiàn)較佳。

Gartner副總裁Klaus-DieterRinnen表示:「DRAM長(zhǎng)期供過(guò)于求以及轉(zhuǎn)進(jìn)NAND之后又造成供過(guò)于求,導(dǎo)致產(chǎn)能需求下降。記憶體制造相關(guān)的采購(gòu)大幅減少。而邏輯相關(guān)的支出也僅能稍微抵銷一點(diǎn)下降力道,因?yàn)槭艿?012下半年整體半導(dǎo)體裝置需求減緩和庫(kù)存暴增的影響。因此,制造設(shè)備的銷售量從第二季至年底為止呈現(xiàn)逐季下滑?!?/p>

由于沈積及制程控制方面的相對(duì)優(yōu)勢(shì),應(yīng)用材料公司(AppliedMaterials)重新登上第一名寶座(參見表一)。而艾司摩爾(ASML)則因微影市場(chǎng)疲弱與極紫外光(EUV)銷售不佳的影響,造成營(yíng)收下滑。東京威力科創(chuàng)(TokyoElectronLtd.;TEL)和應(yīng)用材料公司相仿,同樣受惠于該公司在非微影市場(chǎng)的相對(duì)優(yōu)勢(shì)。LamResearch在購(gòu)并諾發(fā)系統(tǒng)(NovellusSystems)之后晉升至第四名。

Rinnen表示:「值得注意的是前十大廠商的銷售額所占全球比例進(jìn)一步攀升,現(xiàn)已將近70%,而2008年只有61%。這些大型廠商的成長(zhǎng)代表小型廠商輸?shù)暨@場(chǎng)競(jìng)賽,亦凸顯設(shè)備市場(chǎng)日益仰賴少數(shù)幾家供應(yīng)廠商?!?/p>

后端設(shè)備領(lǐng)域,尤其是晶圓級(jí)封裝(WLP)相關(guān)領(lǐng)域,表現(xiàn)優(yōu)于整體市場(chǎng)。這些領(lǐng)域有的受益于邏輯制程投資方面的相對(duì)優(yōu)勢(shì),如先進(jìn)RF或系統(tǒng)單晶片(SoC)測(cè)試設(shè)備,有的則是受益于凸塊(bump)、覆晶(flip-chip)及其他WLP制程的逐漸熱門,例如:凸塊鍵合(studbumpbonding)和矽穿孔(TSV)的晶圓鍵合器。

制程控制領(lǐng)域的表現(xiàn)超越整體晶圓廠設(shè)備市場(chǎng),因?yàn)閺S商紛紛擴(kuò)大32/28奈米廠的產(chǎn)能,以及需要更多的檢測(cè)與缺陷再檢測(cè)工具以監(jiān)控日趨復(fù)雜的制程。在制程控制領(lǐng)域當(dāng)中,以電子束晶圓檢測(cè)的表現(xiàn)最佳,在2012年當(dāng)中上升了36%。

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