二線(xiàn)晶圓廠先進(jìn)制程紛向一線(xiàn)大廠看齊
近期Silterra及Tower相繼宣布籌資計(jì)劃,擬擴(kuò)充0.13微米及90奈米制程產(chǎn)能。其中,先前才加入歐洲微電子研究所(IMEC)90、65奈米制程技術(shù)開(kāi)發(fā)計(jì)劃的Silterra,19日又宣布為因應(yīng)先進(jìn)制程成長(zhǎng)所需,未來(lái)幾年將分3階段擴(kuò)充產(chǎn)能,第1階段將在既有產(chǎn)能規(guī)模上擴(kuò)充0.18、0.13微米及其半世代0.11微米制程產(chǎn)能至單月4萬(wàn)片,并將少量擴(kuò)充90奈米制程產(chǎn)能(約1,000~2,000片);第2階段是積極尋找8吋廠購(gòu)并對(duì)象;第3階段則擬自建12吋晶圓廠,主要用來(lái)擴(kuò)充90、65奈米先進(jìn)制程所需,初期單月產(chǎn)能約2萬(wàn)~2.5萬(wàn)片。
半導(dǎo)體業(yè)者透露,Silterra這項(xiàng)擴(kuò)產(chǎn)計(jì)劃需對(duì)外募資15億~20億美元,將以現(xiàn)有股東及對(duì)外募資雙線(xiàn)并行,目前馬來(lái)西亞官方投資公司Khazanah持有Silterra逾9成股分。Silterra執(zhí)行長(zhǎng)Kah Yee Eg則表示,透過(guò)這項(xiàng)擴(kuò)充產(chǎn)能計(jì)劃,未來(lái)4~5年Silterra營(yíng)收將可望呈現(xiàn)每2年倍數(shù)成長(zhǎng)趨勢(shì),總產(chǎn)能亦將達(dá)到單月10萬(wàn)~12萬(wàn)片8吋約當(dāng)晶圓,制程光譜則從0.18微米制程跨至65奈米制程。
無(wú)獨(dú)有偶地,Tower亦宣布與銀行簽訂4,000萬(wàn)美元長(zhǎng)期借貸,用來(lái)擴(kuò)充Fab 2產(chǎn)能。Tower執(zhí)行長(zhǎng)Russell Ellwanger表示,由于Fab 2持續(xù)產(chǎn)能利用率超過(guò)90%,亟思擴(kuò)充產(chǎn)能,將Fab 2單月產(chǎn)能一舉提升至超越2.4萬(wàn)片,并計(jì)劃于2008年以后達(dá)4萬(wàn)片產(chǎn)能,其中,新增產(chǎn)能部分將以采用0.13微米與90奈米制程為主。
半導(dǎo)體業(yè)者指出,當(dāng)初90奈米制程量產(chǎn)時(shí),市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)比起0.13微米制程激烈,而65奈米制程又比起90奈米制程競(jìng)爭(zhēng)更激烈,就連臺(tái)積電總執(zhí)行長(zhǎng)蔡力行亦如此坦言,而隨著二線(xiàn)晶圓廠相繼宣布跨入0.13微米、90奈米先進(jìn)制程,恐更將攪亂一池春水,使得價(jià)格環(huán)境更為雪上加霜,同時(shí)以0.13微米、90奈米等先進(jìn)制程作為一、二線(xiàn)晶圓廠之間分水嶺,亦將逐漸消弭,甚至恐怕連「先進(jìn)制程」定義也會(huì)被改寫(xiě)。