據(jù)報(bào)道，荷蘭政府于2023年6月30日正式宣布，針對先進(jìn)半導(dǎo)體設(shè)備出口，制定新的出口管制條例。

根據(jù)新出口管制條例規(guī)定，荷蘭光刻機(jī)巨頭阿斯麥(ASML)需要向荷蘭政府申請出口許可證，才能發(fā)運(yùn)最先進(jìn)的浸潤式DUV系統(tǒng)，即TWINSCAN NXT:2000i及后續(xù)推出的浸潤式光刻系統(tǒng)。荷蘭政府將決定是否授予或拒發(fā)出口許可證，并將向ASML提供許可證所附條件的細(xì)節(jié)1。

荷蘭對外貿(mào)易和發(fā)展合作部長Liesje Schreinemacher表示：“我們采取這一步驟是出于國家安全考慮。對于將受到影響的公司來說，知道他們可以期待什么是好事。這將給他們一定的時(shí)間來適應(yīng)新的規(guī)則。”

關(guān)于許可證申請方面，荷蘭政府表示，預(yù)計(jì)一次可以申請24個(gè)許可證，然后每年可申請20個(gè)許可證。該計(jì)劃涉及荷蘭只有極少數(shù)公司生產(chǎn)的特定設(shè)備。授權(quán)義務(wù)僅適用于該計(jì)劃所涵蓋公司總產(chǎn)品組合的一小部分。

從限制政策來看，主要受影響的荷蘭企業(yè)為ASML和ASM International。

綜上所述，荷蘭對華光刻機(jī)出口管制對中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展帶來了一定的影響，但同時(shí)也促進(jìn)了國內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的自主創(chuàng)新和發(fā)展。