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[導(dǎo)讀]應(yīng)用材料公司正在努力加快TSVs(through-siliconvias穿透硅互連)的廣泛應(yīng)用。TSVs是一項(xiàng)正在快速發(fā)展的新工藝,它將集成電路垂直堆疊,在更小的面積上大幅提升芯片性能并增加芯片功能。消費(fèi)者希望電子產(chǎn)品變得更快更

應(yīng)用材料公司正在努力加快TSVs(through-siliconvias穿透硅互連)的廣泛應(yīng)用。TSVs是一項(xiàng)正在快速發(fā)展的新工藝,它將集成電路垂直堆疊,在更小的面積上大幅提升芯片性能并增加芯片功能。消費(fèi)者希望電子產(chǎn)品變得更快更小,TSVs對于滿足這種需求至關(guān)重要,它能實(shí)現(xiàn)DDR4DRAM存儲器、未來通訊和移動因特網(wǎng)芯片等的應(yīng)用。TSVs的最大障礙就是成本,為此,應(yīng)用材料一方面在公司內(nèi)部不斷努力,另一方面加強(qiáng)和其他設(shè)備供應(yīng)商的合作,為客戶開發(fā)一個(gè)總合、高效的硅片工藝流程,幫助他們降低成本、減少風(fēng)險(xiǎn)并加快產(chǎn)品上市時(shí)間。

三維集成電路整合是一個(gè)新方法,芯片設(shè)計(jì)人員可以在更小的面積上提供更高的晶體管密度和更低的功耗,但不一定需要通過縮小技術(shù)節(jié)點(diǎn)來達(dá)到上述目的。通過修改傳統(tǒng)的硅片處理和封裝步驟,多層類似的或不同的二維器件被堆疊起來,并通過TSVs相互連接成為一個(gè)單獨(dú)器件。這樣,一個(gè)芯片集成了多項(xiàng)功能,但是避免了相關(guān)的成本、空間和性能問題。

TSV的實(shí)現(xiàn)有多種方式,應(yīng)用材料擁有通過生產(chǎn)驗(yàn)證的300mm系統(tǒng)和工藝,能夠應(yīng)用于大多數(shù)TSV制造步驟,包括掩膜、刻蝕、薄膜沉積和化學(xué)機(jī)械平坦化技術(shù)。例如,AppliedCenturaSilvia刻蝕系統(tǒng)就是專門為TSV應(yīng)用而設(shè)計(jì)的高性能低成本系統(tǒng)。為了加快主流應(yīng)用,我們正在和其他設(shè)備廠商加強(qiáng)合作,包括Semitool公司和一些硅片引線廠商,全面定義工藝流程中相互制約的因素,降低總體成本。

使用TSV的產(chǎn)品將具有更好的性能,因此會大幅提升產(chǎn)品價(jià)值,從而抵消增加的制造成本。EMC-3D協(xié)會所設(shè)定的目標(biāo)成本是每片硅片190美元,而應(yīng)用材料的目標(biāo)則是將其降低到150美元。

應(yīng)用材料公司集團(tuán)副總裁、硅系統(tǒng)事業(yè)部首席技術(shù)官HansStork表示:“TSV將是芯片設(shè)計(jì)的一次革命,它有很大的潛力將擴(kuò)展到更多復(fù)雜的整合存儲及邏輯應(yīng)用之中。我們和其他設(shè)備廠商的合作是一種創(chuàng)新的商業(yè)模式,這對整個(gè)產(chǎn)業(yè)有利,并能幫助我們的客戶解決問題。我們有能力在應(yīng)用材料公司的Maydan技術(shù)中心驗(yàn)證整個(gè)工藝流程,這獨(dú)一無二的優(yōu)勢使得我們可以幫助客戶降低成本、減少應(yīng)用TSV工藝的風(fēng)險(xiǎn)。通過我們的技術(shù)以及和主要供應(yīng)商的合作關(guān)系,我們有信心加速TSVs的主流制造應(yīng)用?!?BR>
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