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[導(dǎo)讀]生活中最常見(jiàn)的燈就是LED燈,但是很少有人知道LED燈需要LED驅(qū)動(dòng)器,今天來(lái)探討LED外延片的成長(zhǎng)工藝,早期在小積體電路時(shí)代,每一個(gè)6?的外延片上制作數(shù)以千計(jì)的芯片,現(xiàn)在次微米線寬的大型VLSI,每一個(gè)8?的外延片上也只能完成一兩百個(gè)大型芯片。外延片的制造雖動(dòng)?投資數(shù)百億,但卻是所有電子工業(yè)的基礎(chǔ)。

生活中最常見(jiàn)的燈就是LED燈,但是很少有人知道LED燈需要LED驅(qū)動(dòng)器,今天來(lái)探討LED外延片的成長(zhǎng)工藝,早期在小積體電路時(shí)代,每一個(gè)6?的外延片上制作數(shù)以千計(jì)的芯片,現(xiàn)在次微米線寬的大型VLSI,每一個(gè)8?的外延片上也只能完成一兩百個(gè)大型芯片。外延片的制造雖動(dòng)?投資數(shù)百億,但卻是所有電子工業(yè)的基礎(chǔ)。下面小編帶領(lǐng)大家來(lái)了解LED驅(qū)動(dòng)芯片的相關(guān)知識(shí)。

驅(qū)動(dòng)芯片

硅晶柱的長(zhǎng)成,首先需要將純度相當(dāng)高的硅礦放入熔爐中,并加入預(yù)先設(shè)定好的金屬物質(zhì),使產(chǎn)生出來(lái)的硅晶柱擁有要求的電性特質(zhì),接著需要將所有物質(zhì)融化后再長(zhǎng)成單晶的硅晶柱,以下將對(duì)所有晶柱長(zhǎng)成制程做介紹:

長(zhǎng)晶主要程式:

1、融化(MELtDown)

此過(guò)程是將置放于石英坩鍋內(nèi)的塊狀復(fù)晶硅加熱制高于攝氏1420度的融化溫度之上,此階段中最重要的參數(shù)為坩鍋的位置與熱量的供應(yīng),若使用較大的功率來(lái)融化復(fù)晶硅,石英坩鍋的壽命會(huì)降低,反之功率太低則融化的過(guò)程費(fèi)時(shí)太久,影響整體的產(chǎn)能。

2、頸部成長(zhǎng)(Neck Growth)

當(dāng)硅融漿的溫度穩(wěn)定之后,將方向的晶種漸漸注入液中,接著將晶種往上拉升,并使直徑縮小到一定(約6mm),維持此直徑并拉長(zhǎng)10-20cm,以消除晶種內(nèi)的排差(dislocation),此種零排差(dislocation-free)的控制主要為將排差局限在頸部的成長(zhǎng)。

3、晶冠成長(zhǎng)(Crown Growth)

長(zhǎng)完頸部后,慢慢地降低拉速與溫度,使頸部的直徑逐漸增加到所需的大小。

4、晶體成長(zhǎng)(Body Growth)

利用拉速與溫度變化的調(diào)整來(lái)遲維持固定的晶棒直徑,所以坩鍋必須不斷的上升來(lái)維持固定的液面高度,于是由坩鍋傳到晶棒及液面的輻射熱會(huì)逐漸增加,此輻射熱源將致使固業(yè)介面的溫度梯度逐漸變小,所以在晶棒成長(zhǎng)階段的拉速必須逐漸地降低,以避免晶棒扭曲的現(xiàn)象產(chǎn)生。

5、尾部成長(zhǎng)(Tail Growth)

當(dāng)晶體成長(zhǎng)到固定(需要)的長(zhǎng)度后,晶棒的直徑必須逐漸地縮小,直到與液面分開(kāi),此乃避免因熱應(yīng)力造成排差與滑移面現(xiàn)象。

切割:

晶棒長(zhǎng)成以后就可以把它切割成一片一片的,也就是外延片。芯片, 圓片,是半導(dǎo)體元件“芯片或“芯片的基材,從拉伸長(zhǎng)出的高純度硅元素晶柱 (Crystal Ingot)上,所切下之圓形薄片稱(chēng)為外延片(外延片)。

磊晶:

砷化?磊晶依制程的不同,可分為L(zhǎng)PE(液相磊晶)、MOCVD(有機(jī)金屬氣相磊晶)及MBE(分子束磊晶)。LPE的技術(shù)較低,主要用于一般的發(fā)光二極體,而MBE的技術(shù)層次較高,容易成長(zhǎng)極薄的磊晶,且純度高,平整性好,但量產(chǎn)能力低,磊晶成長(zhǎng)速度慢。MOCVD除了純度高,平整性好外,量產(chǎn)能力及磊晶成長(zhǎng)速度亦較MBE為快,所以現(xiàn)在大都以MOCVD來(lái)生產(chǎn)。

其過(guò)程首先是將GaAs襯底放入昂貴的有機(jī)化學(xué)汽相沉積爐(簡(jiǎn)MOCVD,又稱(chēng)外延爐),再通入III、II族金屬元素的烷基化合物(甲基或乙基化物)蒸氣與非金屬(V或VI族元素)的氫化物(或烷基物)氣體,在高溫下,發(fā)生熱解反應(yīng),生成III-V或II-VI族化合物沉積在襯底上,生長(zhǎng)出一層厚度僅幾微米(1毫米=1000微米)的化合物半導(dǎo)體外延層。長(zhǎng)有外延層的GaAs片也就是常稱(chēng)的外延片。外延片經(jīng)芯片加工后,通電就能發(fā)出?色很純的單色光,如紅色、黃色等。不同的材料、不同的生長(zhǎng)條件以及不同的外延層結(jié)構(gòu)都可以改變發(fā)光的?色和亮度。其實(shí),在幾微米厚的外延層中,真正發(fā)光的也僅是其中的幾百納米(1微米=1000納米)厚的量子阱結(jié)構(gòu)。以上就是LED驅(qū)動(dòng)芯片的相關(guān)技術(shù)知識(shí),如果要從事相關(guān)行業(yè),需要設(shè)計(jì)人員有雄厚的知識(shí)儲(chǔ)備,還需要積累大量的項(xiàng)目開(kāi)發(fā)經(jīng)驗(yàn)。

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