芝浦機電在FPD International 2011”（10月26～28日，太平洋橫濱會展中心）上，以展板形式展出了使用氫氟酸（HF）濃度管理單元的低溫多晶硅TFT液晶面板晶圓清洗裝置。支持第5代以上的大尺寸基板。

在晶圓清洗工藝中，第4.5代以前一直采用旋轉式清洗裝置。但第5代以后由于玻璃基板越來越難以轉動，因此采用了使用噴頭的一列式（In-Line）清洗裝置。旋轉式清洗裝置通過旋轉使清洗液高效擴散到基板上，而一列式清洗裝置無法獲得這種效果。因此，改成一列式之后，藥液用量驟增，超出了基板尺寸的增大比例。因此，第5代工藝以后越來越多地需要重新利用第4.5代以前已經不再使用的藥液。芝浦機電推出了測量再利用時的藥液濃度，以過濾雜質和補充藥液的HF濃度管理單元。另外，該公司還提出了觸摸面板等噴涂裝置的新用途。（記者：長廣 恭明，Tech-On?。?