據(jù)中芯國際公眾號最新聲明顯示,韓媒“引用”中芯國際董事長周子學(xué)博士在韓國參會時對EUV(極紫外光刻機(jī))事宜的表態(tài)屬于違背事實的報道,并表示譴責(zé)。
今天鬧得沸沸揚(yáng)揚(yáng)的ASML光刻機(jī)對中國廠商斷供一事,ASML公司官方也發(fā)表了聲明,否認(rèn)了延遲出貨、斷供等說法,稱媒體報道有誤,ASML對全球客戶是一視同仁的。 這次外媒報道來源于日本的日經(jīng)新聞獨家新聞
11月7日消息,針對荷蘭ASML公司延遲出貨EUV光刻機(jī)的報道,中芯國際剛剛也作出了回應(yīng),稱“極紫外光(EUV)還在紙面工作階段,未進(jìn)行相關(guān)活動。公司先進(jìn)工藝研發(fā)進(jìn)展順利。目前,研發(fā)與生產(chǎn)的連結(jié)一切正
據(jù)報道,第二期國家集成電路產(chǎn)業(yè)投資基金—;—;也就是大基金,已經(jīng)在10月22日注冊成立,注冊資本高達(dá)2041.5億元,比第一期的1387.2億元高出一半多,最快11月份開始投資,這次投資重點是半導(dǎo)體裝
半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)可以說是制造業(yè)的皇冠,而光刻機(jī)就是皇冠上的明珠,EUV光刻機(jī)則是明珠之光,其設(shè)計之復(fù)雜遠(yuǎn)超一般工業(yè)設(shè)備。 目前EUV光刻機(jī)只有荷蘭ASML公司能夠生產(chǎn),Q3季度他們交付了7臺EUV光刻機(jī)
臺積電今天宣布將全年的資本開支從110億美元提升到140-150億美元,增長了40%左右,希望進(jìn)一步提升7nm及5nm產(chǎn)能。 在這個領(lǐng)域,唯一能跟臺積電競爭的就是三星了,但是三星的問題在于進(jìn)展較慢,現(xiàn)
莫大康認(rèn)為EUV工藝面臨三大挑戰(zhàn):首先是光源效率,即每小時刻多少片,按照工藝要求,要達(dá)到每小時250片,而現(xiàn)在EUV光源效率達(dá)不到這個標(biāo)準(zhǔn),因此還需進(jìn)一步提高,且技術(shù)難度相當(dāng)大。其次是光刻膠,光刻膠的問題主要體現(xiàn)在:EUV光刻機(jī)和普通光刻機(jī)原理不同
AI、5G應(yīng)用推動芯片微縮化,要實現(xiàn)5nm、3nm等先進(jìn)制程,意味著需要更新穎的技術(shù)支援以進(jìn)行加工制造,半導(dǎo)體設(shè)備商遂陸續(xù)推出新一代方案。AI、5G應(yīng)用推動晶片微縮化,要實現(xiàn)5nm、3nm等先進(jìn)制程,
北京國望光學(xué)科技有限公司增資項目在北京產(chǎn)權(quán)交易所完成。通過此次增資,國望光學(xué)引入中國科學(xué)院長春光學(xué)精密機(jī)械與物理研究所(簡稱“長春光機(jī)所”)和中國科學(xué)院上海光學(xué)精密機(jī)械研究所(簡稱:上海光機(jī)所)作為戰(zhàn)
北京清芯華創(chuàng)投資公司投委會主席陳大同博士日前在報告中談到了中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)與世界一流水平的差距,其中封裝方面差距最小,最快5年追上,半導(dǎo)體制造上則需要10-15年,這部分也是國產(chǎn)最弱的一部分了。 在半導(dǎo)
在半導(dǎo)體制造過程中,最重要的一個過程就是光刻工藝,需要用到光刻機(jī),7nm及以下節(jié)點工藝則需要EUV光刻機(jī),目前只有荷蘭ASML公司能生產(chǎn),每臺售價超過1億歐元,可以說是半導(dǎo)體行業(yè)的明珠了,是門檻非常高
日本半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)曾經(jīng)盛極一時。以DRAM(動態(tài)隨機(jī)存取存儲器)為例,1985年日本產(chǎn)品占據(jù)全球市場的80%。但之后市場份額一路下滑,到本世紀(jì)初降到10%以內(nèi)。在用于生產(chǎn)芯片的光刻機(jī)市場,尼康的行業(yè)龍頭地位在新世紀(jì)也被后起之秀荷蘭的ASML所取代。
為什么一臺最新的光刻機(jī)可以賣到超過一億美金?
消息,近日有外媒報道稱中國員工竊取荷蘭公司阿斯麥(ASML Holding N.V)商業(yè)機(jī)密并泄露給中國政府,ASML就是此前中芯國際購買1.2億美元EUV光刻機(jī)的賣方,幾乎是中芯國際2017年的全部
就在日前,半導(dǎo)體設(shè)備大廠荷蘭商艾司摩爾 (ASML) 在財報會議上表示,2019 年 ASML 將把極紫外光刻機(jī) (EUV) 的年出貨量從 18 臺,提升到30 臺之后,現(xiàn)有外國媒體報導(dǎo),晶圓代工龍頭臺積電將搶下這 30 臺 EUV 中過半的 18 臺數(shù)量,這也將使得臺積電在 2019 年第 1 季中可以順利啟動內(nèi)含 EUV 技術(shù)的 7 納米加強(qiáng)版制程。
中微公司的刻蝕機(jī)的確水平一流,但夸大闡述其戰(zhàn)略意義,則被相關(guān)專家反對??涛g只是芯片制造多個環(huán)節(jié)之一??涛g機(jī)也不是對華禁售的設(shè)備,在這個意義上不算“卡脖子”。
最近“我國成功研制出的世界首臺分辨力最高紫外超分辨光刻裝備”的新聞刷屏了。有些人歡欣鼓舞,有些人不屑一顧。那么這個裝備到底實力如何,牛到底牛在哪兒?先回答大家最關(guān)心的兩個問題:1、我們可以實現(xiàn)芯片徹底
北京時間12月3日晚間消息,全球領(lǐng)先的光刻機(jī)廠商ASML(阿斯麥)今日宣布,由于該公司的電子零部件供應(yīng)商Prodrive發(fā)生火災(zāi),導(dǎo)致ASML明年年初的部分產(chǎn)品供貨日期被推遲。ASML是全球許多大型計
全球領(lǐng)先的光刻機(jī)廠商ASML(阿斯麥)3日宣布,由于該公司的電子零部件供應(yīng)商Prodrive發(fā)生火災(zāi),導(dǎo)致ASML明年年初的部分產(chǎn)品供貨日期被推遲。
ASML是全球許多大型計算機(jī)芯片廠商的核心光刻機(jī)供應(yīng)商,主要客戶包括英特爾、三星和臺積電等。該公司今日在一份聲明中稱,今年的供貨將不會受到影響。對于此次火災(zāi)的詳細(xì)評估結(jié)果,ASML表示將在數(shù)周內(nèi)完成。