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[導(dǎo)讀]電子專用設(shè)備是重大裝備制造業(yè)的重要分支,是電子信息產(chǎn)品生產(chǎn)技術(shù)和工藝技術(shù)的高度融合,處于電子信息產(chǎn)業(yè)鏈最高端。電子專用設(shè)備產(chǎn)業(yè)基礎(chǔ)性強(qiáng)、關(guān)聯(lián)度高,是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)中技術(shù)難度最大、附加值和進(jìn)入門檻最高的領(lǐng)域

電子專用設(shè)備是重大裝備制造業(yè)的重要分支,是電子信息產(chǎn)品生產(chǎn)技術(shù)和工藝技術(shù)的高度融合,處于電子信息產(chǎn)業(yè)鏈最高端。電子專用設(shè)備產(chǎn)業(yè)基礎(chǔ)性強(qiáng)、關(guān)聯(lián)度高,是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)中技術(shù)難度最大、附加值和進(jìn)入門檻最高的領(lǐng)域,決定著一個(gè)國(guó)家或地區(qū)電子信息產(chǎn)品制造業(yè)的整體水平,也是電子信息產(chǎn)業(yè)綜合實(shí)力的重要標(biāo)志。

  “十一五”回顧

  ·電子專用設(shè)備國(guó)內(nèi)市場(chǎng)環(huán)境不斷優(yōu)化

  ·我國(guó)企業(yè)自主創(chuàng)新能力仍然薄弱

  ·國(guó)產(chǎn)設(shè)備可靠性仍存在問題

  政策扶持力度加大

  “十一五”期間,我國(guó)電子專用設(shè)備產(chǎn)業(yè)得到快速發(fā)展,銷售收入預(yù)計(jì)年均增長(zhǎng)率達(dá)到22%左右。由于受到國(guó)際金融危機(jī)的影響,雖然沒有能達(dá)到電子專用設(shè)備“十一五”專項(xiàng)規(guī)劃的發(fā)展速度(25%),但仍然是電子信息產(chǎn)業(yè)中增長(zhǎng)較快的行業(yè)之一。根據(jù)國(guó)家統(tǒng)計(jì)局提供的數(shù)據(jù),2009年我國(guó)電子專用設(shè)備產(chǎn)業(yè)實(shí)現(xiàn)銷售收入1000億元,占當(dāng)年電子信息產(chǎn)業(yè)總銷售收入的2%。

  “十一五”期間在光伏產(chǎn)業(yè)市場(chǎng)的推動(dòng)下,我國(guó)晶硅太陽(yáng)能電池設(shè)備年均增長(zhǎng)率達(dá)到49.8%,成為電子專用設(shè)備各類產(chǎn)品中發(fā)展最快、也是在電子專用設(shè)備產(chǎn)業(yè)中占比重最大的一類產(chǎn)品。

  在電子專用設(shè)備領(lǐng)域,我國(guó)的產(chǎn)業(yè)政策得到有效貫徹,市場(chǎng)環(huán)境不斷優(yōu)化。

  2008年4月23日國(guó)務(wù)院審議并原則通過“極大規(guī)模集成電路制造裝備及成套工藝”國(guó)家科技重大專項(xiàng)(02專項(xiàng))。集成電路關(guān)鍵設(shè)備的研發(fā)從此進(jìn)入全面實(shí)施階段。該專項(xiàng)的實(shí)施,不僅將打破我國(guó)高端集成電路設(shè)備完全依賴進(jìn)口的狀況,而且還將帶動(dòng)我國(guó)電子專用設(shè)備技術(shù)的提升和結(jié)構(gòu)的調(diào)整。

  2006年6月,國(guó)務(wù)院常務(wù)會(huì)議通過《國(guó)務(wù)院關(guān)于加快振興裝備制造業(yè)的若干意見》,并將集成電路關(guān)鍵設(shè)備、新型平板顯示器件生產(chǎn)設(shè)備、電子元器件生產(chǎn)設(shè)備、無鉛工藝的整機(jī)裝聯(lián)設(shè)備列入了國(guó)家重大技術(shù)裝備中,加大了政策支持和引導(dǎo)力度,鼓勵(lì)國(guó)產(chǎn)重大技術(shù)裝備訂購(gòu)和使用,為其創(chuàng)造了有利的市場(chǎng)環(huán)境。

  大企業(yè)集團(tuán)初步形成

  在“十一五”期間,我國(guó)電子專用設(shè)備領(lǐng)域的大企業(yè)集團(tuán)初步形成。以銷售收入計(jì),行業(yè)10強(qiáng)入圍的門檻從2006年的1.89億元增加到2009 年的3.13億元;行業(yè)十強(qiáng)2010年利稅總額將超過10億元;到2010年底,預(yù)計(jì)電子專用設(shè)備銷售收入超過10億元的企業(yè)有兩家。

  與此同時(shí),企業(yè)的自主研發(fā)進(jìn)程加快,以企業(yè)為主體的創(chuàng)新體系初步建立。“十一五”以來,行業(yè)內(nèi)主要企業(yè)通過吸收國(guó)內(nèi)外的高科技人才,加強(qiáng)與高校、科研單位的合作,在關(guān)鍵設(shè)備和開發(fā)中避開已有的國(guó)外專利,開發(fā)出一批技術(shù)含量高、性能穩(wěn)定、具有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的產(chǎn)品,初步建立起了以企業(yè)為主體的技術(shù)創(chuàng)新體系。

  在太陽(yáng)能光伏領(lǐng)域,具有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的晶體硅太陽(yáng)能電池生產(chǎn)線設(shè)備基本實(shí)現(xiàn)了產(chǎn)業(yè)化,并可承擔(dān)“交鑰匙”工程。不僅使該領(lǐng)域?qū)S迷O(shè)備產(chǎn)業(yè)快速增長(zhǎng),也大大推動(dòng)了我國(guó)光伏產(chǎn)業(yè)的發(fā)展。

  在集成電路芯片生產(chǎn)領(lǐng)域,關(guān)鍵技術(shù)取得突破。在國(guó)家863計(jì)劃和02專項(xiàng)的支持下,一批具有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的集成電路設(shè)備進(jìn)入了大生產(chǎn)線,并實(shí)現(xiàn)了產(chǎn)業(yè)化。其中包括:90/65納米介質(zhì)刻蝕機(jī)、100納米高密度等離子體刻蝕機(jī)、大角度離子注入機(jī)、8英寸立式擴(kuò)散爐、8英寸勻膠顯影設(shè)備、45納米 12英寸單片清洗設(shè)備和130納米級(jí)集成電路光掩模清洗設(shè)備。

  無鉛焊接設(shè)備產(chǎn)業(yè)化為低碳經(jīng)濟(jì)作出了貢獻(xiàn)。在“十一五”期間,經(jīng)過不斷創(chuàng)新,使得我國(guó)目前的無鉛焊接設(shè)備達(dá)到了國(guó)際先進(jìn)水平,成為我國(guó)SMT設(shè)備市場(chǎng)中最具競(jìng)爭(zhēng)力的產(chǎn)品。

  自主創(chuàng)新能力仍待增強(qiáng)

  從目前的情況看,我國(guó)電子專用設(shè)備產(chǎn)業(yè)仍存在一些問題。

  2009年我國(guó)電子專用設(shè)備產(chǎn)業(yè)銷售收入僅占我國(guó)電子信息產(chǎn)業(yè)總銷售收入的2%,這和我國(guó)電子信息產(chǎn)品生產(chǎn)大國(guó)的地位是不相稱的,特別是集成電路設(shè)備、平板顯示器設(shè)備、發(fā)光二極管設(shè)備和表面貼裝設(shè)備中的關(guān)鍵設(shè)備大部分仍然需要依賴進(jìn)口,這也將是我國(guó)走向電子強(qiáng)國(guó)的一大障礙。

  我國(guó)企業(yè)自主創(chuàng)新的能力薄弱,高端新設(shè)備開發(fā)難度大。目前電子專用設(shè)備的開發(fā)主要依靠消化吸收國(guó)外先進(jìn)的設(shè)備,避開國(guó)外的設(shè)備專利,這不僅增加了新設(shè)備開發(fā)的難度,而且也很難超過國(guó)外先進(jìn)設(shè)備的水平。

  我國(guó)成套生產(chǎn)線提供能力尚顯不足。在“十一五”期間,我國(guó)晶體硅太陽(yáng)能電池生產(chǎn)線設(shè)備除個(gè)別設(shè)備需要引進(jìn)外,大部分設(shè)備已經(jīng)實(shí)現(xiàn)國(guó)產(chǎn)化,并且可以承擔(dān)成套生產(chǎn)線的“交鑰匙”工程,使我國(guó)太陽(yáng)能電池設(shè)備在“十一五”期間得到了快速的發(fā)展。不過,集成電路、平板顯示器、發(fā)光二極管等生產(chǎn)線設(shè)備,雖然有些設(shè)備也進(jìn)入了生產(chǎn)線,但是大部分生產(chǎn)線設(shè)備還需依靠進(jìn)口,并且國(guó)產(chǎn)設(shè)備與進(jìn)口設(shè)備在生產(chǎn)工藝上的配合,也成為難點(diǎn)。因此,這些設(shè)備的推廣進(jìn)展較慢。

  國(guó)產(chǎn)設(shè)備有的性價(jià)比雖高,但與國(guó)外先進(jìn)設(shè)備相比,普遍存在可靠性較低的問題。在通常情況下,國(guó)產(chǎn)設(shè)備大的故障不多,但小的故障不少。提高設(shè)備可靠性是我國(guó)電子專用設(shè)備發(fā)展的當(dāng)務(wù)之急。

設(shè)備的開發(fā)與產(chǎn)品的制造工藝脫節(jié),影響了新產(chǎn)品產(chǎn)業(yè)化的進(jìn)程。當(dāng)前,很多新設(shè)備開發(fā)必須依靠用戶提供生產(chǎn)工藝來配合,而一般用戶不愿意為新開發(fā)的設(shè)備做這種試驗(yàn),或者會(huì)提出很嚴(yán)格的條件,使設(shè)備產(chǎn)業(yè)化的進(jìn)程緩慢。

  “十二五”思路

  ·“十二五”期間電子專用設(shè)備銷售收入年均增長(zhǎng)率將保持20%

  ·擴(kuò)大內(nèi)需是拉動(dòng)我國(guó)電子專用設(shè)備產(chǎn)業(yè)最有效的措施

  ·企業(yè)應(yīng)加大研發(fā)投入,加快高端人才培養(yǎng)和引進(jìn)

  國(guó)內(nèi)市占率力爭(zhēng)30%

  在“十二五”期間,電子專用設(shè)備產(chǎn)業(yè)應(yīng)著眼于優(yōu)化產(chǎn)業(yè)結(jié)構(gòu),著力加強(qiáng)自主創(chuàng)新,繼續(xù)擴(kuò)大國(guó)內(nèi)市場(chǎng)占有率,為我國(guó)電子信息產(chǎn)業(yè)的發(fā)展提供有力支撐,為實(shí)現(xiàn)電子強(qiáng)國(guó)目標(biāo)奠定堅(jiān)實(shí)的基礎(chǔ)。

  同時(shí),電子專用設(shè)備產(chǎn)業(yè)應(yīng)明確其發(fā)展思路。首先,要走市場(chǎng)化發(fā)展道路,推動(dòng)大企業(yè)的發(fā)展;其次,要廣泛吸引人才,加強(qiáng)以企業(yè)為主體的自主創(chuàng)新體系建設(shè);再次,要培育新的競(jìng)爭(zhēng)優(yōu)勢(shì)和新的增長(zhǎng)點(diǎn),不斷調(diào)整優(yōu)化產(chǎn)業(yè)結(jié)構(gòu);最后,還要推進(jìn)設(shè)備節(jié)能降耗,促進(jìn)電子產(chǎn)品的綠色制造。

  在“十二五”期間,電子專用設(shè)備產(chǎn)業(yè)銷售收入將保持年均20%的增長(zhǎng)速度,利稅也將保持同步增長(zhǎng)。就市場(chǎng)占有率而言,到“十二五”末,電子專用設(shè)備國(guó)內(nèi)市場(chǎng)占有率爭(zhēng)取達(dá)到30%左右。其中:太陽(yáng)能電池設(shè)備達(dá)到90%;片式元件設(shè)備、凈化設(shè)備、環(huán)境試驗(yàn)設(shè)備達(dá)到80%;LED設(shè)備、表面貼裝設(shè)備達(dá)到30%;集成電路設(shè)備、LCD設(shè)備爭(zhēng)取達(dá)到10%。在技術(shù)創(chuàng)新方面,到“十二五”末,以企業(yè)為主體的科技創(chuàng)新體系應(yīng)基本形成,爭(zhēng)取將電子專用設(shè)備產(chǎn)業(yè)與國(guó)際先進(jìn)水平的整體相對(duì)差距縮短到5年。其中:晶硅太陽(yáng)能電池設(shè)備將達(dá)到國(guó)際先進(jìn)水平;表面貼裝設(shè)備除自動(dòng)貼片機(jī)外,其他設(shè)備也將達(dá)到國(guó)際先進(jìn)水平;集成電路后封裝設(shè)備、LCD后工序設(shè)備、LED設(shè)備(除MOCVD外)、片式元件設(shè)備、凈化設(shè)備、環(huán)境試驗(yàn)設(shè)備將接近國(guó)際先進(jìn)水平。到“十二五”末,培育5家左右電子專用設(shè)備年銷售收入超過10億元并具有國(guó)際競(jìng)爭(zhēng)力的大企業(yè)。[!--empirenews.page--]

  65納米設(shè)備應(yīng)實(shí)現(xiàn)產(chǎn)業(yè)化

  針對(duì)不同的應(yīng)用領(lǐng)域,電子專用設(shè)備也應(yīng)有不同的發(fā)展重點(diǎn)。

  在集成電路領(lǐng)域,設(shè)備的發(fā)展重點(diǎn)應(yīng)包括:8英寸90納米集成電路可以交鑰匙的生產(chǎn)線設(shè)備,12英寸65納米集成電路關(guān)鍵設(shè)備的產(chǎn)業(yè)化,8英寸半導(dǎo)體級(jí)單晶生長(zhǎng)、切割、磨片、拋光設(shè)備產(chǎn)業(yè)化,12英寸半導(dǎo)體級(jí)單晶生長(zhǎng)設(shè)備。

  在太陽(yáng)能電池芯片生產(chǎn)領(lǐng)域,設(shè)備的發(fā)展重點(diǎn)應(yīng)包括:8~12英寸太陽(yáng)能級(jí)多晶硅、單晶硅的生長(zhǎng),切割、加工設(shè)備產(chǎn)業(yè)化,全自動(dòng)晶硅太陽(yáng)能電池片生產(chǎn)線設(shè)備,銅銦鎵硒薄膜太陽(yáng)能生產(chǎn)設(shè)備。

  在高亮度LED領(lǐng)域,設(shè)備的發(fā)展重點(diǎn)應(yīng)包括:芯片襯底單晶生長(zhǎng)、切割、磨片、拋光設(shè)備,芯片生產(chǎn)線設(shè)備和后封裝設(shè)備。

  在新型元件領(lǐng)域,設(shè)備的發(fā)展重點(diǎn)應(yīng)包括:高性能稀土永磁元件生產(chǎn)設(shè)備、高儲(chǔ)能鋰離子電池生產(chǎn)設(shè)備、金屬化超薄膜電力電容器生產(chǎn)設(shè)備、超小型片式元件生產(chǎn)設(shè)備和高密度印制電路板生產(chǎn)設(shè)備。

  在表面貼裝設(shè)備領(lǐng)域,則應(yīng)重點(diǎn)發(fā)展高精密鋼網(wǎng)自動(dòng)印刷機(jī),高速、多功能自動(dòng)貼片機(jī),無鉛再流焊機(jī)以及高精度光學(xué)檢測(cè)設(shè)備。

  在“十二五”期間,我國(guó)電子專用設(shè)備的市場(chǎng)主要在國(guó)內(nèi),因此擴(kuò)大內(nèi)需是拉動(dòng)我國(guó)電子專用設(shè)備產(chǎn)業(yè)最有效的措施。如:加快太陽(yáng)能電站建設(shè)的進(jìn)程,改變中國(guó)光伏業(yè)主要依賴國(guó)外市場(chǎng)的被動(dòng)局面,這將推動(dòng)中國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備的發(fā)展。

  企業(yè)應(yīng)加大研發(fā)投入,加快高端人才培養(yǎng)和引進(jìn),進(jìn)一步完善以企業(yè)為主體的創(chuàng)新體系,大力提高自主創(chuàng)新能力。同時(shí),要關(guān)注市場(chǎng)變化,加快調(diào)整產(chǎn)品結(jié)構(gòu)。

  設(shè)備制造企業(yè)要加快產(chǎn)品生產(chǎn)試驗(yàn)線和實(shí)驗(yàn)室的建設(shè),實(shí)現(xiàn)設(shè)備制造企業(yè)在提供設(shè)備的同時(shí)可以提供產(chǎn)品的先進(jìn)制造工藝。

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