應用材料公司推出「Applied SEMVision G6缺陷分析系統(tǒng)」。圖文／周榮發(fā)
在全球半導體、光電產(chǎn)業(yè)享有高知名度的應用材料公司，在美西半導體展期間，推出最新缺陷檢測及分類技術「Applied SEMVision G6缺陷分析系統(tǒng)」，該系統(tǒng)乃結合高分辨率、多維影像分析功能及革命性創(chuàng)新的Purity自動化缺陷分類系統(tǒng)高智能的機器學習算法，可加速達成10納米及以下的頂尖芯片生產(chǎn)良率，除是半導體產(chǎn)業(yè)首創(chuàng)引進缺陷檢測掃瞄電子顯微鏡技術，更可將有效協(xié)助半導體產(chǎn)業(yè)發(fā)展。

該企業(yè)副總裁暨制程診斷與控制事業(yè)處總經(jīng)理依泰?羅森費德表示，在面對新的10納米設計規(guī)則及3D架構技術要求，現(xiàn)有的缺陷檢測及分類技術能力面臨挑戰(zhàn)，而應材的SEMVision G6與Purity ADC以無與倫比影像分析及更快且更準確的強大分類工具，解決半導體業(yè)缺陷檢測諸多制程控制上的問題。

SEMVision G6系統(tǒng)先進的偵測組合及精密的制程，能讓微小且不易被發(fā)現(xiàn)的缺陷，以高質量層析成像影像呈現(xiàn)，高能量影像處理能以「看穿」?jié)B透的方式，找出重要電子層的缺陷。網(wǎng)址：www.appliedmaterials.com。