光刻機是生產(chǎn)大規(guī)模集成電路的核心設備，是制造和維護光學和電子工業(yè)的基礎。光刻機技術目前是世界上最尖端的技術之一，只有少量國家掌握，所以光刻機的價格是非常昂貴的，世界上頂級光刻機就是荷蘭生產(chǎn)組裝的光刻機，一臺高端的光刻機甚至可以賣到6億元左右(目前全球最貴的EUV光刻機單臺售價已經(jīng)超過6.3億元)，即便賣這么貴還供不應求，很多訂單都需要排隊生產(chǎn)，甚至有部分國家給再多的錢也買不到。

現(xiàn)在世界上最先進的光刻機是荷蘭的ASML，其次就是日本的NIKON和日本的CANON，這三個品牌是世界上最好的了，荷蘭的最好，因為荷蘭的是各國高科技的合成產(chǎn)品，最主要的光源和鏡頭來自德國，荷蘭的光刻機90%的零配件是全世界采購，一臺光刻機的配件超過五萬的零件，90%的配件來自全世界，也就是說約四萬五千個零件來自世界各地。

目前在全球45納米以下高端光刻機市場當中，荷蘭ASML市場占有率達到80%以上，而且目前ASML是全球唯一能夠達到7納米精度光刻機的提供商，所以ASML才是全球芯片業(yè)真正的超級霸主一點都不過分。正因為得益于技術領先，目前ASML的市場份額也是很大的，目前全球知名芯片廠商包括英特爾、三星、臺積電、SK海力士、聯(lián)電、格芯、中芯國際、華虹宏力、華力微等等全球一線公司都是ASML的客戶。

2020年10月，三星太子李在镕專門去了一趟荷蘭，目的非常明確：跟阿斯麥高層見面，敦促對方趕快交付三星訂購的9臺EUV光刻機，好讓三星追趕臺積電。三個月后，李在镕被起訴“親信門”賄賂罪，當庭入獄。李在镕入獄前還魂牽夢繞的EUV光刻機，是制造半導體的關鍵設備。一般來說，EUV光刻機占整條半導體產(chǎn)線設備投資的25%，能夠用光“雕刻”出更先進的芯片。臺積電制程冠絕全球，離不開它擁有全球數(shù)量最多、最先進的EUV光刻機。

放眼全世界，只有阿斯麥能提供光刻機。以至于阿斯麥曾說：“如果我們交不出光刻機，摩爾定律就會停止?！辈贿^，在追逐臺積電這件事上最積極和激進的，還不是三星，當屬昔日霸主英特爾。英特爾新CEO基辛格上任以來，宣布將在美國、歐洲投資超過1000億美金興建晶圓代工廠，又收購以色列高塔半導體。今年1月，英特爾甚至截胡臺積電，成功搶購第一臺阿斯麥最新NA 0.55光刻機。更重量級的消息，是英特爾將開放授權x86架構，搶奪采取ARM架構的臺積電客戶。

過去一年以來，英特爾動作頻頻，就是要把臺積電挑下馬，重奪半導體制造霸主地位。磨刀霍霍的英特爾這回打得動臺積電嗎?霸主的隕落,回答打不打得過，首先得知道英特爾是怎么從山峰掉到山腰的。

2014年，英特爾如日中天，生產(chǎn)出當時世界最先進的14nm制程芯片。隨著晶圓代工行業(yè)利潤越來越高，英特爾開始加大晶圓代工業(yè)務的投入，在各大場合自詡晶體密度世界第一[1]。但沒風光多久，英特爾就被臺積電+AMD聯(lián)盟趕超。英特爾衰落的一切根源，就在于其堅持多年的IDM模式。所謂IDM，是指半導體生產(chǎn)的三大核心環(huán)節(jié)：設計、制造和封測，全產(chǎn)業(yè)鏈自己一手包辦的模式。這種模式優(yōu)勢是生產(chǎn)能力強，能夠全方位執(zhí)行自身戰(zhàn)略，劣勢是企業(yè)生產(chǎn)戰(zhàn)線長，投資成本大。

據(jù)報道，英特爾宣布向荷蘭光刻機制造商ASML預訂了一臺仍在設計中的頂級EUV光刻機，為業(yè)界首家。這臺光刻機型號為High-NA量產(chǎn)型EUV光刻機EXE:5200，是業(yè)界最強的光刻機，此刻尚未面世。

據(jù)悉，臺積電此前已經(jīng)向ASML采購High-NA研發(fā)型EUV光刻機EXE: 5000，預計在今年內(nèi)會跟進下單High-NA量產(chǎn)型EUV光刻機。

此前，英特爾確定自己是ASML的High-NA研發(fā)型EUV光刻機EXE: 5000的第一個買家。

據(jù)ASML透露，High-NA研發(fā)型EUV光刻機EXE: 5000將在2024年前出貨，在手訂單已達5臺。量產(chǎn)型EUV光刻機EXE: 5200將在2024年推出，支持客戶的后續(xù)量產(chǎn)計劃。這款光刻機瞄準了2025年后晶圓制造的最新工藝節(jié)點，例如2nm工藝。

英特爾期望能在晶圓制造領域超過龍頭臺積電。與此同時，英特爾還大量采用臺積電的晶圓代工服務，預期未來幾年會成為臺積電的大客戶之一。

近些年來，光刻機已經(jīng)成為了限制國內(nèi)芯片技術發(fā)展的重要因素之一，而如今中國國產(chǎn)光刻機成功了，上海造出首臺2.5D/3D先進封裝光刻機，打破了阿斯麥公司在這一領域的壟斷，將有效緩解國內(nèi)芯片較為缺乏的局面，這是否意味著華為的春天來了?這臺光刻機的面試也引發(fā)了西方的焦慮，畢竟在中國打破其對市場的壟斷之后，西方國家將再也不能憑技術優(yōu)勢高價出售光刻機，圈個有用，光刻機是制造芯片的核心裝備，使用類似照片沖印的技術來將電路印到硅片上。

對于一個國家來說，芯片是極其重要的，工業(yè)產(chǎn)品很多電子設備當中都會用到芯片，例如幾乎每個人都有的手機或者是電腦，而芯片的性能直接關系到這臺電子設備的運算能力能達到什么水平，因此擁有技術水平較高的光刻機對于中國的芯片產(chǎn)業(yè)來說非常重要，而國內(nèi)企業(yè)也一直在試圖攻破這一領域的技術壁壘，但毫不夸張地說，光刻機的相關技術研發(fā)難度絲毫不比先進的噴氣式發(fā)動機更低，而科技發(fā)展的趨勢促使中國將光刻機的研發(fā)作為科技發(fā)展的重中之重，因此國家在這一領域投入了大量的人力物力。

國家在這一領域的投入終于有了重要的產(chǎn)出，近期國內(nèi)第1臺2.5D/3D封裝光刻機即將交付，該機能夠用于高密度易構成領域，具有高分辨率、高套刻精度和超大曝光視場等特點，能夠保證800納米分辨率光刻工藝需求，極限甚至能夠達到600納米。

而對于中國在光刻機領域取得的成就，壟斷地位的阿斯麥公司也做出了讓步，不僅多次示好國內(nèi)市場甚至開始向中國降價銷售DUV光刻機，但從本質(zhì)上來說，這種設備的技術水平仍然不及最先進的EUV光刻機，本質(zhì)上是該企業(yè)害怕自己的壟斷地位被中國所撼動，放出的緩兵之計，因此中國必然不可能被其所迷惑而放緩自己的光刻機研發(fā)步伐，畢竟即使中芯國際與阿斯麥達成了78億的訂單，也沒有讓該公司愿意對華出售7納米級別光刻機，可見最為先進的技術成果從來都是買不來的，只有堅持自主研發(fā)的路線，才能讓中國在芯片技術上不再落后于西方國家。

隨著國內(nèi)科研人員的持續(xù)研發(fā)，中國將研發(fā)出除封裝光刻機之外的先進設備并且其芯片制程將越來越小，最終達到和外企相同的7納米，甚至更小的程度，讓國內(nèi)企業(yè)在芯片領域達到世界最強。