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[導讀]臺積電與荷蘭艾司摩爾(ASML)公司今(22)日共同宣布,臺積公司將取得ASML公司TWINSCAN? NXE:3100 超紫外光(Extreme Ultra-violet,EUV)微影設備,是全球六個取得這項設備的客戶伙伴之一。 臺積電指出,這項設備將

臺積電與荷蘭艾司摩爾(ASML)公司今(22)日共同宣布,臺積公司將取得ASML公司TWINSCAN? NXE:3100 超紫外光(Extreme Ultra-violet,EUV)微影設備,是全球六個取得這項設備的客戶伙伴之一。

臺積電指出,這項設備將安裝在臺積公司的超大晶圓廠(GigaFab?)臺積十二廠,用以發(fā)展新世代的制程技術。臺積公司也將成為全球第一個可以在自身晶圓廠發(fā)展超紫外光微影技術的專業(yè)集成電路制造服務業(yè)者。

臺積電表示,相較于現行浸潤式微影技術以193奈米波長當作光源,超紫外光微影技術導入更短波長的光源,將有機會降低生產成本,成為集成電路制造更先進技術世代一個有潛力的選擇。臺積公司目前正在對超紫外光及其他微影技術的最佳成本效益的潛力進行評估。

臺積電研究發(fā)展資深副總經理蔣尚義指出,「臺積公司將會利用ASML公司的TWINSCAN? NXE:3100設備,進行更先進世代制程技術的研發(fā)。超紫外光微影技術是我們正在研究的下世代微影技術之一,導入此項設備,不但切合我們保持先進技術領先的目標,更強化了我們不斷投資于歐洲半導體業(yè)創(chuàng)新的一貫承諾」。

他表示,「經由ASML和其他公司,歐洲半導體業(yè)將在臺積公司未來制程技術的發(fā)展上,繼續(xù)扮演重要的角色」。

ASML公司執(zhí)行副總裁暨產品及技術長Martin van den Brink表示,「包括此次提供NXE:3100設備給臺積公司,ASML已經為邏輯、動態(tài)隨機存取內存、NAND閃存及專業(yè)集成電路制造服務等芯片制造主的要領域提供超紫外光設備。藉由為臺積公司提供未來芯片制造最佳的技術,將可促進我們與臺積公司長久的伙伴關系」。



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