〖eNews消息〗英特爾公司今天宣布開設(shè)全球首家300毫米晶片研究實(shí)驗(yàn)室。該實(shí)
驗(yàn)室名為RP1(RP- research and pathfinding表示研究和探索)，耗資2.5億美元，是全球首家
致力于進(jìn)行基于新型300毫米晶片的先進(jìn)硅處理技術(shù)研究的實(shí)驗(yàn)室。

英特爾
研究人員將利用RP1開發(fā)下一代照相平板印刷術(shù)(photolithography)、高性能晶體管、先進(jìn)(銅和
光)互聯(lián)以及（涉及新材料和新化學(xué)過程的）環(huán)保生產(chǎn)工藝。這一新設(shè)施將使英特爾研究人員一如
既往地制造世界上體積最小、性能最佳的晶體管。晶體管越小，運(yùn)行速度越快。而高速晶體管是高
速微處理器的關(guān)鍵建筑模塊，后者是計(jì)算機(jī)和無數(shù)其它智能產(chǎn)品的大腦。

英
特爾高級(jí)副總裁兼技術(shù)和制造事業(yè)部總經(jīng)理Sunlin Chou博士說：“英特爾的技術(shù)隊(duì)伍將通過研
究、探索、開發(fā)和制造階段高效地促進(jìn)創(chuàng)新。RP1與D1C相鄰，英特爾300毫米技術(shù)過程的各個(gè)環(huán)節(jié)
均已到位，將按照摩爾定律開發(fā)更大尺寸的晶片。”

RP1隸屬英特爾實(shí)驗(yàn)室
下屬英特爾元件研究實(shí)驗(yàn)室。英特爾元件研究實(shí)驗(yàn)室開發(fā)的硅技術(shù)通常要領(lǐng)先英特爾目前的制造工
藝2－3代。

新建的RP1研究設(shè)施擁有56,000平方英尺的潔凈車間
(cleanroom)，與英特爾的開發(fā)工廠D1C和大規(guī)模制造廠Fab20相鄰。RP1將促使英特爾盡快將研究
進(jìn)展付諸于生產(chǎn)制造。RP1是研究和探索機(jī)構(gòu)，區(qū)別于英特爾的開發(fā)工廠。探索是研究和開發(fā)之間
的關(guān)鍵性過渡階段。這極大加快了英特爾將先進(jìn)技術(shù)應(yīng)用于量產(chǎn)產(chǎn)品的速度。

class=p14h>英特爾元件研究研究實(shí)驗(yàn)室總監(jiān)Gerald Marcyk說：“RP1在業(yè)界獨(dú)樹一幟。

我們既可以在燒杯里進(jìn)行小規(guī)模的研究，也能夠成批使用300毫米晶片進(jìn)行
大規(guī)模研究，所有工作都是在一個(gè)實(shí)驗(yàn)室中完成的。”

英特爾實(shí)驗(yàn)室是英特
爾的研發(fā)機(jī)構(gòu)，設(shè)施遍及全球，擁有6,000多名研究員和科學(xué)家。英特爾實(shí)驗(yàn)室采用分散的研發(fā)模
式，內(nèi)部研究機(jī)構(gòu)實(shí)力雄厚，與之相輔相成的是和院校、政府實(shí)驗(yàn)室和業(yè)界聯(lián)營機(jī)構(gòu)開展的諸多外
部研究方案。這種結(jié)構(gòu)與業(yè)界傳統(tǒng)的集中式研究實(shí)驗(yàn)室有所不同，使英特爾能夠在更為廣泛的領(lǐng)域
內(nèi)開展研究項(xiàng)目。英特爾實(shí)驗(yàn)室與英特爾業(yè)務(wù)部門密切協(xié)作，使實(shí)驗(yàn)室能夠針對客戶和消費(fèi)者的需
求進(jìn)行技術(shù)開發(fā)。

英特爾硅技術(shù)研究詳細(xì)情況見英特
爾新開設(shè)的硅展室，網(wǎng)址為www.intel.com/research/silicon。英特爾實(shí)驗(yàn)室科研項(xiàng)目詳細(xì)情
況見www.intel.com/labs。