三星5nm工藝有望2020年量產(chǎn):邏輯效率比7nm提高25%
根據(jù)外媒的報道,三星晶圓廠已經(jīng)認證了Cadence和Synopsys的全流程工具,該工具采用了極紫外光刻(EUV)的5LPE工藝技術(shù)。
三星晶圓廠使用Arm Cortex-A53和Arm Cortex-A57內(nèi)核認證了用于5LPE技術(shù)的Synopsys融合設(shè)計平臺以及Cadence全流程數(shù)字工具。該認證意味著這些工具滿足三星晶圓廠要求。
三星的5LPE技術(shù)依賴于具有新標準單元架構(gòu)的FinFET晶體管,并使用DUV和EUV步進掃描系統(tǒng)。與7LPP相比,新技術(shù)的“邏輯效率”提高了25%,芯片開發(fā)人員可將芯片設(shè)計的功耗降低20%或?qū)⑿阅芴岣?0%。
由三星認證的Candence和Synopsys的工具集包括編譯器、驗證器、電源電路優(yōu)化器以及EUV專用工具。
由于三星的5LPE比其7LPP工藝使用更多的EUV層,因此預(yù)計它將用于三星華城的EUV工廠。該生產(chǎn)線將耗資6萬億韓元(46.15億美元),預(yù)計將于2019年完工,并于2020年開始大批量生產(chǎn)。