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ASML、IMEC聯(lián)合研發(fā)第二代EUV光刻機(jī)，制造更小的晶體管
隨著三星宣布7nm EUV工藝的量產(chǎn)，2018年EUV光刻工藝終于商業(yè)化了，這是EUV工藝研發(fā)三十年來(lái)的一個(gè)里程碑。不過(guò)EUV工藝要想大規(guī)模量產(chǎn)還有很多技術(shù)挑戰(zhàn)，目前的光源功率以及晶圓產(chǎn)能輸出還沒(méi)有達(dá)
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長(zhǎng)知識(shí)啦！AMSL的光刻機(jī)為何一臺(tái)能賣(mài)上億美元？
要了解光刻機(jī)為何為何受到如此的熱捧，首先簡(jiǎn)單了解一下什么是光刻機(jī)。光刻機(jī)的工作方式通常是在硅片表面勻膠，然后將掩模版上的圖形轉(zhuǎn)移光刻膠上的過(guò)程將器件或電路結(jié)構(gòu)臨時(shí)“復(fù)制”到硅片上的過(guò)程，而這種方式正是芯片制造的核心流程之一。光刻機(jī)有幾種分類(lèi)，有專門(mén)用于芯片生產(chǎn)的，有用于封裝的，有用于LED制造領(lǐng)域的投影光刻機(jī)。本次主要講的便是芯片制造用的光刻機(jī)，而在這個(gè)領(lǐng)域中，ASML無(wú)疑是絕對(duì)的龍頭，占據(jù)光刻機(jī)市場(chǎng)80%的份額。
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光刻機(jī)廠家ASML做了個(gè)廣告，連吉尼斯都驚動(dòng)了!
為了招聘人才，ASML公司制作了全世界最小的招聘廣告，并獲得了吉尼斯世界記錄。這個(gè)廣告長(zhǎng)33.27微米，寬7.76微米，面積為258平方微米，比一根頭發(fā)還小。上面刻有ASML宣傳語(yǔ)“To truly go small, you have to think big”(想要真的變小，那么你必須有宏大的想法)。
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阿斯麥仍看好EUV光刻機(jī)前景 最先進(jìn)的NXT:2000i將于下半年入華
中國(guó)集成電路制造年會(huì)近日邀請(qǐng)到了光刻機(jī)霸主ASML(阿斯麥)中國(guó)區(qū)總裁沈波參加，他出面解答了一些媒體關(guān)心的話題。
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ASML辟謠：沒(méi)有限招中國(guó)員工
在光刻機(jī)領(lǐng)域，荷蘭ASML公司幾乎壟斷了全球高端光刻機(jī)市場(chǎng)，在EUV光刻機(jī)中更是獨(dú)一份，7納米及以后的工藝都要依賴EUV光刻機(jī)。而日前，一則關(guān)于荷蘭光刻機(jī)巨頭拒絕接收中國(guó)留學(xué)生簡(jiǎn)歷的消息近日在社交媒體流傳，根據(jù)流傳的郵件稱，迫于美國(guó)政府的壓力，ASML公司被曝禁止招收中國(guó)籍員工。
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中國(guó)芯片為何一直卡在光刻機(jī)上 它到底有多復(fù)雜？
荷蘭ASML是世界頂尖光刻機(jī)的全球唯一生產(chǎn)商。 眾所周知，航空發(fā)動(dòng)機(jī)和光刻機(jī)分別代表了人類(lèi)科技發(fā)展的頂級(jí)水平，都可以算得上是工業(yè)皇冠上的奪目的明珠。目前，我國(guó)航空發(fā)動(dòng)機(jī)已經(jīng)有了長(zhǎng)足的進(jìn)步，那么，我國(guó)的光刻機(jī)發(fā)展現(xiàn)狀如何?這種譽(yù)為新時(shí)代“兩彈一星”級(jí)別的“神器”我國(guó)能趕超歐美嗎?特別是最近某科技媒體稱，“是什么卡了我們的脖子—— 這些“細(xì)節(jié)”讓中國(guó)難望頂級(jí)光刻機(jī)項(xiàng)背”，筆者根據(jù)公開(kāi)資料解析我國(guó)光刻機(jī)最新進(jìn)展。所謂光刻機(jī)，原理實(shí)際上跟照相機(jī)差不多，不過(guò)它的底片是涂滿光敏膠(也叫光刻膠)的硅片。各種電路圖
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詳解光刻機(jī)！
什么是光刻機(jī)呢?本節(jié)小編就帶大家一起認(rèn)識(shí)一下光刻機(jī)。
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“超級(jí)設(shè)備”入華 芯片自主生產(chǎn)有希望？
據(jù)多家媒體證實(shí)，長(zhǎng)江存儲(chǔ)從荷蘭阿斯麥(ASML)公司訂購(gòu)的一臺(tái)光刻機(jī)已抵達(dá)武漢。這臺(tái)光刻機(jī)價(jià)值價(jià)值7200萬(wàn)美元，約合人民幣4.6億元。另?yè)?jù)媒體報(bào)道，中芯國(guó)際在中興事件之后也向該公司下單了一臺(tái)光刻機(jī)，這臺(tái)名為EUV(極紫外線)光刻機(jī)更是身價(jià)不菲，價(jià)值1.2億美元，交貨日期尚不確定。
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EUV能成就中國(guó)芯之夢(mèng)嗎？
中興通訊受美國(guó)政府制裁一案，為大陸高端芯片的自主拉起警報(bào)，大陸自官方到民間無(wú)不立刻加大芯片研發(fā)的投資力度。日前有消息指，長(zhǎng)江存儲(chǔ)與中芯國(guó)際在近日突破海外封鎖，先后從荷蘭艾司摩爾(ASML)公司訂購(gòu)了兩臺(tái)總值近兩億美元的高端光刻機(jī)。
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中科院研發(fā)出新型直接光刻機(jī)搶占半導(dǎo)體設(shè)備商機(jī)
隨著光產(chǎn)業(yè)結(jié)構(gòu)的升級(jí)與應(yīng)用，該行業(yè)的發(fā)展迅猛。近日，一種新型的中紫外直接光刻機(jī)由中國(guó)科學(xué)院光電技術(shù)研究所微電子專用設(shè)備研發(fā)團(tuán)隊(duì)在國(guó)內(nèi)研制成功。該設(shè)備采用特有的高均勻、高準(zhǔn)直中紫外照明技術(shù)，結(jié)合光敏玻璃材料，實(shí)現(xiàn)基于光敏玻璃基底的微細(xì)結(jié)構(gòu)直接加工，能夠極大簡(jiǎn)化工藝流程，將有力促進(jìn)光敏玻璃微細(xì)結(jié)構(gòu)的光刻工藝技術(shù)“革命”，目前在國(guó)內(nèi)尚未見(jiàn)有此類(lèi)產(chǎn)品成功研發(fā)的報(bào)道。
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EV集團(tuán)推出全新掩模對(duì)準(zhǔn)光刻技術(shù)突破速度和精度極限
微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS)、納米技術(shù)以及半導(dǎo)體市場(chǎng)晶圓鍵合和光刻設(shè)備領(lǐng)先供應(yīng)商EV集團(tuán)(EVG)今日宣布推出IQ Aligner NT，旨針對(duì)大容量先進(jìn)封裝應(yīng)用推出的全新自動(dòng)掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)。IQ Aligner NT光刻機(jī)配備了高強(qiáng)度和高均勻度曝光鏡頭、全新晶圓處理硬件、支持全局多點(diǎn)對(duì)準(zhǔn)的全 200 毫米和全300毫米晶圓覆蓋、以及優(yōu)化的工具軟件。與EVG此前推出的IQ Aligner光刻機(jī)相比，產(chǎn)出率和對(duì)準(zhǔn)精度都提升了兩倍。這套系統(tǒng)最大程度地滿足了對(duì)后端光刻最嚴(yán)苛的要求，成本相較競(jìng)爭(zhēng)者降低30%。
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芯片制造關(guān)鍵的EUV光刻機(jī)單價(jià)為何能超1億歐元?
每每提到半導(dǎo)體行業(yè)發(fā)展，免不了要說(shuō)下中國(guó)最近兩年發(fā)展集成電路的決心之強(qiáng)、投資之大，國(guó)內(nèi)公司對(duì)人才也求賢若渴，不惜高薪挖人，但在關(guān)鍵技術(shù)上，我們落后歐美公司還是挺多的，特別是在半導(dǎo)體制造裝備上，先進(jìn)的光刻機(jī)還被歐美封鎖，有錢(qián)也買(mǎi)不到。進(jìn)入10nm工藝節(jié)點(diǎn)之后，EUV光刻機(jī)越來(lái)越重要，全球能產(chǎn)EUV光刻機(jī)的就是荷蘭ASML公司了，他們總共賣(mài)出18臺(tái)EUV光刻機(jī)，總價(jià)值超過(guò)20億歐元，折合每套系統(tǒng)售價(jià)超過(guò)1億歐元，可謂價(jià)值連城。
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三星欲購(gòu)入頂級(jí)光刻機(jī) 英特爾你慫了么？
產(chǎn)業(yè)鏈有傳言稱，臺(tái)積電與蘋(píng)果達(dá)成A10芯片獨(dú)家供應(yīng)協(xié)議。作為臺(tái)積電的主要競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手，三星電子加快提升芯片工藝進(jìn)程。據(jù)外媒Korea Times消息，三星電子在本月初派出包括一名執(zhí)行副總裁在內(nèi)的團(tuán)隊(duì)訪問(wèn)ASML總部，計(jì)劃引
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不再受制：我國(guó)成為少數(shù)能研制光刻機(jī)的國(guó)家之一
對(duì)于普通人來(lái)說(shuō)，光刻機(jī)或許是一個(gè)陌生的名詞，但它卻是制造大規(guī)模集成電路的核心裝備，每顆芯片誕生之初，都要經(jīng)過(guò)光刻技術(shù)的鍛造。記者13日從清華大學(xué)獲悉，國(guó)家科技重大專項(xiàng)“光刻機(jī)雙工件臺(tái)系統(tǒng)樣機(jī)研發(fā)&rd
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中國(guó)科學(xué)家自主研制成功新型光刻機(jī)
記者23日從中科院光電技術(shù)研究所獲悉，該所微電子專用設(shè)備研發(fā)團(tuán)隊(duì)自主研制成功紫外納米壓印光刻機(jī)。據(jù)中科院光電所微電子裝備總體研究室主任胡松介紹，該所自主研發(fā)的新型
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上海微電子：提升中國(guó)光刻設(shè)備高端制造水平
上海微電子裝備有限公司成立于2002年，公司主要致力于大規(guī)模工業(yè)生產(chǎn)的投影光刻機(jī)研發(fā)、生產(chǎn)、銷(xiāo)售與服務(wù)，可廣泛應(yīng)用于IC制造與先進(jìn)封裝、MEMS、3D-TSV、OLED-TFT、LED、Power Devices等制造領(lǐng)域。這是IC制造領(lǐng)域的
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2010年全球存儲(chǔ)器短缺的三個(gè)理由
2010年全球存儲(chǔ)器可能出現(xiàn)供應(yīng)缺貨，而且非常可能會(huì)延續(xù)下去。為什么?可能有三個(gè)原因，1)，存儲(chǔ)器市場(chǎng)復(fù)蘇;2)，前幾年中存儲(chǔ)器投資不足;3)，由ASML供應(yīng)的光刻機(jī)交貨期延長(zhǎng)。
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上海微電子展出SMEE 300系列光刻機(jī)
致力于投影光刻機(jī)研發(fā)、生產(chǎn)、銷(xiāo)售與服務(wù)的上海微電子裝備有限公司(SHANGHAI Micro Electronic Equipment；SMEE)，將于6/17至19來(lái)臺(tái)參加2014臺(tái)北國(guó)際光電周暨LED照明展，展出用于封裝以及LED產(chǎn)業(yè)光刻機(jī)設(shè)備。此次，將
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中國(guó)半導(dǎo)體企業(yè)走向產(chǎn)業(yè)鏈核心 漸受風(fēng)投追捧
【導(dǎo)讀】中國(guó)半導(dǎo)體企業(yè)走向產(chǎn)業(yè)鏈核心 漸受風(fēng)投追捧 一貫孱弱的中國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備業(yè)忽然成了美國(guó)風(fēng)投追逐的對(duì)象?！兜谝回?cái)經(jīng)日?qǐng)?bào)》昨日獲悉，國(guó)內(nèi)目前唯一能為12英寸半導(dǎo)體工廠生產(chǎn)設(shè)備的公司——中微半導(dǎo)體公司
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中國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備企業(yè)漸受風(fēng)投追捧
【導(dǎo)讀】中國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備企業(yè)漸受風(fēng)投追捧 一貫孱弱的中國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備業(yè)忽然成了美國(guó)風(fēng)投追逐的對(duì)象?！兜谝回?cái)經(jīng)日?qǐng)?bào)》昨日獲悉，國(guó)內(nèi)目前唯一能為12英寸半導(dǎo)體工廠生產(chǎn)設(shè)備的公司——中微半導(dǎo)體公司(下稱“中
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