[導(dǎo)讀]為幫助 IC 生產(chǎn)商實(shí)現(xiàn)更高的 300 毫米晶片成品率,KLA-Tencor(NASDAQ:KLAC)發(fā)布其最新的 VisEdge CV 300 邊緣檢測系統(tǒng)。VisEdge CV 300 采用了 KLA-Tencor 從并購 Candela Instruments 中獲得的成熟的光學(xué)表面分析
為幫助 IC 生產(chǎn)商實(shí)現(xiàn)更高的 300 毫米晶片成品率,KLA-Tencor(NASDAQ:KLAC)發(fā)布其最新的 VisEdge CV 300 邊緣檢測系統(tǒng)。VisEdge CV 300 采用了 KLA-Tencor 從并購 Candela Instruments 中獲得的成熟的光學(xué)表面分析儀 (OSA) 技術(shù),成為半導(dǎo)體行業(yè)內(nèi)第一套能全面滿足生產(chǎn)環(huán)境中晶片邊緣檢測所需的解決方案。許多先進(jìn) IC 生產(chǎn)商在晶片邊緣所面臨的成品率損失,要比成品率最好的區(qū)域平均高出 10% 到 50%,因此,采用包含先進(jìn)邊緣檢測的綜合性檢測策略已經(jīng)顯得至關(guān)重要。該工具構(gòu)建在高度可擴(kuò)展的平臺(tái)之上,整合了獨(dú)有的光學(xué)設(shè)計(jì)技術(shù)和先進(jìn)的缺陷分類功能,可幫助 IC 生產(chǎn)商克服現(xiàn)有邊緣檢測技術(shù)的局限,并提供更廣泛的捕獲能力以及更優(yōu)秀的邊緣缺陷識(shí)別能力,進(jìn)而提高晶片成品率。VisEdge 采用 OSA 技術(shù)為核心,具有可提供全面的晶片邊緣掃描,以及對(duì)宏觀和微觀缺陷進(jìn)行高靈敏捕獲的獨(dú)特優(yōu)點(diǎn)。與傳統(tǒng)邊緣檢測系統(tǒng)不同,CV 300 采用了并發(fā)多通道信號(hào)采集技術(shù),整合了四種檢測方法(橢偏測量法、反射計(jì)法、相移法和光束偏移法),可在捕獲導(dǎo)致微粒、污點(diǎn)和薄膜剝離等各類問題的缺陷根源中獲得更高的精確度和純度,并且無需進(jìn)行重復(fù)掃描。它采用先進(jìn)的基于規(guī)則的缺陷分類軟件,提供穩(wěn)定的信號(hào)增強(qiáng)和智能過濾程序以消除邊緣的背景噪聲(這一問題因晶片邊緣的惡劣拓?fù)浣Y(jié)構(gòu)而更加惡化,并影響到其它檢測技術(shù)的檢測能力),從而突出顯示所關(guān)注的缺陷,并能加快缺陷類型的識(shí)別工作。KLA-Tencor 的 OSA 檢測技術(shù)已經(jīng)過生產(chǎn)驗(yàn)證并滿足先進(jìn)檢測應(yīng)用要求,目前在全球范圍內(nèi)已安裝 300 多套,同時(shí)它還具備高度的擴(kuò)展性,可以滿足未來的檢測需求。在過去,晶片邊緣的缺陷在形態(tài)上主要以碎片或裂痕等方式存在。隨著半導(dǎo)體行業(yè)向 300毫米生產(chǎn)和亞 90 納米設(shè)計(jì)準(zhǔn)則的過渡,由不斷增長的器件和集成復(fù)雜性而導(dǎo)致的工藝集成困難也誘發(fā)了大量新的邊緣相關(guān)缺陷。例如,來自化學(xué)機(jī)械平面工藝 (CMP) 或蝕刻工藝的殘留,可導(dǎo)致薄膜層間粘性不足或存在應(yīng)力作用,因此而產(chǎn)生氣泡或剝落缺陷。然后,這些缺陷可能在后續(xù)工藝中轉(zhuǎn)移到圖形區(qū)域,并引發(fā)顯著的成品率損失,此外,它們還可能轉(zhuǎn)移到工藝設(shè)備上,導(dǎo)致較長的停機(jī)時(shí)間。目前在先進(jìn)晶片處理工藝(例如沉浸光刻)中采用了濕化學(xué)品,可導(dǎo)致這一問題的復(fù)雜化?!霸诟晒饪谭ㄖ校吘壍墓に嚳刂埔训玫搅己玫恼J(rèn)識(shí)。而在沉浸光刻中則并非如此,由于晶片邊緣臨時(shí)地與來自沉浸罩中的水相接觸,引起微粒在晶片邊緣區(qū)域和掃描儀之間來回移動(dòng),”歐洲領(lǐng)先的獨(dú)立納米電子和納米技術(shù)研究中心,IMEC 的光刻主管 Kurt Ronse 指出?!耙獙?shí)現(xiàn)沉浸光刻工藝的開發(fā)和成熟,必須能夠檢測包括其頂部、側(cè)面和底部的整個(gè)晶片邊緣,而不僅僅是邊緣的平整頂部。但是,直到現(xiàn)在為止,仍然缺少一種全面和穩(wěn)定的邊緣檢測方案,這使人們很難檢測和控制晶片邊緣非平整區(qū)域上的缺陷。我們期望能與 KLA-Tencor 合作以滿足這一重要需求?!薄拔覀兣c客戶緊密合作以確定成品率改進(jìn)中的難題,很快我們就發(fā)現(xiàn)晶片邊緣的成品率問題非常嚴(yán)重,而且,由于缺少足夠的檢測方案,這一問題還在不斷惡化,”KLA-Tencor 成長與新興市場事業(yè)部副總裁兼總經(jīng)理 Jeff Donnelly 指出。“為滿足這一重要需求,我們開發(fā)出了 VisEdge CV 300。現(xiàn)在,這一領(lǐng)先的邊緣檢測系統(tǒng)已在多家客戶的生產(chǎn)現(xiàn)場完成了 Beta 評(píng)估,并展示出其優(yōu)異的缺陷源檢測和分類能力。我們相信,它將在幫助客戶成功實(shí)現(xiàn)新一代工藝的生產(chǎn)中發(fā)揮重要的作用?!盞LA-Tencor 將于 2007 年的第一季度開始交付 VisEdge CV 300。
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華為
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北京2024年8月28日 /美通社/ -- 越來越多用戶希望企業(yè)業(yè)務(wù)能7×24不間斷運(yùn)行,同時(shí)企業(yè)卻面臨越來越多業(yè)務(wù)中斷的風(fēng)險(xiǎn),如企業(yè)系統(tǒng)復(fù)雜性的增加,頻繁的功能更新和發(fā)布等。如何確保業(yè)務(wù)連續(xù)性,提升韌性,成...
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8月30日消息,據(jù)媒體報(bào)道,騰訊和網(wǎng)易近期正在縮減他們對(duì)日本游戲市場的投資。
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12nm
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半導(dǎo)體
8月28日消息,在2024中國國際大數(shù)據(jù)產(chǎn)業(yè)博覽會(huì)上,華為常務(wù)董事、華為云CEO張平安發(fā)表演講稱,數(shù)字世界的話語權(quán)最終是由生態(tài)的繁榮決定的。
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華為
12nm
手機(jī)
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通信
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電信運(yùn)營商
數(shù)字經(jīng)濟(jì)
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VI
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BSP
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信息技術(shù)
山海路引?嵐悅新程 三亞2024年8月27日 /美通社/ --?近日,海南地區(qū)六家凱悅系酒店與中國高端新能源車企嵐圖汽車(VOYAH)正式達(dá)成戰(zhàn)略合作協(xié)議。這一合作標(biāo)志著兩大品牌在高端出行體驗(yàn)和環(huán)保理念上的深度融合,將...
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MIDDOT
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LAN
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華為
12nm
EDA
半導(dǎo)體
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BSP
NI
SE
TRACE
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COM
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BSP
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CIS
IO
SI
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移遠(yuǎn)通信
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8月26日消息,華為公司最近正式啟動(dòng)了“華為AI百校計(jì)劃”,向國內(nèi)高校提供基于昇騰云服務(wù)的AI計(jì)算資源。
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華為
12nm
EDA
半導(dǎo)體