日本出臺(tái)對韓限制出口政策引發(fā)韓國企業(yè)跳腳，《媒體》更進(jìn)一步指出，由日本獨(dú)占市場的光罩基底（Mask Blank）可能成為下一個(gè)犧牲品，外界擔(dān)憂，三星電子EUV工程（極紫外光）可能因此受沖擊。

據(jù)《媒體》報(bào)道，日本可能增加的限制品項(xiàng)包含集成電路（IC）、電源管理IC（PMIC）、光刻設(shè)備、離子注入機(jī)、晶圓、光罩基底等。如果日本增加出口限制項(xiàng)目，新增的項(xiàng)目也得取得個(gè)別許可，需耗費(fèi)90天左右的審查時(shí)間。

值得注意的是，除EUV制程用的光刻膠沒有其他替代品，日本企業(yè)在晶圓、光罩基底市場中，市占率非常高。光罩基底是曝光工程中光掩模的原料，在半導(dǎo)體微細(xì)化工程中極具重要性。業(yè)界認(rèn)為，三星電子主力的EUV工程屬于微細(xì)工程的新一代技術(shù)，韓國生產(chǎn)的光罩基底仍無法取代日本制的產(chǎn)品。

NH投資證券研究員都賢宇（音譯）分析，EUV工程用的光罩基底目前由豪雅（HOYA）獨(dú)家生產(chǎn)，韓國企業(yè)S-Tech雖然也有生產(chǎn)光罩基底，但技術(shù)力仍有些不足。

以光刻膠來說，雖然工程中有許多種類和層次，但核心部分是使用技術(shù)領(lǐng)先的日本制產(chǎn)品。EUV用光刻膠由JSR、信越化學(xué)工業(yè)等日本企業(yè)提供，韓國Dongjin Semichem等企業(yè)仍在開發(fā)相關(guān)產(chǎn)品中。

都賢宇指出，目前EUV工程中的原料，只有光刻膠被限制出口，但EUV工程尚未進(jìn)入量產(chǎn)階段。這也代表，即使原料中斷供應(yīng)，短期也只會(huì)影響示范生產(chǎn)線，問題是，華城的EUV生產(chǎn)線將于明年1月進(jìn)入量產(chǎn)。

業(yè)界相關(guān)人士認(rèn)為，三星電子核心產(chǎn)業(yè)之一是系統(tǒng)半導(dǎo)體，EUV則是引領(lǐng)該產(chǎn)業(yè)的技術(shù)，若日韓關(guān)系持續(xù)惡化，韓國半導(dǎo)體的未來堪憂。除此之外，臺(tái)積電、英特爾等競爭企業(yè)也在積極發(fā)展EUV工程，外界擔(dān)憂，情況若惡化，三星電子恐怕要讓出業(yè)界領(lǐng)頭羊的位置。