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[導讀]憑借高壓、高溫和高頻的三大特性,SiC(碳化硅)材料自問世以來就受到了廣泛的關(guān)注,特別是在電源、太陽能光伏和工業(yè)市場。從最早商用的SiC肖特基二極管,到近幾年出現(xiàn)的SiC金氧半場效晶體管(MOSFET)、結(jié)晶性場效應(yīng)

憑借高壓、高溫和高頻的三大特性,SiC(碳化硅)材料自問世以來就受到了廣泛的關(guān)注,特別是在電源、太陽能光伏和工業(yè)市場。

從最早商用的SiC肖特基二極管,到近幾年出現(xiàn)的SiC金氧半場效晶體管(MOSFET)、結(jié)晶性場效應(yīng)晶體管(JFET)和雙極型晶體管(BJT),隨著產(chǎn)品性能的逐步提升和價格的顯著下降,SiC器件正逐步取代傳統(tǒng)的FRD和IGBT等產(chǎn)品。據(jù)IHS IMS Research預測,到2022年SiC MOSFET銷售額預計將達到4億美元,超越肖特基二極管成為最熱賣產(chǎn)品。

2014年SiC功率器件的市場規(guī)模僅為1.2億美元。前景雖然樂觀,但實現(xiàn)兩位數(shù)的年增長率絕非易事。ROHM半導體(深圳)有限公司 分立元器件部 高級經(jīng)理 水原德健表示,相較硅功率器件的100億美元市場,SiC的市場規(guī)模還很有限,當然也意味著巨大的上升空間。作為最早開發(fā)SiC的廠商之一,ROHM已在SiC市場耕耘十余年,縱觀SiC的商用歷程,材料的創(chuàng)新性是SiC進入功率市場的入場券,但要贏得更多的市場份額,技術(shù)的不斷創(chuàng)新才是關(guān)鍵。

近日,ROHM開始量產(chǎn)采用創(chuàng)新的雙溝槽的SiC-MOSFET,器件導通電阻顯著降低,有助于工業(yè)設(shè)備等大功率設(shè)備的小型化與低功耗化。

據(jù)水原德健介紹,目前,市場上主流的SiC-MOSFET以平面結(jié)構(gòu)為主,ROHM的上一代SiC-MOSFET也是采用平面結(jié)構(gòu)。新產(chǎn)品與現(xiàn)有的平面型SiC-MOSFET相比,同一芯片尺寸的導通電阻可降低50%,同時還提高了開關(guān)性能(輸入電容降低約35%),這將大幅降低太陽能發(fā)電用功率調(diào)節(jié)器和工業(yè)設(shè)備用電源、工業(yè)用逆變器等所有相關(guān)設(shè)備的功率損耗。

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圖: 平面結(jié)構(gòu)與溝槽結(jié)構(gòu)的對比(※圖片來源:ROHM Co., Ltd.)

將柵極設(shè)計為溝槽結(jié)構(gòu),可以有效提高芯片cell密度,從而降低導通損耗,提升開關(guān)性能。但是,一般的單溝槽設(shè)計在門極溝槽底部電場集中,易被破壞,導致可靠性降低,難以量產(chǎn)。ROHM創(chuàng)新的雙溝槽結(jié)構(gòu)則有效緩和門極溝槽部分產(chǎn)生的電場的結(jié)構(gòu),可以確保器件的長期可靠性,ROHM現(xiàn)實現(xiàn)了采用溝槽結(jié)構(gòu)的SiC-MOSFET的量產(chǎn)。

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圖:單溝槽結(jié)構(gòu)與ROHM雙溝槽結(jié)構(gòu)的對比(※圖片來源:ROHM Co., Ltd.)

如下圖所示,首個量產(chǎn)的采用溝槽結(jié)構(gòu)的SiC-MOSFET的BSM180D12P3C007,與IGBT模塊相比,開關(guān)損耗降低約77%,與使用ROHM第2代平面結(jié)構(gòu)的SiC-MOSFET相比,開關(guān)損耗降低約42%。

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圖:SiC-MOSFET大幅降低了開關(guān)損耗(※圖片來源:ROHM Co., Ltd.)

ROHM能夠提出創(chuàng)新設(shè)計解決SiC溝槽結(jié)構(gòu)的技術(shù)難題并非偶然。據(jù)了解,ROHM早在2002年6月就開始了SiC-MOSFET的基礎(chǔ)實驗,在2010年率先開始量產(chǎn)SiC-MOSFET,在2013年率先量產(chǎn)1200V全SiC功率模塊,始終走在SiC材料技術(shù)創(chuàng)新的前沿,不斷突破技術(shù)瓶頸。值得一提的是,2009年SiC晶圓廠商SiCrystal加盟ROHM,從而確立了從德國生產(chǎn)SiC PCB板,日本福岡生產(chǎn)SiC分立器件,到日本京都ROHM總部生產(chǎn)SiC模塊的一條龍生產(chǎn)體制。這一獨特的優(yōu)勢,保證了ROHM SiC產(chǎn)品的可靠供貨,又使得ROHM在SiC從材料、工藝到設(shè)計各個環(huán)節(jié)有更多的創(chuàng)新機會以實現(xiàn)技術(shù)突破。據(jù)水原德健透露ROHM下一步的開發(fā)重點是將SiC-MOSFET每個溝槽距離進一步變小、器件更精密,尺寸更小。

據(jù)Yole Développement預測,2015年基于SiC的功率模塊市場規(guī)模將超過1億美元,2020年將達到8億美元,主要取決于汽車行業(yè)是否采用SiC技術(shù)。據(jù)水原德健介紹,汽車行業(yè)目前歐洲和日本廠商都有采用SiC器件,熱門的充電樁領(lǐng)域,中國的一家大廠商也在使用ROHM的產(chǎn)品。

目前全球有約30家半導體廠商具有SiC器件的設(shè)計、制造和銷售能力,雖然研發(fā)進度各不相同,但他們幾乎同樣面臨著成本、封裝和貨源這些重要挑戰(zhàn)。我們期待更多公司加入創(chuàng)新的行列,共同推動SiC市場的增長,使得太陽能發(fā)電和工業(yè)電源等設(shè)備的能耗、尺寸進一步降低。
 

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