ZESTRON 攜領(lǐng)先水基清洗技術(shù)亮相Semicon West
時(shí)間：2018-07-05 10:02:09
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水基清洗技術(shù)
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[導(dǎo)讀]ZESTRON將攜先進(jìn)的MPC® 和 HYDRON® 清洗技術(shù)出席Semicon West 2018(美國西部國際半導(dǎo)體設(shè)備展覽會(huì))。展會(huì)將于7月10日至12日在舊金山莫斯克尼展覽中心舉行，ZESTRON在5673展臺(tái)恭候您的光臨。
21IC訊 ZESTRON將攜先進(jìn)的MPC® 和 HYDRON® 清洗技術(shù)出席Semicon West 2018(美國西部國際半導(dǎo)體設(shè)備展覽會(huì))。展會(huì)將于7月10日至12日在舊金山莫斯克尼展覽中心舉行，ZESTRON在5673展臺(tái)恭候您的光臨。
MPC® 和HYDRON® 技術(shù)是由ZESTRON研發(fā)的創(chuàng)新型水基清洗技術(shù)?？梢杂行逑碊CB，IGBT，分立器件，功率LED等功率電子，同時(shí)去除為了提升綁定能力、增強(qiáng)潤濕性、改善烘干效果和提高產(chǎn)量而產(chǎn)生的污染物。依托兩種技術(shù)開發(fā)的產(chǎn)品能在減少溶劑有害成分的基礎(chǔ)上，依然表現(xiàn)出極佳的清洗效果。
ZESTRON專為SMT行業(yè)和功率電子行業(yè)的客戶提供基于各種清洗技術(shù)的清洗液和清洗工藝。全球8個(gè)技術(shù)中心，擁有70多臺(tái)國際領(lǐng)先清洗設(shè)備，ZESTRON致力于為客戶尋找最優(yōu)的清洗工藝及配套設(shè)備，幫助客戶智選清洗設(shè)備。
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