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EUV光刻機(jī)價(jià)格暴漲至近億美元

時(shí)間：2010-11-21 08:33:00

關(guān)鍵字： EUV光刻機(jī) ASML ALPHA ADT

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[導(dǎo)讀]多年以前，VLSI Research公司的總裁Risto Puhakka曾經(jīng)預(yù)測稱：“EUV光刻系統(tǒng)將乏人問津，其售價(jià)有可能提升到1.25億美元的水平。”當(dāng)時(shí)幾乎所有的人都認(rèn)為他是在滿嘴跑火車，可是如今，越來越多的廠商開始停止采購這種

多年以前，VLSI Research公司的總裁Risto Puhakka曾經(jīng)預(yù)測稱：“EUV光刻系統(tǒng)將乏人問津，其售價(jià)有可能提升到1.25億美元的水平?！碑?dāng)時(shí)幾乎所有的人都認(rèn)為他是在滿嘴跑火車，可是如今，越來越多的廠商開始停止采購這種系統(tǒng)用作生產(chǎn)。

ASML NXE:3100 EUV光刻機(jī)

2003年，EUV光刻系統(tǒng)當(dāng)時(shí)的積極支持者Intel公司認(rèn)為EUV光刻設(shè)備的目標(biāo)定價(jià)應(yīng)在2000萬美元較為合適。目前各大半導(dǎo)體廠商普遍采用的是 193nm沉浸式光刻系統(tǒng)（光波波長193nm,數(shù)據(jù)孔徑值以ASML公司Twinscan NX1950i為例為1.35），而采用EUV光刻設(shè)備（波長13.5nm，數(shù)據(jù)孔徑值以ASML公司ADT EUV Tool和Twinscan NXE3100為例均為0.25）的目的是待193nm沉浸式光刻系統(tǒng)不能滿足產(chǎn)品生產(chǎn)要求時(shí)取而代之。

ASML公司的ADT(Alpha demo tool) EUV光刻機(jī)

不過，EUV光刻系統(tǒng)的推廣普及日程多次延后，與此相對的是，系統(tǒng)的開發(fā)研制費(fèi)用則成指數(shù)級增長，由此導(dǎo)致設(shè)備的制造成本已經(jīng)完全失控。舉例而言，ASML公司最早的EUV機(jī)型--alpha EUV光刻機(jī)（采用DPP：Discharge-Produced Plasma光源）的單價(jià)據(jù)報(bào)已經(jīng)達(dá)到了6000萬美元的水平，而IMEC和Sematach兩家公司則是這種機(jī)型的首批兩家用戶。

盡管如此，EUV系統(tǒng)仍有一線生機(jī)。正像以前媒體所報(bào)道的那樣，ASML公司的EUV光刻機(jī)型共取得了六份訂單，而上公司初期生產(chǎn)的EUV機(jī)型（機(jī)型代號NXE:3100，為alpha機(jī)型的下一代產(chǎn)品,采用LPP：Laser-Produced Plasma光源）都已經(jīng)被訂購一空，這款機(jī)型定于今年年底正式交貨。據(jù)報(bào)道，這款機(jī)型的售價(jià)高達(dá)9000萬美元。

另外，據(jù) Barclays Capital市調(diào)公司透露，除了初期的NXE:3000機(jī)型之外，荷蘭ASML公司下一代EUV光刻機(jī)產(chǎn)品NXE:3300也取得了10份訂單。有分析師分析，這款新機(jī)型的訂購用戶主要有Hynix，IMEC,Intel,三星,東芝以及臺(tái)積電公司這幾家。

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