鈣鈦礦發(fā)光二極管(PeLED)壽命優(yōu)化:界面鈍化與封裝防潮關(guān)鍵技術(shù)
引言
鈣鈦礦發(fā)光二極管(Perovskite Light - Emitting Diodes,PeLED)作為一種新興的顯示與照明技術(shù),憑借其高發(fā)光效率、低成本、可溶液加工等諸多優(yōu)勢(shì),在近年來引起了科研界和產(chǎn)業(yè)界的廣泛關(guān)注。然而,PeLED的壽命問題一直是制約其大規(guī)模商業(yè)化應(yīng)用的關(guān)鍵瓶頸。界面缺陷和非理想界面接觸引發(fā)的非輻射復(fù)合,以及外界水汽入侵導(dǎo)致的材料降解,是影響PeLED壽命的兩大主要因素。因此,界面鈍化與封裝防潮技術(shù)成為優(yōu)化PeLED壽命的關(guān)鍵所在。
界面鈍化技術(shù):抑制非輻射復(fù)合
界面缺陷的來源與影響
在PeLED中,鈣鈦礦層與電子傳輸層(ETL)、空穴傳輸層(HTL)之間的界面處存在大量的缺陷態(tài)。這些缺陷可能源于制備過程中的雜質(zhì)、晶格失配、表面懸掛鍵等。非輻射復(fù)合中心會(huì)在這些缺陷處形成,當(dāng)電子和空穴在界面處相遇時(shí),它們可能通過非輻射復(fù)合的方式釋放能量,而不是以光的形式發(fā)射出來。這不僅降低了PeLED的發(fā)光效率,還會(huì)產(chǎn)生熱量,加速器件的老化,從而嚴(yán)重影響器件的壽命。
界面鈍化策略
有機(jī)分子鈍化:一些有機(jī)小分子,如硫醇類、胺類等,可以通過化學(xué)鍵合的方式與界面處的缺陷位點(diǎn)結(jié)合,填補(bǔ)懸掛鍵,減少缺陷態(tài)密度。例如,苯乙基碘化銨(PEAI)常被用于鈣鈦礦表面的鈍化,它能夠與鈣鈦礦表面的鉛離子形成配位鍵,有效降低表面缺陷,提高器件的發(fā)光效率和壽命。
無機(jī)納米粒子鈍化:無機(jī)納米粒子如氧化鋁(Al?O?)、氧化硅(SiO?)等具有較大的比表面積和良好的化學(xué)穩(wěn)定性。它們可以通過物理吸附或化學(xué)沉積的方式覆蓋在界面處,阻擋電子和空穴與缺陷的接觸,減少非輻射復(fù)合。同時(shí),無機(jī)納米粒子還可以起到隔離層的作用,防止界面處的化學(xué)反應(yīng)。
聚合物鈍化:聚合物材料如聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚乙二醇(PEG)等具有良好的成膜性和柔韌性。它們可以在界面處形成一層均勻的薄膜,填補(bǔ)界面間隙,改善界面接觸,減少界面處的漏電流和非輻射復(fù)合。此外,聚合物還可以起到緩沖層的作用,緩解界面處的應(yīng)力。
封裝防潮技術(shù):抵御水汽入侵
水汽對(duì)PeLED的危害
水汽是PeLED的“天敵”。鈣鈦礦材料對(duì)水汽非常敏感,水汽會(huì)與鈣鈦礦發(fā)生化學(xué)反應(yīng),導(dǎo)致鈣鈦礦的分解和降解。例如,水汽會(huì)使鈣鈦礦中的有機(jī)陽離子溶解,破壞鈣鈦礦的晶體結(jié)構(gòu),從而降低器件的發(fā)光性能和穩(wěn)定性。此外,水汽還會(huì)在器件內(nèi)部形成導(dǎo)電通道,增加漏電流,加速器件的老化。
封裝防潮方法
薄膜封裝:采用原子層沉積(ALD)、化學(xué)氣相沉積(CVD)等技術(shù),在PeLED表面沉積一層致密的無機(jī)薄膜,如氧化鋁、氮化硅等。這些無機(jī)薄膜具有良好的阻隔性能,能夠有效阻擋水汽的滲透。同時(shí),還可以結(jié)合有機(jī)薄膜,如聚對(duì)二甲苯(Parylene)等,形成無機(jī) - 有機(jī)復(fù)合薄膜封裝結(jié)構(gòu),進(jìn)一步提高封裝效果。
玻璃封裝:將PeLED芯片封裝在玻璃基板和蓋板之間,通過密封膠將四周密封。玻璃具有良好的化學(xué)穩(wěn)定性和阻隔性能,能夠?yàn)槠骷峁┮粋€(gè)相對(duì)干燥的環(huán)境。此外,還可以在玻璃封裝內(nèi)部填充干燥劑,吸收可能殘留的水汽。
柔性封裝:對(duì)于柔性PeLED器件,需要采用柔性封裝材料,如聚酰亞胺(PI)薄膜、水氧阻隔膜等。這些柔性封裝材料不僅要具備良好的阻隔性能,還要具有一定的柔韌性和可彎曲性,以滿足柔性器件的應(yīng)用需求。
結(jié)論與展望
界面鈍化與封裝防潮技術(shù)是優(yōu)化PeLED壽命的關(guān)鍵技術(shù)。通過界面鈍化可以有效減少界面缺陷,抑制非輻射復(fù)合,提高器件的發(fā)光效率和穩(wěn)定性;而封裝防潮則能夠抵御外界水汽的入侵,保護(hù)鈣鈦礦材料不被降解,延長器件的使用壽命。目前,雖然在這兩方面已經(jīng)取得了一定的研究進(jìn)展,但仍然存在一些挑戰(zhàn),如界面鈍化材料的長期穩(wěn)定性、封裝技術(shù)的成本和工藝復(fù)雜度等。未來,需要進(jìn)一步深入研究界面鈍化和封裝防潮的機(jī)理,開發(fā)更加高效、穩(wěn)定、低成本的鈍化材料和封裝技術(shù),推動(dòng)PeLED技術(shù)向商業(yè)化應(yīng)用邁進(jìn)。