中微半導體設備獲得由泛林科技在臺灣發(fā)起的專利侵權訴訟的全面勝利
2009年1月，泛林公司明確聲稱中微公司型號為 Primo D-RIE 的等離子蝕刻機侵害它的臺灣專利 TW136706“電漿反應器中之多孔的電漿密封環(huán)”，和 TW126873“于電漿處理室中大量消除未局限電漿之聚焦環(huán)配置 ”
中微公司以事實回應泛林的指控并指出泛林所提出的被侵權的專利根本就是無效的專利。同年6月，泛林公司除了僅保留與專利 TW136706相關的部分侵權主張外，撤回了它其他大多數的侵權主張。臺灣智慧財產法院法官在聽取雙方針對有效性問題辯論后，基于不需要更進一步的調查關于侵權的爭點，在9月8日駁回了本案。記載著法院對本案判決詳細解釋的正式判決書將在幾周內送達。
這個勝利對中微公司意味重大并保證了中微公司能夠持續(xù)在臺灣市場布局和推廣其技術領先的產品。
中微公司的首席執(zhí)行官尹志堯博士對法庭的判決表示歡迎：“我們非常高興看到這樣的判決。這個案件的勝利也保護了所有擁有強大知識產權的新興公司進入市場的權力。健康的競爭是向客戶提供更優(yōu)秀產品的不可缺少的保證。我們歡迎與競爭對手們的公開競爭。 當然，當這樣的競爭對手試圖以沒有根據的法律訴訟來阻礙我們進軍關鍵市場時，我們將積極捍衛(wèi)我們的權力。我們非常高興法庭駁回了他們的訴訟?！?/FONT>
談到法庭的判決，中微公司高級副總裁杜志游博士指出：“我們非常高興地看到法庭駁回了泛林科技的專利侵權訴訟。作為一個先進技術的創(chuàng)新者，中微公司對知識產權的保護尤為認真和嚴格。創(chuàng)立獨特的知識產權和尊重競爭對手知識產權的完整性，從公司成立的第一天就是我們事業(yè)的基石。我們專注于為客戶提供獨一無二的技術，而且我們也很高興地看到我們在這方面所取得的實質性的成就?！?/FONT>
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