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美國計(jì)劃落空：光刻機(jī)巨頭ASML不走了 仍然留在荷蘭
4月23日消息，荷蘭對光刻機(jī)巨頭阿斯麥離開的消息感到十分擔(dān)憂，但現(xiàn)在情況有了明顯的好轉(zhuǎn)。
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英特爾完成全球首臺(tái)ASML High NA EUV光刻機(jī)組裝！
業(yè)內(nèi)消息，近日英特爾表示其已成為第一家完成組裝荷蘭ASML的新型“High NA”（高數(shù)值孔徑）EUV（極紫外）光刻設(shè)備的公司，目前已轉(zhuǎn)向光學(xué)系統(tǒng)校準(zhǔn)階段。這是這家美國芯片制造商超越競爭對手的重要舉措。
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美國施壓：不準(zhǔn)向中國廠商提供光刻機(jī)維修服務(wù)
4月18日消息，ASML公開表示，將繼續(xù)為中國大陸廠商提供設(shè)備維修服務(wù)。
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荷蘭光刻機(jī)巨頭ASML訂單大降！
業(yè)內(nèi)消息，近日光刻機(jī)制造商阿斯麥（ASML）公布了2024年第一季度業(yè)績，財(cái)報(bào)顯示，該公司當(dāng)季總凈銷售額53億歐元，環(huán)比下降27%；毛利率51.0%，上季度為51.4%；凈利潤12億歐元（當(dāng)前約92.4億元人民幣），環(huán)比下降 40%，低于分析師預(yù)期。
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光刻機(jī)巨頭阿斯麥業(yè)績爆雷 股價(jià)大跌
4月18日消息，光刻機(jī)巨頭阿斯麥(ASML)業(yè)績爆雷，這也導(dǎo)致公司股價(jià)大幅下挫。
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荷蘭政府花200億挽留無效！光刻機(jī)巨頭ASML為何要從老家搬走
3月31日消息，近日，全球光刻機(jī)巨頭ASML(阿斯麥)打算從荷蘭出走的消息引發(fā)關(guān)注。
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美國芯片大廠或?qū)⒉捎眉{米壓印光刻機(jī)！
業(yè)內(nèi)消息，近日美國存儲(chǔ)芯片大廠美光計(jì)劃首先采用日本佳能的納米壓印（NIL）光刻機(jī)，旨在通過佳能的納米壓印光刻機(jī)設(shè)備來進(jìn)一步降低生產(chǎn)DRAM存儲(chǔ)器的成本。
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ASML研究超級(jí)NA光刻機(jī)！2036年沖擊0.2nm工藝
2月17日消息，ASML已經(jīng)向Intel交付第一臺(tái)高NA EUV極紫外光刻機(jī)，將用于2nm工藝以下芯片的制造，臺(tái)積電、三星未來也會(huì)陸續(xù)接收，可直達(dá)1nm工藝左右。
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光刻機(jī)已經(jīng)落伍？硅光子將成中美新戰(zhàn)場！
近日，美國智庫戰(zhàn)略與國際研究中心（CSIS）發(fā)文指出：硅光子學(xué)支撐并推動(dòng)了光互連和光計(jì)算的進(jìn)步，這項(xiàng)新興技術(shù)可能會(huì)改變中美在半導(dǎo)體和人工智能方面的競爭。
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日本尼康宣布全新ArF浸沒式光刻機(jī)：精度小于2.1納米
12月10日消息，尼康宣布，將于2024年1月正式推出ArF 193納米浸沒式光刻機(jī)“NSR-S636E”，生產(chǎn)效率、套刻精度都會(huì)有進(jìn)一步提升。
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三星斥資 10 萬億大量采購 ASML 光刻機(jī)
日前韓國今日電子新聞報(bào)道稱三星計(jì)劃斥巨資進(jìn)口大量的半導(dǎo)體設(shè)備，其中包括更多的 ASML 極紫外（EUV）光刻設(shè)備。盡管因?yàn)楹贤械谋Ｃ軛l款未能披露具體細(xì)節(jié)，但證券市場消息稱，該協(xié)議將使 ASML 在五年內(nèi)提供總共 50 套設(shè)備，而每臺(tái)單價(jià)約為 2000 億韓元（當(dāng)前約合人民幣 11.16 億），總價(jià)值可達(dá) 10 萬億韓元（當(dāng)前約合人民幣 558 億）。
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佳能 CEO：納米壓印“光刻機(jī)”無法出口中國！
上個(gè)月佳能（Canon）發(fā)布了一個(gè)名為 FPA-1200NZ2C 的納米壓印半導(dǎo)體制造設(shè)備，號(hào)稱通過納米壓印光刻（NIL）技術(shù)實(shí)現(xiàn)了目前最先進(jìn)的半導(dǎo)體工藝。然而，近日佳能首席執(zhí)行官三井藤夫在采訪中表示，該設(shè)備無法出口到中國。
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探索前沿技術(shù) 推動(dòng)產(chǎn)業(yè)發(fā)展，東方晶源受邀參加第七屆國際先進(jìn)光刻技術(shù)研討會(huì)
10月25日，第七屆國際先進(jìn)光刻技術(shù)研討會(huì)(International Workshop on Advanced Patterning Solutions，IWAPS)在浙江麗水盛大開幕。
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ASML發(fā)布2023年第三季度財(cái)報(bào)丨凈銷售額67億歐元，凈利潤為19億歐元
ASML預(yù)計(jì)2023年第四季度的凈銷售額在67億至71億歐元之間，毛利率在50%至51%之間。
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挑戰(zhàn) EUV！佳能發(fā)布新型 2nm 光刻機(jī)
最新消息，近日佳能(Canon)發(fā)布了一個(gè)名為 FPA-1200NZ2C 的納米壓印半導(dǎo)體制造設(shè)備，號(hào)稱通過納米壓印光刻(NIL)技術(shù)實(shí)現(xiàn)了目前最先進(jìn)的半導(dǎo)體工藝。
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俄羅斯要建 10 臺(tái)超級(jí)計(jì)算機(jī)，還要自研光刻機(jī)?
業(yè)內(nèi)消息，近日多家外媒報(bào)道俄羅斯定下多個(gè)宏大科技領(lǐng)域的目標(biāo)，其中包括在 2030 年之前建造 10 臺(tái)的超級(jí)計(jì)算機(jī)，此外還包括在圣彼得堡理工大學(xué)的光刻綜合體以更低的成本研發(fā)出比 ASML 更高效的光刻機(jī)。
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俄羅斯開發(fā)出可替代光刻機(jī)的芯片制造工具：還要生產(chǎn)7nm芯片
10月10日消息，這對于ASML來說是不是有點(diǎn)魔幻，俄羅斯號(hào)稱開發(fā)出可以替代光刻機(jī)的芯片制造工具。
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什么是光刻機(jī)？它的基本原理是什么？
光刻機(jī)(Mask Aligner) 又名:掩模對準(zhǔn)曝光機(jī)、曝光系統(tǒng)、光刻系統(tǒng)等。常用的光刻機(jī)是掩膜對準(zhǔn)光刻，所以叫 Mask Alignment System。
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ASML今年發(fā)貨第一臺(tái)高NA EUV光刻機(jī)：成本逼近30億元！
9月7日消息，ASML宣布，將在今年底發(fā)貨第一臺(tái)支持高NA(數(shù)值孔徑)的EUV極紫外光刻機(jī)，型號(hào)“Twinscan EXE:5000”。
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光刻機(jī)的國內(nèi)外發(fā)展現(xiàn)狀如何？在技術(shù)上存在哪些差距？
中國光刻機(jī)行業(yè)一直處于發(fā)展的起步階段，盡管在技術(shù)上積累了大量的經(jīng)驗(yàn)，已經(jīng)能夠制作出14納米左右的芯片，但是相對國外的工藝而言，這還有很大的差距，面臨著重重挑戰(zhàn)。
