上海微電子裝備有限公司成立于2002年，公司主要致力于大規(guī)模工業(yè)生產(chǎn)的投影光刻機(jī)研發(fā)、生產(chǎn)、銷售與服務(wù)，可廣泛應(yīng)用于IC制造與先進(jìn)封裝、MEMS、3D-TSV、OLED-TFT、LED、Power Devices等制造領(lǐng)域。這是IC制造領(lǐng)域的源頭所在， 屬于絕對(duì)的高端制造業(yè)，這在某種程度上代表了IC產(chǎn)業(yè)的發(fā)展水平。近日，上海微電子參加了第84屆中國(guó)電子展，展示了光刻機(jī)等產(chǎn)品。

上海微電子展臺(tái)

上海微電子展臺(tái)工程師介紹說，半導(dǎo)體照明產(chǎn)業(yè)屬于新興行業(yè)，在高亮LED發(fā)展起來之后應(yīng)用領(lǐng)域大大擴(kuò)展。SMEE專門推出面向LED PSS制造和電極制造的SSB300系列步進(jìn)投影光刻機(jī)，具有高分辨率和焦深方面的明顯優(yōu)勢(shì)，憑借性能優(yōu)勢(shì)及長(zhǎng)期運(yùn)營(yíng)成本優(yōu)勢(shì)，我們預(yù)期SSB300未來能夠替代目前LED芯片制造中的二手光刻機(jī)，幫助客戶在提高LED芯片光效以及降低生產(chǎn)成本。目前，該款產(chǎn)品的市場(chǎng)占有率為20%，至2016年有望提升至50%。

300系列光刻機(jī)面向亞微米2-6英寸晶圓的光刻市場(chǎng)需求，支持亞微米節(jié)點(diǎn)條件下的各種半導(dǎo)體光刻制程，特別包括LED圖形化藍(lán)寶石襯底生產(chǎn)工藝、LED芯片電極曝光、MEMS和Power Devices生產(chǎn)工藝。

其中，SSB300/10A步進(jìn)投影光刻機(jī)適用于2-6英寸基底LED的PSS和電極的光刻工藝。該設(shè)備具有低使用成本、高曝光均勻性、大焦深、高產(chǎn)能等特點(diǎn)，可滿足LED生產(chǎn)線的各種使用要求。

SSB300/10M 步進(jìn)投影光刻機(jī)用于2-6英寸基底MEMS和Power Devices的光刻，該設(shè)備具有低使用成本、高曝光均勻性、大焦深、高產(chǎn)能等特點(diǎn)，可滿足科研與生產(chǎn)的多種光刻需求。

記者了解到，光刻機(jī)研發(fā)最大的挑戰(zhàn)是其精密性和復(fù)雜性。舉例來說，SMEE光刻機(jī)內(nèi)部某些結(jié)構(gòu)裝配誤差要小于10微米，測(cè)量及定位精度達(dá)到0.1微米，這足以可見其精密程度。

上海微電子展臺(tái)工程師表示，專利對(duì)于上海微電子這樣的高科技IC設(shè)備制造企業(yè)非常重要。上海微電子擁有涉及光刻設(shè)備整機(jī)、光刻設(shè)備部件、光刻工藝、光刻材料、半導(dǎo)體器件等多技術(shù)領(lǐng)域的專利，申請(qǐng)基本覆蓋了SMEE產(chǎn)品的主要銷售地域。上海微電子的光刻機(jī)產(chǎn)品擁有多種軟硬件模塊，還可以根據(jù)客戶需求進(jìn)行定制化生產(chǎn)。