日本理化學(xué)研究所以納米壓印法 (Nanoimprint Lithography, NIL)開(kāi)發(fā)出可在高曲折率玻璃上形成細(xì)微構(gòu)造的全新光學(xué)組件。該機(jī)構(gòu)以高度1130納米的L/S(Line & Space)圖形轉(zhuǎn)印，成功制造出波長(zhǎng)750納米、位相差0.25的1/4波長(zhǎng)板 (Wave plates)，

具有可低價(jià)、大量生產(chǎn)等特點(diǎn)。

玻璃具有高透明性、曲折率、耐熱性、耐旋光性等特征，廣泛地應(yīng)用在面板、鏡頭、光纖等領(lǐng)域方面；不過(guò)一般而言，以納米壓印法設(shè)計(jì)光學(xué)構(gòu)造，往往需要500~600度的高溫環(huán)境，因此不利于大量加工生產(chǎn)。

研究團(tuán)隊(duì)使用玻璃原料―多晶硅(polysilicon)在低溫低壓下形成細(xì)微構(gòu)造，然后再經(jīng)過(guò)照射紫外線以及離膜后的熱處理，多晶硅便成為了玻璃，在波長(zhǎng)400~800納米下的透過(guò)率證實(shí)可達(dá)到70%以上的水平。

新產(chǎn)品預(yù)計(jì)除可作為光開(kāi)關(guān)或高曲折率波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換機(jī)等用途外，研究團(tuán)隊(duì)也期待應(yīng)用在高機(jī)能鏡片、反射防止膜等領(lǐng)域，希望早日達(dá)到實(shí)用化水平。