3月29日，清華大學(xué)設(shè)備采購信息平臺發(fā)布了一則等離子體刻蝕機采購項目的公開招標(biāo)公告。

本次招標(biāo)將采購一套等離子體刻蝕機，預(yù)算165萬元人民幣。

據(jù)介紹，該等離子體刻蝕機將用于刻蝕薄膜鈮酸鋰晶圓，從而加工基于薄膜鈮酸鋰晶圓的電光器件。

技術(shù)指標(biāo)要求：

- 真空系統(tǒng)：分子泵抽速≥1300L/s、干泵抽速≥100m3/h;

- 下電極：滿足8英寸(200mm)樣品刻蝕需要，更小樣品或碎片可貼片裝載;

- 軟件和控制系統(tǒng)：要求自主版權(quán)的軟件、Windows操作系統(tǒng)軟件;

- 機臺工藝能力：主要用于刻蝕薄膜鈮酸鋰材料、介質(zhì)材料等。

等離子刻蝕機，又叫等離子蝕刻機、等離子平面刻蝕機、等離子體刻蝕機、等離子表面處理儀、等離子清洗系統(tǒng)等。

等離子刻蝕是干法刻蝕中最常見的一種形式，其原理是暴露在電子區(qū)域的氣體形成等離子體，由此產(chǎn)生的電離氣體和釋放高能電子組成的氣體，從而形成了等離子或離子，電離氣體原子通過電場加速時，會釋放足夠的力量與表面驅(qū)逐力緊緊粘合材料或蝕刻表面。