這項設備將安裝于臺積電的超大晶圓廠——臺積十二廠，用以發(fā)展新世代的工藝技術。臺積電也將成為全球第一個可以在自身晶圓廠發(fā)展超紫外光微影技術的專業(yè)集成電路制造服務業(yè)者。

【IT商業(yè)新聞網(wǎng)訊】（記者 周元英）2010年2月22日，臺積電與荷蘭ASML公司共同宣布，前者將取得后者的超紫外光微影設備，是全球六個取得這項設備的客戶伙伴之一。

這項設備將安裝于臺積電的超大晶圓廠——臺積十二廠，用以發(fā)展新世代的工藝技術。臺積電也將成為全球第一個可以在自身晶圓廠發(fā)展超紫外光微影技術的專業(yè)集成電路制造服務業(yè)者。

相較于現(xiàn)行浸潤式微影技術以193納米波長當作光源，超紫外光微影技術導入更短波長的光源，將有機會降低生產(chǎn)成本，而成為集成電路制造更先進技術世代一個有潛力的選擇。TSMC目前正在對超紫外光及其他微影技術的最佳成本效益的潛力進行評估。

臺積電研究發(fā)展資深副總經(jīng)理蔣尚義博士表示：經(jīng)由ASML和其他公司，歐洲半導體業(yè)將在臺積電未來工藝技術的發(fā)展上，繼續(xù)扮演重要的角色。

ASML公司執(zhí)行副總裁暨產(chǎn)品及技術長Martin van den Brink表示：ASML已經(jīng)為邏輯、動態(tài)隨機存取記憶體、NAND快閃記憶體及專業(yè)集成電路制造服務等芯片制造的主要領域提供超紫外光設備。