Global Foundries宣布2015年將在15nm制程節(jié)點正式啟用EUV光刻技術
[導讀]在最近召開的SemiCon West產業(yè)會議上， Global Foundries 公司宣布他們將在15nm制程節(jié)點開始啟用EUV極紫外光刻技術制造半導體芯片。 Global Foundries 公司負責制程技術研發(fā)的高級副總裁Greg Bartlett還表示，公司將
在最近召開的SemiCon West產業(yè)會議上， Global Foundries 公司宣布他們將在15nm制程節(jié)點開始啟用EUV極紫外光刻技術制造半導體芯片。 Global Foundries 公司負責制程技術研發(fā)的高級副總裁Greg Bartlett還表示，公司將在紐約Fab8工廠建成后馬上開始在這家工廠部署EUV光刻設備，按之前 Global Foundries公布的計劃，這個時間點大概是在2012年下半年，與之巧合的是，光刻設備廠商ASML公司也將于這個時間點開始上市EUV光刻設備。
ASML的EUV Alpha demo tool光刻演示設備
由于IBM/AMD/Global Foundries一直鼎立支持EUV光刻技術，他們過去也曾經試用過ASML的Alpha EUV光刻試驗機，因此將來他們應用起EUV技術來應該不會遇上太大的困難。另外 Bartlett還表示Global Foundries公司將于2015年正式啟用EUV光刻設備進行批量生產。考慮到Global Foundries的計劃顯示今年底明年初他們將推出32/28nm制程產品，這樣大致估算起來，32/28nm制程啟用后大約兩年，我們就可以看到 Global Foundries 22nm制程產品的上市，22nm之后再過兩年，則是使用EUV光刻技術的15nm制程產品上市。
另一個令人關心的問題是，到2015年，也許晶圓的尺寸也已經從現(xiàn)在的300mm發(fā)展到450nm直徑了，不過在Bartlett的講話中并沒有提及這方面的信息。不管怎么樣，圍繞在EUV光刻何時能投入實用的問題我們已經得到了確切的答案。
ASML的EUV Alpha demo tool光刻演示設備
由于IBM/AMD/Global Foundries一直鼎立支持EUV光刻技術，他們過去也曾經試用過ASML的Alpha EUV光刻試驗機，因此將來他們應用起EUV技術來應該不會遇上太大的困難。另外 Bartlett還表示Global Foundries公司將于2015年正式啟用EUV光刻設備進行批量生產。考慮到Global Foundries的計劃顯示今年底明年初他們將推出32/28nm制程產品，這樣大致估算起來，32/28nm制程啟用后大約兩年，我們就可以看到 Global Foundries 22nm制程產品的上市，22nm之后再過兩年，則是使用EUV光刻技術的15nm制程產品上市。
另一個令人關心的問題是，到2015年，也許晶圓的尺寸也已經從現(xiàn)在的300mm發(fā)展到450nm直徑了，不過在Bartlett的講話中并沒有提及這方面的信息。不管怎么樣，圍繞在EUV光刻何時能投入實用的問題我們已經得到了確切的答案。
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