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攜手TEL ASML催生EUV微影量產(chǎn)系統(tǒng)
艾司摩爾(ASML)宣布與東京威力科創(chuàng)(TEL)簽署合作協(xié)議，以加快極紫外光微影(EUV Lithography)設(shè)備商用進(jìn)展。根據(jù)協(xié)議，東京威力科創(chuàng)將提供最新的EUV涂布機(jī)(Coater)和顯影機(jī)(Developer)給艾司摩爾，并共同研究提高EUV微
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半導(dǎo)體景氣將在明年2月觸底？
科技市調(diào)機(jī)構(gòu)SemicoResearchCorp.總裁JimFeldhan上周在南韓廠商DongbuHiTekCo.舉辦的類比半導(dǎo)體領(lǐng)導(dǎo)者論壇(AnalogSemiconductorLeadersForum)上指出，自今(2011)年夏季開(kāi)始陷入衰退的半導(dǎo)體業(yè)市況可望在明年2月觸底。
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Semico：明年2月半導(dǎo)體景氣將觸底
科技市調(diào)機(jī)構(gòu)SemicoResearchCorp.總裁JimFeldhan上周在南韓廠商DongbuHiTekCo.舉辦的類比半導(dǎo)體領(lǐng)導(dǎo)者論壇(AnalogSemiconductorLeadersForum)上指出，自今(2011)年夏季開(kāi)始陷入衰退的半導(dǎo)體業(yè)市況可望在明年2月觸底。
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Semico：明年2月半導(dǎo)體衰退將觸底
科技市調(diào)機(jī)構(gòu)Semico Research Corp.總裁Jim Feldhan上周在韓國(guó)廠商Dongbu HiTekCo.舉辦的模擬半導(dǎo)體領(lǐng)導(dǎo)者論壇(Analog Semiconductor LeadersForum)上指出，自今(2011)年夏季開(kāi)始陷入衰退的半導(dǎo)體業(yè)市況可望在明年2月
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ASML認(rèn)為明年芯片產(chǎn)業(yè)可能放緩
荷蘭半導(dǎo)體設(shè)備商ASML日前公布第3季財(cái)報(bào)，雖然獲利成長(zhǎng)，但預(yù)測(cè)明年芯片業(yè)成長(zhǎng)放緩而拒絕作出財(cái)測(cè)。該公司認(rèn)為只有跟平板計(jì)算機(jī)和智能型手機(jī)相關(guān)的芯片設(shè)備明年才會(huì)見(jiàn)到成長(zhǎng)。ASML第3季凈利年增32％至3.552億歐元，優(yōu)
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分析師稱英特爾明年資本支出減少20億
9月1日消息，據(jù)國(guó)外媒體報(bào)道，由于個(gè)人電腦(PC)需求減少，華爾街分析師認(rèn)為英特爾將削減今明兩年的資本支出?；ㄆ旒瘓F(tuán)(Citigroup)分析師Timothy Arcuri表示，英特爾已改變意圖，未來(lái)計(jì)劃讓Fab24直接轉(zhuǎn)至14或10納米工
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IMEC用EUV曝光裝置成功曝光晶圓
IMEC宣布，成功利用ASML的EUV(extreme ultraviolet)曝光裝置NXE:3100進(jìn)行曝光。該EUV曝光裝置配備了日本牛尾電機(jī)的全資子公司德國(guó)XTREME technologies GmbH公司生產(chǎn)的LA-DPP(laser assisted discharge produced plas
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IMEC利用配備LA-DPP光源的EUV曝光裝置成功曝光晶圓
IMEC宣布，成功利用ASML的EUV（extremeultraviolet）曝光裝置NXE:3100進(jìn)行曝光。該EUV曝光裝置配備了日本牛尾電機(jī)的全資子公司德國(guó)XTREMEtechnologiesGmbH公司生產(chǎn)的LA-DPP（laserassisteddischargeproducedplasma）
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IMEC利用配備LA-DPP光源的EUV曝光裝置成功曝光晶圓
IMEC宣布，成功利用ASML的EUV（extreme ultraviolet）曝光裝置NXE:3100進(jìn)行曝光。該EUV曝光裝置配備了日本牛尾電機(jī)的全資子公司德國(guó)XTREME technologies GmbH公司生產(chǎn)的LA-DPP（laser assisted discharge produced p
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IMEC利用配備LA-DPP光源的EUV曝光裝置曝光晶圓
比利時(shí)IMEC宣布，成功利用荷蘭阿斯麥（ASML Holding N.V.）公司生產(chǎn)的試制及少量生產(chǎn)用（Pre-Production Tool：PPT）EUV（extreme ultraviolet）曝光裝置“NXE:3100”在晶圓上進(jìn)行了曝光。該EUV曝光裝置配備了日本
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臺(tái)積電擴(kuò)大研發(fā)團(tuán)隊(duì) 加速20納米制程開(kāi)發(fā)
被臺(tái)積電視為下世代主力的20納米制程，目前研發(fā)工作主要需克服的困難，在于良率提升和成本下降，希望能在下一季將良率快速提升。為加速20納米制程研發(fā)工作，臺(tái)積電將研發(fā)單位集中到新竹12廠，并擴(kuò)大研發(fā)團(tuán)隊(duì)，包含許
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諾基亞西門(mén)子與私募談判失敗 售股交易告吹
（林靖東）北京時(shí)間7月13日消息，據(jù)國(guó)外媒體報(bào)道，諾基亞和西門(mén)子與私募公司進(jìn)行了12個(gè)月的售股談判近日以失敗告終，兩家公司放棄了將所持諾西網(wǎng)絡(luò)公司股份出售出去的打算。 兩家公司在周三公布了談判失敗的消息
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臺(tái)積電擴(kuò)大研發(fā)團(tuán)隊(duì) 加速20納米制程開(kāi)發(fā)
被臺(tái)積電視為下世代主力的20納米制程，目前研發(fā)工作主要需克服的困難，在于良率提升和成本下降，希望能在下一季將良率快速提升。為加速20納米制程研發(fā)工作，臺(tái)積電將研發(fā)單位集中到新竹12廠，并擴(kuò)大研發(fā)團(tuán)隊(duì)，包含許
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荷蘭芯片設(shè)備供應(yīng)商ASML Q2凈利同比增長(zhǎng)81%
荷蘭芯片設(shè)備供應(yīng)商ASML公司在本周三表示，該公司今年第二財(cái)季的凈利潤(rùn)比去年同期增長(zhǎng)了近81%至4.32億歐元（合6.07億美元），去年同期該公司的凈利潤(rùn)為2.39億歐元。ASML公司第二財(cái)季的銷(xiāo)售額比去年同期增長(zhǎng)了53%至15
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臺(tái)積電擴(kuò)大研發(fā)團(tuán)隊(duì) 加速20奈米制程開(kāi)發(fā)
蘇芳禾／臺(tái)北 被臺(tái)積電視為下世代主力的20奈米制程，目前研發(fā)工作主要需克服的困難，在于良率提升和成本下降，希望能在下一季將良率快速提升。為加速20奈米制程研發(fā)工作，臺(tái)積電將研發(fā)單位集中到新竹12廠，并擴(kuò)大研發(fā)
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光源供應(yīng)商看好EUV導(dǎo)入量產(chǎn)時(shí)程
盡管紫外光微影(EUV)的一再延遲，已讓人對(duì)于它的實(shí)際商用時(shí)程產(chǎn)生疑問(wèn)，但 EUV 光源供應(yīng)商 Cymer 表示，隨著可提高晶圓產(chǎn)出的新一代光源技術(shù)日漸成熟，預(yù)估最快在14nm節(jié)點(diǎn)， EUV 將可望導(dǎo)入晶圓的量產(chǎn)中。Cymer迄今已
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瑞晶成為30納米制程轉(zhuǎn)換最快的臺(tái)灣DRAM廠
瑞晶董事會(huì)日前通過(guò)30納米制程轉(zhuǎn)換資本支出18.15億元決議案，并沖刺單月產(chǎn)能到年底達(dá)到8.8萬(wàn)片，成為邁向30納米制程進(jìn)展最快的臺(tái)系DRAM廠。此外，董事會(huì)也通過(guò)，向臺(tái)灣歐力士公司申請(qǐng)機(jī)器設(shè)備售后租回融資約10億元，
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瑞晶成30納米制程轉(zhuǎn)換最快的臺(tái)灣DRAM廠
瑞晶董事會(huì)日前通過(guò)30納米制程轉(zhuǎn)換資本支出18.15億元決議案，并沖刺單月產(chǎn)能到年底達(dá)到8.8萬(wàn)片，成為邁向30納米制程進(jìn)展最快的臺(tái)系DRAM廠。此外，董事會(huì)也通過(guò)，向臺(tái)灣歐力士公司申請(qǐng)機(jī)器設(shè)備售后租回融資約10億元，
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臺(tái)積電臺(tái)聯(lián)電分別拋出設(shè)備大訂單
日本東京電子(TEL)日前收到來(lái)自聯(lián)電的一筆后繼設(shè)備訂單，價(jià)值約為三千零五十萬(wàn)美元，這是TEL今年迄今為止收到的來(lái)自聯(lián)電的最大一筆設(shè)備訂單，TEL接獲來(lái)自聯(lián)電的上一筆訂單是在今年四月，價(jià)值為一千九百十萬(wàn)美元。與此
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臺(tái)積電加入EIDEC聯(lián)盟
臺(tái)積電與日本瑞薩電子(Renesas)決定加入以研發(fā)次世代半導(dǎo)體制造技術(shù)為目標(biāo)的EUVL基板開(kāi)發(fā)中心(EIDEC)。EIDEC是由東芝(Toshiba)領(lǐng)軍，由11間日本企業(yè)共同出資設(shè)立，致力于研究深紫外線(EUV)微影技術(shù)。目前EIDEC已經(jīng)和
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