日前,國家傳感器網(wǎng)絡(luò)標(biāo)準(zhǔn)工作組第八次全體會(huì)議在江蘇省無錫市舉行。會(huì)上正式發(fā)布了傳感網(wǎng)六項(xiàng)國家標(biāo)準(zhǔn)征求意見稿,這是我國第一次對(duì)傳感器網(wǎng)絡(luò)提出的基本規(guī)范,為傳感器網(wǎng)絡(luò)在各行業(yè)應(yīng)用提供了標(biāo)準(zhǔn)化的參照體系。
1 引言 隨著城市經(jīng)濟(jì)和規(guī)模的發(fā)展,各種類型的道路越來越長,機(jī)動(dòng)車數(shù)量迅速增加,夜間交通流量也越來越大,道路照明質(zhì)量直接影響交通安全和城市發(fā)展。如何提高道路照明質(zhì)量、降低能耗、實(shí)現(xiàn)綠色照明已成為城市照
物聯(lián)網(wǎng)實(shí)現(xiàn)道路科學(xué)綠色地照明
為邁向 7nm 制程技術(shù)做準(zhǔn)備,英特爾(Intel)微幅調(diào)升了今年度資本支出,并宣布將強(qiáng)化在平板電腦(Tablets)和所謂輕薄筆電(Ultrabook)方面的努力工作。在稍早前的季度財(cái)報(bào)電話會(huì)議中,該公司表示還計(jì)劃擴(kuò)展其 x86 指令集
在向22/20nm節(jié)點(diǎn)制程攀登的過程中,半導(dǎo)體技術(shù)研發(fā)者們似乎紛紛準(zhǔn)備在這一節(jié)點(diǎn)推出新形態(tài)的晶體管結(jié)構(gòu)技術(shù)。這方面做得比較出彩的有Intel,他們不久前正式公布將在22nm制程節(jié)點(diǎn)啟用三 柵晶體管技術(shù),并因此而博得了許
有簡歷,為何還要自我介紹? 一個(gè)常規(guī)的面試,寒暄之后面試官提出的第一個(gè)問題幾乎千篇一律:“請您簡單地做一下自我介紹”。有些被面試者都會(huì)問:簡歷中情況已經(jīng)寫得很清楚了,這是否多此一舉?
如何做好5分鐘自我介紹
一所研究機(jī)構(gòu)日前宣布,在 22nm 技術(shù)節(jié)點(diǎn)的半導(dǎo)體制程中,若與塊狀矽(bulk silicon)相比,完全耗盡型絕緣矽(fully depleted SOI)晶圓更具成本效益。專門進(jìn)行半導(dǎo)體成本分析的市場研究公司IC Knowledge LLC表示,已經(jīng)
7月11日,由江蘇澳洋順昌光電技術(shù)有限公司投資的led光電項(xiàng)目簽約落戶江蘇淮安清河新區(qū),為江淮安市蓬勃發(fā)展的新能源產(chǎn)業(yè)注入新的動(dòng)力。淮安市委書記劉永忠出席簽約儀式,期待投資方擔(dān)當(dāng)起淮安LED產(chǎn)業(yè)領(lǐng)頭企業(yè)的作用
據(jù)IHSiSuppli公司的研究,隨著DRAM市場過渡到效率更高的低納米技術(shù),該產(chǎn)業(yè)的成本削減及節(jié)省步伐從2012年開始將放緩。雖然最近幾個(gè)季度DRAM產(chǎn)業(yè)在推低光刻節(jié)點(diǎn)方面比較積極,但在今年剩余時(shí)間內(nèi)力度將逐漸減弱。今年
隨著DRAM市場過渡到效率更高的低納米技術(shù),該產(chǎn)業(yè)的成本削減及節(jié)省步伐從2012年開始將放緩。雖然最近幾個(gè)季度DRAM產(chǎn)業(yè)在推低光刻節(jié)點(diǎn)方面比較積極,但在今年剩余時(shí)間內(nèi)力度將逐漸減弱。今年第一季度該產(chǎn)業(yè)的加權(quán)平均
春節(jié)臨近,節(jié)后則將迎來一輪跳槽高峰期。每逢新年伊始,不少職場“螞蚱”們就開始重新規(guī)劃職業(yè)發(fā)展方向,是走是留成為大家討論的熱點(diǎn)。其實(shí)跳槽是職業(yè)生涯必然要經(jīng)歷的步驟,跳好了,工資會(huì)飛躍,事業(yè)
就業(yè)專家提醒:跳槽有風(fēng)險(xiǎn),跳前須三思
近日有消息人士在微博上透露,我國首批5億元物聯(lián)網(wǎng)專項(xiàng)基金申報(bào)工作已經(jīng)啟動(dòng),目前已有600多家企業(yè)進(jìn)行了申報(bào)。根據(jù)此前發(fā)布的相關(guān)準(zhǔn)則,工信部已篩選出100多家符合條件的企業(yè),但最終計(jì)劃入圍企業(yè)數(shù)目不得而知。今年
美國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)協(xié)會(huì)(SIA)日前公布了 2011年第一季的晶圓制造產(chǎn)能統(tǒng)計(jì)報(bào)告(SICAS),相關(guān)顯示大多數(shù)區(qū)域的晶圓廠產(chǎn)能利用率都在九成以上,整體半導(dǎo)體產(chǎn)能利用率為93.7%;事實(shí)上,半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)產(chǎn)能在第一季仍接近售罄的狀
盡管紫外光微影(EUV)的一再延遲,已讓人對(duì)于它的實(shí)際商用時(shí)程產(chǎn)生疑問,但 EUV 光源供應(yīng)商 Cymer 表示,隨著可提高晶圓產(chǎn)出的新一代光源技術(shù)日漸成熟,預(yù)估最快在14nm節(jié)點(diǎn), EUV 將可望導(dǎo)入晶圓的量產(chǎn)中。Cymer迄今已
美國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)協(xié)會(huì)(SIA)日前公布了 2011年第一季的晶圓制造產(chǎn)能統(tǒng)計(jì)報(bào)告(SICAS),相關(guān)顯示大多數(shù)區(qū)域的晶圓廠產(chǎn)能利用率都在九成以上,整體半導(dǎo)體產(chǎn)能利用率為93.7%;事實(shí)上,半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)產(chǎn)能在第一季仍接近售罄的狀
晶圓代工大廠臺(tái)積電(TSMC)資深研發(fā)副總裁蔣尚義(Shang-Yi Chiang)在日前于美國舉行的ARM技術(shù)論壇(TechCon)上表示,在接下來十年以FinFET技術(shù)持續(xù)進(jìn)行半導(dǎo)體制程微縮的途徑是清晰可見的,可直達(dá) 7納米節(jié)點(diǎn);但在 7納米
摘要: 片上系統(tǒng)(SoC) 發(fā)展到片上網(wǎng)絡(luò)(NoC) , 能量消耗逐漸成為芯片設(shè)計(jì)的首要限制因素。通過建立CMOS 電路和網(wǎng)絡(luò)通訊2 個(gè)層面不同的功耗模型, 從集成電路不同的設(shè)計(jì)層次、片上網(wǎng)絡(luò)通訊功耗以及NoC 映射問題等方
引言 隨著汽車電子技術(shù)的發(fā)展及對(duì)汽車性能要求的不斷提高,汽車上的電子裝置越來越多。一輛用傳統(tǒng)布線方法設(shè)計(jì)的高檔車中,其電線的長度可達(dá)2km ,電氣節(jié)點(diǎn)數(shù)可能高達(dá)1500 個(gè),并且保持大約每10 年增長1 倍的發(fā)展速度。