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[導(dǎo)讀]新思科技(Synopsys, Inc. )宣布,新思科技Custom Design Platform已經(jīng)成功通過全球領(lǐng)先的先進(jìn)半導(dǎo)體技術(shù)企業(yè)三星電子的認(rèn)證,可用于三星7nm LPP(低功耗+)工藝。

三星和新思科技推出7LPP定制設(shè)計(jì)參考流程

重點(diǎn):

·新思科技Custom Design Platform為三星7LPP工藝技術(shù)提供經(jīng)認(rèn)證的工具、PDK、仿真模型、運(yùn)行集(runsets)以及定制參考流程。

·新思科技Custom Compiler™版圖,HSPICE®仿真,F(xiàn)ineSim® SPICE仿真,CustomSim™FastSPICE仿真,StarRC™寄生參數(shù)提取和IC Validator物理signoff工具已通過三星7LPP設(shè)計(jì)認(rèn)證。

·使用新思科技工具的三星7LPP定制設(shè)計(jì)參考流程包括仿真、蒙特卡羅分析、視覺輔助版圖自動(dòng)化、寄生分析和電遷移相關(guān)教程。

新思科技(Synopsys, Inc. )宣布,新思科技Custom Design Platform已經(jīng)成功通過全球領(lǐng)先的先進(jìn)半導(dǎo)體技術(shù)企業(yè)三星電子的認(rèn)證,可用于三星7nm LPP(低功耗+)工藝。三星7LPP工藝是其首款使用極紫外(EUV)光刻的半導(dǎo)體工藝技術(shù),與10nm FinFET相比,可大大降低復(fù)雜性,并提供更高的良率和更快的周轉(zhuǎn)時(shí)間。新思科技定制設(shè)計(jì)工具已針對(duì)三星7LPP相關(guān)要求進(jìn)行更新。此外,三星還將提供面向新思科技的工藝設(shè)計(jì)套件(PDK)和定制設(shè)計(jì)參考流程。

新思科技 Custom Design Platform已通過三星7LPP工藝技術(shù)認(rèn)證。該平臺(tái)以Custom Compiler定制設(shè)計(jì)和版圖環(huán)境為核心,并包括HSPICE、FineSim SPICE和CustomSim FastSPICE電路仿真、StarRC寄生參數(shù)提取以及IC Validator物理驗(yàn)證。為了支持高效的7LPP定制設(shè)計(jì),新思科技和三星共同開發(fā)了參考流程,其中包含一組使用說明,描述7nm設(shè)計(jì)和版圖的關(guān)鍵要求。這些說明包括示例設(shè)計(jì)數(shù)據(jù)和執(zhí)行典型設(shè)計(jì)和版圖任務(wù)的步驟,涵蓋的主題包括電氣規(guī)則檢查、電路仿真、混合信號(hào)仿真、蒙特卡羅分析、版圖、寄生分析和電遷移。

為了通過三星認(rèn)證,新思科技對(duì)工具進(jìn)行了優(yōu)化,以滿足7nm設(shè)計(jì)的嚴(yán)苛要求,其中包括:

• 精確的FinFET器件建模與器件老化效應(yīng)

• 先進(jìn)的蒙特卡羅模擬功能,實(shí)現(xiàn)高效分析

• 用于模擬和RF設(shè)計(jì)的高性能瞬態(tài)噪聲仿真

• 高性能的版圖后仿真,實(shí)現(xiàn)寄生感知設(shè)計(jì)和仿真

• 用于器件電壓檢查的動(dòng)態(tài)電路ERC

• 高性能晶體管級(jí)EM/IR分析,最大限度地減少過度設(shè)計(jì)

• FinFET器件陣列的高效符號(hào)化編輯

• EUV支持

• 基于覆蓋的過孔電阻提取

三星營(yíng)銷團(tuán)隊(duì)副總裁Ryan Sanghyun Lee表示:“我們與新思科技的定制設(shè)計(jì)合作在過去兩年中有了很大發(fā)展。通過此次通力合作,我們?yōu)?LPP工藝增添了新思科技Custom Design Platform支持,包括基于新思科技工具的定制設(shè)計(jì)參考流程。”

新思科技產(chǎn)品營(yíng)銷副總裁Bijan Kiani表示:“我們一直與三星緊密合作,以簡(jiǎn)化使用FinFET工藝技術(shù)的定制設(shè)計(jì)。我們合作推出了認(rèn)證工具、參考流程、PDK、仿真模型和運(yùn)行集,幫助三星客戶能夠使用7LPP工藝實(shí)現(xiàn)可靠的定制設(shè)計(jì)。”

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