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ASML單價近一億美元的EUV光刻機訂單已達10臺 預(yù)計2012年開始正式交貨
2010年浸潤式微米光刻機臺設(shè)備(Immersion Scanner)大缺貨，形成DRAM產(chǎn)業(yè)轉(zhuǎn)進40納米工藝的天險，隨著缺貨問題解決，ASML針對20納米工藝，推出深紫外光(EUV)機臺，目前已有10臺訂單在手，預(yù)計2012年將正式交貨；不過，
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ASML單價近一億美元的EUV光刻機訂單已達10臺 預(yù)計2012年開始正式交貨
2010年浸潤式微米光刻機臺設(shè)備(ImmersionScanner)大缺貨，形成DRAM產(chǎn)業(yè)轉(zhuǎn)進40納米工藝的天險，隨著缺貨問題解決，ASML針對20納米工藝，推出深紫外光(EUV)機臺，目前已有10臺訂單在手，預(yù)計2012年將正式交貨；不過，對
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ASML單價近一億美元EUV光刻機訂單已達10臺
2010年浸潤式微米光刻機臺設(shè)備(Immersion Scanner)大缺貨，形成DRAM產(chǎn)業(yè)轉(zhuǎn)進40納米工藝的天險，隨著缺貨問題解決，ASML針對20納米工藝，推出深紫外光(EUV)機臺，目前已有10臺訂單在手，預(yù)計2012年將正式交貨;不過，對
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日震效應(yīng)延燒半導(dǎo)體設(shè)備下單
據(jù)路透(Reuters)報導(dǎo)，荷蘭半導(dǎo)體設(shè)備商ASML指出，日本強震打亂客戶供應(yīng)鏈，導(dǎo)致部分客戶下單態(tài)度出現(xiàn)遲疑現(xiàn)象。 ASML以微顯影機臺引領(lǐng)半導(dǎo)體設(shè)備市場，近期發(fā)布2011年第1季財報，該期間ASML營收為14.52億歐元(約
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ASML第一季度凈利潤增至3.95億歐元 訂單規(guī)模達8.45億歐元
荷蘭半導(dǎo)體光刻設(shè)備供應(yīng)商ASMLHoldingNV日前宣布，第一季度凈利潤增加兩倍以上達到3.95億歐元，季度營收同樣增加近一倍升至14.5億歐元，好于分析師預(yù)期。季度利潤升至3.95億歐元(5.70億美元)或每股0.9歐元，一年前同
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2010年全球半導(dǎo)體設(shè)備廠商排行榜公布
VLSI Research市調(diào)公司近日公布了2010年全球芯片廠用設(shè)備制造廠商排行榜，應(yīng)用材料公司仍然穩(wěn)居老大位置，而近年來相當(dāng)活躍的光刻設(shè)備廠商荷蘭ASML則排名超過東電電子公司(TEL)上升到了第二位，東電電子則在排行榜上
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亞洲產(chǎn)業(yè)重鎮(zhèn) 封測設(shè)備站更穩(wěn)
國內(nèi)封測業(yè)樂見國際封測設(shè)備大廠透過并購壯大版圖，包括日月光、矽品及力成等封測大廠強調(diào)，愛德萬（Advantest）的半導(dǎo)體測試機臺長期以來一直是臺灣封測業(yè)重要設(shè)備采購對象，隨國際整合元件大廠（IDM）持續(xù)對臺下
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光刻世界的期待與沮喪
數(shù)十年來，光刻一直是關(guān)鍵的芯片生產(chǎn)技術(shù)。今天它仍然很重要。不過，在最近的SPIE先進光刻技術(shù)大會中，一些跡象顯示，光刻界及其客戶需要的微縮──字面上的微縮──事實上幾乎已經(jīng)有點像心理安慰了。 焦慮、緊張
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微影世界的藍(lán)色憂郁
數(shù)十年來，微影一直是關(guān)鍵的晶片生產(chǎn)技術(shù)。今天它仍然很重要。不過，在最近的 SPIE 先進微影大會中，一些跡象顯示，微影社群及其客戶需要的微縮──字面上的微縮──事實上幾乎已經(jīng)有點像心理安慰了。焦慮、緊張和憂
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英特爾10nm設(shè)計規(guī)則初定 EUV技術(shù)恐錯過良機
英特爾公司正在計劃將目前的193nm浸入式微影技術(shù)擴展到14nm邏輯節(jié)點，此一計劃預(yù)計在2013下半年實現(xiàn)。同時，這家芯片業(yè)巨頭也希望能在2015年下半年于10nm邏輯節(jié)點使用超紫外光(EUV)微影技術(shù)進行生產(chǎn)。但英特爾微影技
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英特爾10nm設(shè)計規(guī)則初定 EUV技術(shù)恐錯失良機
英特爾公司正在計劃將目前的193nm浸入式微影技術(shù)擴展到14nm邏輯節(jié)點，此一計劃預(yù)計在2013下半年實現(xiàn)。同時，這家芯片業(yè)巨頭也希望能在2015年下半年于10nm邏輯節(jié)點使用超紫外光(EUV)微影技術(shù)進行生產(chǎn)。但英特爾微影技
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英特爾10nm設(shè)計規(guī)則初定 EUV技術(shù)恐錯過良機
英特爾公司正在計劃將目前的193nm浸入式微影技術(shù)擴展到14nm邏輯節(jié)點，此一計劃預(yù)計在2013下半年實現(xiàn)。同時，這家芯片業(yè)巨頭也希望能在2015年下半年于10nm邏輯節(jié)點使用超紫外光(EUV)微影技術(shù)進行生產(chǎn)。但英特爾微影技
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英特爾10nm設(shè)計規(guī)則初定，EUV技術(shù)恐錯過良機
英特爾公司正在計劃將目前的193nm浸入式微影技術(shù)擴展到14nm邏輯節(jié)點，此一計劃預(yù)計在2013下半年實現(xiàn)。同時，這家芯片業(yè)巨頭也希望能在2015年下半年于10nm邏輯節(jié)點使用超紫外光(EUV)微影技術(shù)進行生產(chǎn)。但英特爾微影技
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英特爾10nm設(shè)計規(guī)則初定，EUV技術(shù)恐錯過良機
英特爾公司正在計劃將目前的193nm浸入式微影技術(shù)擴展到14nm邏輯節(jié)點，此一計劃預(yù)計在2013下半年實現(xiàn)。同時，這家芯片業(yè)巨頭也希望能在2015年下半年于10nm邏輯節(jié)點使用超紫外光(EUV)微影技術(shù)進行生產(chǎn)。 但英特爾微
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比利時IMEC宣布已安裝ASML NXE:3100試產(chǎn)型EUV光刻機
比利時半導(dǎo)體研究機構(gòu)IMEC最近宣布在其設(shè)在比利時魯汶的研究設(shè)施中安裝了一臺ASML生產(chǎn)的NXE:3100試產(chǎn)型EUV光刻機。IMEC機構(gòu)的總裁 兼CEO Luc Van den hove會在今天召開的SPIE高級光刻技術(shù)會議（SPIE advanced lithog
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日本人揚頭趕上：尼康光刻機市場表現(xiàn)回勇
日本尼康公司曾經(jīng)一度在高端光刻機市場上相比其對手荷蘭ASML公司有所失寵，不過最近由于高端光刻機市場需求相當(dāng)旺盛，尼康公司的光刻部門終于擺脫了兩年以來一直賠本經(jīng)營的局面。 由于市場對尼康193nm液浸式光刻工
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歐洲半導(dǎo)體業(yè)者4Q營收樂觀
據(jù)道瓊(DowJones)報導(dǎo)，由于智能型手機、平板計算機2011年持續(xù)發(fā)燒，毆洲半導(dǎo)體業(yè)者可望大展身手，走出往昔的經(jīng)濟泥沼，加上美國、亞洲對手上需面對棘手的PC市場挑戰(zhàn)，歐洲業(yè)者當(dāng)前更顯輕松寫意。半導(dǎo)體設(shè)備大廠荷商
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半導(dǎo)體設(shè)備制造商ASML四季度凈利4.07億歐元
北京時間1月19日下午消息，歐洲最大的半導(dǎo)體設(shè)備制造商荷蘭阿斯麥控股公司(ASMLHoldingNV)發(fā)布第四季度財報，由于2010年銷量創(chuàng)歷史記錄，其第四季度利潤超過之前分析師預(yù)測。阿斯麥今日報道稱，公司第四季度凈利潤為
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荷蘭阿斯麥發(fā)布第四季度財報
歐洲最大的半導(dǎo)體設(shè)備制造商荷蘭阿斯麥控股公司(ASMLHolding NV)發(fā)布第四季度財報，由于2010年銷量創(chuàng)歷史記錄，其第四季度利潤超過之前分析師預(yù)測。阿斯麥報道稱，公司第四季度凈利潤為4.07億歐元(5.49億美元)，而去
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2011半導(dǎo)體設(shè)備業(yè)的十大預(yù)測
2011年全球半導(dǎo)體設(shè)備業(yè)中會發(fā)生什么？以下是巴克萊Capital的著名分析師CJ Muse收集各種報告后的匯總?cè)缦拢?.Fab tool upturn?半導(dǎo)體設(shè)備業(yè)仍是增長 會看到2011年半導(dǎo)體設(shè)備業(yè)的投資可能持平，或者有5-10％之間的
