中國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備、材料、技術(shù)等多個(gè)方面，仍被海外“卡脖子”。好在，我國(guó)在刻蝕機(jī)領(lǐng)域已經(jīng)實(shí)現(xiàn)突破，據(jù)IC Insights數(shù)據(jù)顯示，我國(guó)刻蝕設(shè)備的國(guó)產(chǎn)化率在20%以上，是我國(guó)最具優(yōu)勢(shì)的半導(dǎo)體設(shè)備。

半導(dǎo)體制造需要很多的步驟，刻蝕是半導(dǎo)體制造中十分關(guān)鍵的一環(huán)，刻蝕通過(guò)物理或化學(xué)方法將硅片表面不需要的材料去除，從而將掩膜圖形正確的復(fù)制到涂膠硅片上?？涛g過(guò)程需要用到刻蝕機(jī)這一設(shè)備。如今，我國(guó)在光刻機(jī)領(lǐng)域雖然還難以突破，但在刻蝕機(jī)領(lǐng)域，我國(guó)已經(jīng)實(shí)現(xiàn)突圍。

全球芯片目前處于一個(gè)非常關(guān)鍵的時(shí)期，一個(gè)小小的芯片，可能需要經(jīng)歷很繁瑣的制造工藝過(guò)程，比如芯片的最初設(shè)計(jì)，再到制造以及封測(cè)，每一個(gè)看似獨(dú)立的過(guò)程里卻聯(lián)系十分緊密一段，哪個(gè)環(huán)節(jié)出現(xiàn)問(wèn)題，這款芯片可能就是白搭了。而在全球市場(chǎng)上和美國(guó)相比較，我們的技術(shù)應(yīng)該算得上是比較落后的，因?yàn)閷?duì)于芯片的進(jìn)口依賴程度非常的高，而自主研發(fā)的能力又比較弱。

中微半導(dǎo)體是我國(guó)刻蝕機(jī)領(lǐng)頭羊企業(yè)，如今已經(jīng)打入臺(tái)積電的生產(chǎn)線，由尹志堯在2004年一手創(chuàng)建。由于眾所周知的原因，我國(guó)近期在光刻機(jī)領(lǐng)域很難有突破了，但是在半導(dǎo)體其他方面還是突破不斷，十余年的堅(jiān)持讓中微半導(dǎo)體成功實(shí)現(xiàn)了從6.5nm，到最領(lǐng)先的5nm的攻克。而且，中微半導(dǎo)體5nm刻蝕機(jī)，還成功打入臺(tái)積電生產(chǎn)線。為此，中微半導(dǎo)體成為大陸本土設(shè)備商中，唯一被臺(tái)積電認(rèn)可的廠商。并且手握了將近1142項(xiàng)“刻蝕機(jī)”的專利，他們的目標(biāo)就是下一步走向國(guó)際市場(chǎng)。

或許有些人對(duì)中微半導(dǎo)體比較陌生，也不明白刻蝕機(jī)具體是做什么的。首先中微半導(dǎo)體的創(chuàng)始人是尹志堯，畢業(yè)于中國(guó)科學(xué)技術(shù)大學(xué)，后海外留學(xué)加利福尼亞大學(xué)洛杉磯分校，獲得物理化學(xué)博士學(xué)位。中微半導(dǎo)體的實(shí)力是不可小覷的，其生產(chǎn)的刻蝕機(jī)已經(jīng)進(jìn)入到5nm制程階段，也是中國(guó)少數(shù)打入臺(tái)積電供應(yīng)鏈的大陸企業(yè)。不僅如此，中微半導(dǎo)體也曾為長(zhǎng)江存儲(chǔ)提供9臺(tái)刻蝕機(jī)設(shè)備。該公司在2020年度預(yù)計(jì)實(shí)現(xiàn)歸母凈利潤(rùn)在4.4億元到5.2億元間。相比2019年，歸母凈利潤(rùn)有望實(shí)現(xiàn)同比133.34%到175.77%的增長(zhǎng)。中微公司正式成立于2004年，是國(guó)產(chǎn)蝕刻機(jī)領(lǐng)域當(dāng)之無(wú)愧的龍頭企業(yè)。短短十幾年的時(shí)間，中微公司自主研發(fā)的蝕刻機(jī)精度從65nm一路突飛猛進(jìn)，升級(jí)到5nm。這個(gè)過(guò)程中，中微公司不僅追平了國(guó)際大廠，而且還做到了世界領(lǐng)先水平。

除了中微科技，還有北方華創(chuàng)企業(yè)，業(yè)績(jī)連續(xù)三年復(fù)合增長(zhǎng)率超過(guò)30%，上市十年，一步一步從一家名不見(jiàn)經(jīng)傳的小公司成長(zhǎng)為國(guó)內(nèi)集成電路工藝裝備的龍頭企業(yè)，這家公司正是北方華創(chuàng)。北方華創(chuàng)更是成為蝕刻機(jī)、PVD、CVD等設(shè)備國(guó)產(chǎn)化第一先鋒。公司2020年凈利潤(rùn)在4.6億到5.8億之間，同比增長(zhǎng)超過(guò)48%，在疫情影響下能去如此出色的成績(jī)著實(shí)難得。北方華創(chuàng)的刻蝕設(shè)備已經(jīng)覆蓋集成電路、LED、先進(jìn)封裝、功率半導(dǎo)體、MEMS微機(jī)電系統(tǒng)、化合物半導(dǎo)體、硅基微顯、分析儀器、功率器件、光通信器件等多個(gè)領(lǐng)域，硅刻蝕機(jī)已突破14nm技術(shù)，進(jìn)入主流芯片代工廠。其中，12英寸ICP刻蝕機(jī)在實(shí)現(xiàn)客戶端28nm國(guó)產(chǎn)化替代，并在14/7nm SADP/SAQP、先進(jìn)存儲(chǔ)器、3D TSV等工藝應(yīng)用中發(fā)揮著重要作用。

雖然一些“禁令”都讓中國(guó)企業(yè)陷入困境，但我們都知道天無(wú)絕人之路，方法總比困難多，中國(guó)半導(dǎo)體行業(yè)在這些禁令的打壓下將會(huì)慢慢站起來(lái)，擺脫發(fā)達(dá)國(guó)家對(duì)于技術(shù)的束縛。相信中國(guó)必將走出這些困境，成功打破國(guó)外的壟斷，走出屬于自己的半導(dǎo)體之路。