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美國計劃落空：光刻機巨頭ASML不走了 仍然留在荷蘭
4月23日消息，荷蘭對光刻機巨頭阿斯麥離開的消息感到十分擔憂，但現在情況有了明顯的好轉。
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英特爾完成全球首臺ASML High NA EUV光刻機組裝！
業(yè)內消息，近日英特爾表示其已成為第一家完成組裝荷蘭ASML的新型“High NA”（高數值孔徑）EUV（極紫外）光刻設備的公司，目前已轉向光學系統(tǒng)校準階段。這是這家美國芯片制造商超越競爭對手的重要舉措。
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美國施壓：不準向中國廠商提供光刻機維修服務
4月18日消息，ASML公開表示，將繼續(xù)為中國大陸廠商提供設備維修服務。
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荷蘭光刻機巨頭ASML訂單大降！
業(yè)內消息，近日光刻機制造商阿斯麥（ASML）公布了2024年第一季度業(yè)績，財報顯示，該公司當季總凈銷售額53億歐元，環(huán)比下降27%；毛利率51.0%，上季度為51.4%；凈利潤12億歐元（當前約92.4億元人民幣），環(huán)比下降 40%，低于分析師預期。
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光刻機巨頭阿斯麥業(yè)績爆雷 股價大跌
4月18日消息，光刻機巨頭阿斯麥(ASML)業(yè)績爆雷，這也導致公司股價大幅下挫。
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荷蘭政府花200億挽留無效！光刻機巨頭ASML為何要從老家搬走
3月31日消息，近日，全球光刻機巨頭ASML(阿斯麥)打算從荷蘭出走的消息引發(fā)關注。
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美國芯片大廠或將采用納米壓印光刻機！
業(yè)內消息，近日美國存儲芯片大廠美光計劃首先采用日本佳能的納米壓?。∟IL）光刻機，旨在通過佳能的納米壓印光刻機設備來進一步降低生產DRAM存儲器的成本。
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ASML研究超級NA光刻機！2036年沖擊0.2nm工藝
2月17日消息，ASML已經向Intel交付第一臺高NA EUV極紫外光刻機，將用于2nm工藝以下芯片的制造，臺積電、三星未來也會陸續(xù)接收，可直達1nm工藝左右。
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光刻機已經落伍？硅光子將成中美新戰(zhàn)場！
近日，美國智庫戰(zhàn)略與國際研究中心（CSIS）發(fā)文指出：硅光子學支撐并推動了光互連和光計算的進步，這項新興技術可能會改變中美在半導體和人工智能方面的競爭。
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日本尼康宣布全新ArF浸沒式光刻機：精度小于2.1納米
12月10日消息，尼康宣布，將于2024年1月正式推出ArF 193納米浸沒式光刻機“NSR-S636E”，生產效率、套刻精度都會有進一步提升。
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三星斥資 10 萬億大量采購 ASML 光刻機
日前韓國今日電子新聞報道稱三星計劃斥巨資進口大量的半導體設備，其中包括更多的 ASML 極紫外（EUV）光刻設備。盡管因為合同中的保密條款未能披露具體細節(jié)，但證券市場消息稱，該協議將使 ASML 在五年內提供總共 50 套設備，而每臺單價約為 2000 億韓元（當前約合人民幣 11.16 億），總價值可達 10 萬億韓元（當前約合人民幣 558 億）。
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佳能 CEO：納米壓印“光刻機”無法出口中國！
上個月佳能（Canon）發(fā)布了一個名為 FPA-1200NZ2C 的納米壓印半導體制造設備，號稱通過納米壓印光刻（NIL）技術實現了目前最先進的半導體工藝。然而，近日佳能首席執(zhí)行官三井藤夫在采訪中表示，該設備無法出口到中國。
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探索前沿技術 推動產業(yè)發(fā)展，東方晶源受邀參加第七屆國際先進光刻技術研討會
10月25日，第七屆國際先進光刻技術研討會(International Workshop on Advanced Patterning Solutions，IWAPS)在浙江麗水盛大開幕。
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ASML發(fā)布2023年第三季度財報丨凈銷售額67億歐元，凈利潤為19億歐元
ASML預計2023年第四季度的凈銷售額在67億至71億歐元之間，毛利率在50%至51%之間。
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挑戰(zhàn) EUV！佳能發(fā)布新型 2nm 光刻機
最新消息，近日佳能(Canon)發(fā)布了一個名為 FPA-1200NZ2C 的納米壓印半導體制造設備，號稱通過納米壓印光刻(NIL)技術實現了目前最先進的半導體工藝。
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俄羅斯要建 10 臺超級計算機，還要自研光刻機?
業(yè)內消息，近日多家外媒報道俄羅斯定下多個宏大科技領域的目標，其中包括在 2030 年之前建造 10 臺的超級計算機，此外還包括在圣彼得堡理工大學的光刻綜合體以更低的成本研發(fā)出比 ASML 更高效的光刻機。
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俄羅斯開發(fā)出可替代光刻機的芯片制造工具：還要生產7nm芯片
10月10日消息，這對于ASML來說是不是有點魔幻，俄羅斯號稱開發(fā)出可以替代光刻機的芯片制造工具。
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什么是光刻機？它的基本原理是什么？
光刻機(Mask Aligner) 又名:掩模對準曝光機、曝光系統(tǒng)、光刻系統(tǒng)等。常用的光刻機是掩膜對準光刻，所以叫 Mask Alignment System。
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ASML今年發(fā)貨第一臺高NA EUV光刻機：成本逼近30億元！
9月7日消息，ASML宣布，將在今年底發(fā)貨第一臺支持高NA(數值孔徑)的EUV極紫外光刻機，型號“Twinscan EXE:5000”。
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光刻機的國內外發(fā)展現狀如何？在技術上存在哪些差距？
中國光刻機行業(yè)一直處于發(fā)展的起步階段，盡管在技術上積累了大量的經驗，已經能夠制作出14納米左右的芯片，但是相對國外的工藝而言，這還有很大的差距，面臨著重重挑戰(zhàn)。
