隨著Globalfoundries公司無限期退出7nm及以下工藝研發(fā)，全球有能力研發(fā)先進(jìn)工藝的只剩下英特爾、臺積電及三星，其中英特爾公司是過去幾十年中半導(dǎo)體工藝最強(qiáng)大的公司，但是現(xiàn)在他們的10nm工藝都延期到明年底，臺積電、三星的7nm已經(jīng)或者即將量產(chǎn)。英特爾在制程工藝上的延期不只是影響10nm及未來的7nm工藝，更重要的是英特爾使用EUV光刻工藝也面臨不確定性，分析稱2021年底英特爾都不太可能用上EUV工藝，而臺積電、三星明年的7nm改進(jìn)版工藝就會用上EUV工藝。

?？闯芫W(wǎng)的讀者應(yīng)該知道EUV光刻機(jī)對7nm及以下的工藝節(jié)點非常重要，目前全球唯一能生產(chǎn)EUV光刻機(jī)的就只有荷蘭ASML公司了，而EUV光刻機(jī)研發(fā)已經(jīng)有二十多年歷史了，現(xiàn)在的EUV光刻機(jī)雖然已經(jīng)量產(chǎn)出貨，但在產(chǎn)能還達(dá)不到要求，所以臺積電首先推出了不使用EUV光刻工藝的第一代7nm，預(yù)計明年的7nm+增強(qiáng)版工藝上才會使用EUV光刻工藝。

在EUV光刻機(jī)上，三星是最激進(jìn)的一家，直接在7nm工藝上首發(fā)EUV工藝，但這也導(dǎo)致三星的7nm工藝難度高，進(jìn)展比臺積電更慢，臺積電今年中就開始量產(chǎn)7nm芯片，三星的7nm EUV工藝預(yù)計要到明年初才能正式量產(chǎn)，而且客戶數(shù)量遠(yuǎn)低于臺積電的50多家。

GF公司原本也在第二代7nm工藝上使用EUV工藝，不過他們現(xiàn)在退出了7nm工藝的研發(fā)、生產(chǎn)，EUV光刻機(jī)也用不上了，不知道會如何處理他們的EUV光刻機(jī)及之前的ASML光刻機(jī)訂單。

在EUV工藝上，英特爾還是最早投入研發(fā)資源的半導(dǎo)體公司之一，但是現(xiàn)在英特爾的不確定性也是最大的，前幾年英特爾還表態(tài)他們并不依賴EUV工藝，即便沒有EUV光刻機(jī)也懂得如何制造7nm工藝的芯片，這番豪言已經(jīng)是2014年的事了。

現(xiàn)在英特爾最大的麻煩不是EUV光刻工藝，他們首先要解決的是10nm工藝的量產(chǎn)，將良率提高到可以接受的程度，在2019年底正式推出基于10nm工藝的處理器，而在2020年才有可能大規(guī)模生產(chǎn)出移動、桌面、服務(wù)器版的10nm芯片。

英特爾的7nm工藝尚在研發(fā)中，英特爾透露的消息非常少，此前只是表態(tài)稱7nm工藝上吸取了10nm工藝的教訓(xùn)，不搞太浮夸的指標(biāo)以便降低量產(chǎn)難度。至于EUV工藝，英特爾官方?jīng)]有正式表態(tài)呢，EETiems上周在報道中援引伯恩斯坦分析師Mark Li的消息稱英特爾還在等待EUV技術(shù)更加成熟，在2021年底之前不會將EUV工藝納入到其工藝技術(shù)中去。

這個分析意味著英特爾至少要在三年后才能用上EUV工藝，即便2021年末真的推出了EUV工藝，那也意味著英特爾在這個技術(shù)進(jìn)度上落后臺積電、三星公司兩年時間，盡管英特爾的決定可能更成熟一些，在新工藝技術(shù)問題沒解決之前上EUV工藝可能會引入額外的風(fēng)險。