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ASML一體化光刻解決方案延續(xù)摩爾定律

時(shí)間：2009-07-17 09:22:34

關(guān)鍵字： ASML 摩爾定律光刻光刻技術(shù)

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[導(dǎo)讀]ASML集團(tuán)公司在美國舊金山舉行的SEMICON West展會上發(fā)布多項(xiàng)全新光刻設(shè)備，讓芯片制造商能夠繼續(xù)縮小半導(dǎo)體器件尺寸。FlexRay™ (可編程照明技術(shù))和BaseLiner™ (反饋式調(diào)控機(jī)制)為ASML一體化光刻技術(shù) (ho

ASML集團(tuán)公司在美國舊金山舉行的SEMICON West展會上發(fā)布多項(xiàng)全新光刻設(shè)備，讓芯片制造商能夠繼續(xù)縮小半導(dǎo)體器件尺寸。FlexRay™ (可編程照明技術(shù))和BaseLiner™ (反饋式調(diào)控機(jī)制)為ASML一體化光刻技術(shù) (holistic lithography)的一部分，具有高穩(wěn)定性，能夠優(yōu)化和穩(wěn)定制造工藝。

半導(dǎo)體行業(yè)發(fā)展的推動力量來自小型化趨勢，以降低生產(chǎn)成本，同時(shí)提高器件性能。不過，隨著半導(dǎo)體器件尺寸的縮小，工藝窗口(生產(chǎn)出合格芯片的工藝允許偏差)也相應(yīng)減小，使套刻精度和器件尺寸均勻性(critical dimension uniformity, CDU)等參數(shù)變得更為嚴(yán)格。

ASML 公司應(yīng)用產(chǎn)品部門資深副總裁Bert Koek 表示：“一直以來，芯片廠商對各個(gè)制造工藝步驟的優(yōu)化都是獨(dú)立進(jìn)行的，然而當(dāng)發(fā)展至32nm及更小節(jié)點(diǎn)時(shí)，這種獨(dú)立的優(yōu)化模式便不再適用。我們有效地綜合了計(jì)算光刻技術(shù)、晶圓光刻技術(shù)和工藝控制，提供了一個(gè)全面方案，針對量產(chǎn)的要求去優(yōu)化工藝窗口和光刻系統(tǒng)設(shè)置，最終實(shí)現(xiàn)更小的器件尺寸。”

在芯片設(shè)計(jì)階段，ASML的一體化光刻技術(shù)使用實(shí)際的光刻機(jī)配置和調(diào)節(jié)功能，以工藝窗口最大化為目標(biāo)來創(chuàng)建瞄準(zhǔn)指定工藝世代和應(yīng)用的設(shè)計(jì)。Brion Technologies公司總經(jīng)理Jim Koonmen表示：“我們在今年2月份發(fā)布了Tachyon SMO (光源掩模優(yōu)化) 技術(shù)，而這次發(fā)布的FlexRay為光瞳形狀帶來靈活性，并提供額外設(shè)計(jì)自由度。Tachyon SMO 和 FlexRay的結(jié)合，使光源掩模和照明源實(shí)現(xiàn)無以倫比的協(xié)同優(yōu)化，以獲得最大的工藝窗口。”

在制造過程中，ASML一體化光刻技術(shù)充分利用獨(dú)特的測量技術(shù)和反饋回路，監(jiān)控套準(zhǔn)精度及CDU性能，使系統(tǒng)持續(xù)以工藝規(guī)格為中心。BaseLiner™ 則能夠讓光刻機(jī)性能維持在預(yù)先定義的基準(zhǔn)范圍之內(nèi)，從而實(shí)現(xiàn)最佳工藝窗口，并提高產(chǎn)品良率。

Tachyon SMO、FlexRay 和 BaseLiner是ASML的Eclipse™ 一體化光刻設(shè)備系列眾多產(chǎn)品的其中三項(xiàng)。而每個(gè)Eclipse方案都是針對特定的客戶、工藝節(jié)點(diǎn)及應(yīng)用而量身定做的。

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關(guān)鍵字：摩爾定律法律牛津詞典

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