每每提到半導體行業(yè)發(fā)展，免不了要說下中國最近兩年發(fā)展集成電路的決心之強、投資之大，國內(nèi)公司對人才也求賢若渴，不惜高薪挖人，但在關(guān)鍵技術(shù)上，我們落后歐美公司還是挺多的，特別是在半導體制造裝備上，先進的光刻機還被歐美封鎖，有錢也買不到。進入10nm工藝節(jié)點之后，EUV光刻機越來越重要，全球能產(chǎn)EUV光刻機的就是荷蘭ASML公司了，他們總共賣出18臺EUV光刻機，總價值超過20億歐元，折合每套系統(tǒng)售價超過1億歐元，可謂價值連城。
ASML公司的光刻機是半導體生產(chǎn)中至關(guān)重要的裝備
對于芯片制造，有種戲謔的說法是CPU原材料是沙子，憑什么賣這么貴——這當然是玩笑，沙子和晶圓都有二氧化硅成分，但完全是不同的東西，成本更不可比。之前我們也科普過CPU制造過程，完成整個過程需要很多工序，其中關(guān)鍵部分就是光刻，光刻工藝是這個制造環(huán)節(jié)是最為復雜的，成本最為高昂的，因為光刻模板、透鏡、光源共同決定了“印”在光刻膠上晶體管的尺寸大小。
目前的光刻工藝使用的是193nm的紫外光，隨著制造工藝的提升，紫外光光刻技術(shù)也將進入EUV極紫外光刻階段，但EUV工藝目前還不夠成熟，產(chǎn)能達不到大規(guī)模量產(chǎn)標準。
CPU制造過程中，光刻是非常關(guān)鍵的一步
光刻工藝需要光刻機，全球有能力生產(chǎn)光刻機的公司不多，日本尼康、佳能也有這方面的技術(shù)，但目前只能混跡低端市場，能玩轉(zhuǎn)高端市場、特別是EUV光刻機的只有荷蘭ASML公司了，這也是Intel、TSMC、三星等晶圓廠都在爭取的新一代生產(chǎn)裝備。
該公司日前發(fā)布了2016年財報，全年營收67.95億歐元，同比增長8%，毛利率44.8%，凈利潤14.7億歐元，同比增長6%。
2016年Q4季度新賣出6臺EUV光刻機，如此一來ASML公司售出的EUV光刻機總量就達到了18臺，總價值超過20億歐元，算下來平均每臺設(shè)備超過1億歐元，放在全球來看，單一設(shè)備能達到這個價格的也沒幾個。
根據(jù)ASML公司所說，2017年他們預計交付12套EUV光刻機，芯片廠商大規(guī)模量產(chǎn)EUV光刻工藝預計會在2018年底到2019年初，也就是在7nm節(jié)點及之后才會量產(chǎn)EUV工藝。
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