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[導(dǎo)讀]瑞士Eulitha AG強(qiáng)調(diào)“用EUV(extreme ultraviolet)光刻技術(shù)制造”的納米壓印用模具,在“nano tech 2010(國(guó)際納米科技綜合展,2月17~19日)”上展出。在2mm×0.5mm的轉(zhuǎn)印區(qū)內(nèi)形成了最小17nm的網(wǎng)點(diǎn)、最小半間距(h

瑞士Eulitha AG強(qiáng)調(diào)“用EUV(extreme ultraviolet)光刻技術(shù)制造”的納米壓印用模具,在“nano tech 2010(國(guó)際納米科技綜合展,2月17~19日)”上展出。在2mm×0.5mm的轉(zhuǎn)印區(qū)內(nèi)形成了最小17nm的網(wǎng)點(diǎn)、最小半間距(hp)35nm的線寬和線間距。

該公司稱采用了EUV光刻技術(shù),但細(xì)問之下,方知采用的是以同步加速器(同步式圓形加速器)生成的軟X射線的光刻技術(shù)。曝光使用的波長(zhǎng)為13.5nm,波長(zhǎng)確與EUV相同。使用了瑞士政府設(shè)置在蘇黎世郊外的同步加速器設(shè)備。

這一技術(shù)比電子束光刻可降低加工成本,該公司以1600美元的價(jià)格提供配置有4處形成hp 35nm圖案的2mm×0.5mm轉(zhuǎn)印區(qū)的標(biāo)準(zhǔn)模具。據(jù)稱,如果使用電子束光刻設(shè)備制造,其價(jià)格將為10倍以上。(記者:加藤 伸一)


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