對(duì)英特爾(Intel)愛(ài)爾蘭員工來(lái)說(shuō)，現(xiàn)在有一個(gè)好消息，就是他們可以早點(diǎn)回家。但壞消息是，他們能提早回家，是由于據(jù)傳該廠的進(jìn)度延宕。
《愛(ài)爾蘭時(shí)報(bào)》(Irish Times)近日?qǐng)?bào)導(dǎo)，在決定延遲推出其位在Leixlip的Fab 24廠的 P1272 14nm 制程后，英特爾日前決定讓派駐在美國(guó)進(jìn)行生產(chǎn)培訓(xùn)的600名愛(ài)爾蘭員工先調(diào)回家。

這些員工已針對(duì) 14nm 制程接受了培訓(xùn)。英特爾在今年稍早證實(shí)，其 Fab 24 將是繼美國(guó)奧勒岡州的D1X廠，以及美國(guó)亞利桑那州Fab 42廠后，首個(gè)加入14nm生產(chǎn)的海外生產(chǎn)據(jù)點(diǎn)。據(jù)傳英特爾花費(fèi)了超過(guò)10億美元來(lái)翻新Fab 24廠，以確保未來(lái)的產(chǎn)能。

據(jù)《泰晤士報(bào)》(The Times)報(bào)導(dǎo)，愛(ài)爾蘭14nm制程量產(chǎn)時(shí)間將延遲半年，到2013年底，主因在于需求放緩，而非技術(shù)問(wèn)題。然而，報(bào)導(dǎo)也指出，由于此一延遲，英特爾可能會(huì)重新考慮在愛(ài)爾蘭量產(chǎn)14nm制程的策略。

這對(duì)歐洲無(wú)異是雪上加霜，因?yàn)橛⑻貭柺钱?dāng)?shù)刈畲蟮乃饺斯荆瑔T工數(shù)達(dá)4,500多人。

歐盟對(duì)這家愿意投資愛(ài)爾蘭的領(lǐng)先晶片制造商一直抱持著鼓勵(lì)的態(tài)度。歐盟認(rèn)為，奈米電子學(xué)是實(shí)現(xiàn)未來(lái)技術(shù)的關(guān)鍵，他們不愿意看到這些技術(shù)離開(kāi)歐洲大陸，即使擁有這些技術(shù)公司都來(lái)自彼岸的美洲大陸，如英特爾和 Globalfoundries 。

談到Globalfoundries──英特爾的競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手之一時(shí)，有趣的一點(diǎn)在于，英特爾的14nm技術(shù)將是其第二個(gè)以FinFET技術(shù)為基礎(chǔ)的制程節(jié)點(diǎn)，而Globalfoundries的的 14XM 制程本質(zhì)上則是用于替代平面電晶體，自 20nm FinFET 制程改良而來(lái)。

這意味著直到2014年， Globalfoundries 的 14XM 制程將會(huì)成為首個(gè)不運(yùn)用微縮晶片面積作為節(jié)省成本方法的過(guò)渡型制程節(jié)點(diǎn)。對(duì)手機(jī)晶片公司而言，能降低晶片面積進(jìn)而降低功耗，是他們經(jīng)常用以推動(dòng)技術(shù)進(jìn)展的方式。

英特爾的 1272 則預(yù)計(jì)2013年底推出，它應(yīng)該會(huì)比之前的 P1270 22nm 制程更加微縮及降低功耗。但要在原子級(jí)實(shí)現(xiàn)微型化并不容易。盡管英特爾已經(jīng)表示，它并不需要超紫外光微影，而是可使用193nm光學(xué)微影技術(shù)，但這對(duì)成本和良率都可能帶來(lái)影響。

若英特爾能如期在2013年推出 P1272 ──無(wú)論是兩座或三座晶圓廠能量產(chǎn)，能確保這家晶片制造商的聲譽(yù)。

另一方面，若事實(shí)證明 P1272 14nm 有技術(shù)問(wèn)題需要解決，如以絕緣層上覆矽作為起始晶圓，那么，延遲到2014年將對(duì)英特爾作為全球領(lǐng)先晶片公司的聲譽(yù)造成嚴(yán)重打擊。

編譯： Joy Teng

(參考原文： London Calling: Intel's 14-nm process delay ，by Peter Clarke)