摩爾定律(Moore’sLaw)將在未來的十年持續(xù)發(fā)展，但每單位電晶體成本下跌的速度將隨之減緩，無法再像過去一樣快速降低了。根據(jù)新思科技董事長(zhǎng)兼執(zhí)行長(zhǎng)AartdeGeus表示，晶片設(shè)計(jì)越來越復(fù)雜，逐漸延緩向更大晶圓的過渡，但也為其他替代技術(shù)開啟了大門。

AartdeGeus的這番評(píng)論正好出現(xiàn)在當(dāng)今業(yè)界日益關(guān)注半導(dǎo)體技術(shù)的未來發(fā)展之際。有些業(yè)界觀察家指出，28nm節(jié)點(diǎn)可能會(huì)是最后一次還能以新矽晶制程為客戶帶來完整的好處了──更低成本、功耗以及更高性能。

展望未來，「評(píng)判的標(biāo)準(zhǔn)將取決于每個(gè)電晶體成本降價(jià)的速度有多快──這同時(shí)也會(huì)是良率能多快提升的函數(shù)，」AartdeGeus指出，「隨著電晶體降價(jià)速度減緩，半導(dǎo)體的價(jià)格很可能就必須提高，」才能使晶片制造商得以回收投資。

不過，AartdeGeus也轉(zhuǎn)述英特爾資深院士MarkBohr的看法，他說MarkBohr表示看到一條可邁向7nm節(jié)點(diǎn)的發(fā)展道路，還「可能以某種方式降低每電晶體價(jià)格。」

業(yè)界分析師G.DanHutcheson則指出，目前對(duì)于未來節(jié)點(diǎn)的每電晶體成本資料掌握有限。不過，根據(jù)以往的發(fā)展經(jīng)驗(yàn)，他預(yù)計(jì)業(yè)界將能持續(xù)看到成本下降。

Hutcheson指出，由于缺少下一代微影工具，晶圓廠自20nm起就必須為一些晶片層進(jìn)行兩次圖樣(pattern)過程。但微影技術(shù)僅占晶片制造成本的四分之一。

面對(duì)未來可能更高的成本，「業(yè)界將竭盡所能的利用目前的28nm節(jié)點(diǎn)，」AartdeGeus表示，「由于利潤(rùn)并沒那么高，其他公司可能更指望在16/14nm節(jié)點(diǎn)，因此，只有一些廠商會(huì)轉(zhuǎn)移到20nm節(jié)點(diǎn)，」他補(bǔ)充說。

這可能會(huì)為其他替代技術(shù)開啟了另一扇門，如意法半導(dǎo)體(ST)以及其他業(yè)者提出的全耗盡型絕緣上覆矽(FD-SOI)技術(shù)?！傅@也會(huì)帶動(dòng)其他主導(dǎo)廠商大力支持FD-SOI，」他說。

考慮到成本不斷的增加以及晶片制造的復(fù)雜度，半導(dǎo)體公司已經(jīng)將從300mm晶圓過渡到45nn晶圓的時(shí)程延遲到2020年了。AartdeGeus說：「更大的晶圓有時(shí)雖可帶來更低成本，但業(yè)界也相應(yīng)地需要一款完整的工具，如今卻還無法到位?！?/p>

盡管如此，AartdeGeus對(duì)于未來發(fā)展仍抱持樂觀看法。隨著該公司推出重要的晶片設(shè)計(jì)軟體升級(jí)，他表示，「我們可支援多幾十億種電晶體晶片，而在未來十年也將看到持續(xù)的進(jìn)展?！?/p>

有趣的是，在以Synopsys公司工具完成的設(shè)計(jì)中，只有約5%的設(shè)計(jì)采用目前先進(jìn)的28nm制程技術(shù)。根據(jù)AartdeGeus的簡(jiǎn)報(bào)資料，180nm節(jié)點(diǎn)是目前最普遍的制程技術(shù)，在采用該工具的設(shè)計(jì)中約占30%，接著分別是65nm以及250nm節(jié)點(diǎn)。

「這的確是令人驚訝的數(shù)據(jù)分布，讓我不得不再三確認(rèn)圖表與數(shù)字是否確，」AartdeGeus說，「但可以確定的是我們看到了大量轉(zhuǎn)向28nm的趨勢(shì)，接下來也將逐漸增加過渡至16/14nm節(jié)點(diǎn)。」