4月18日消息,據(jù)路透社報道,三星電子周五表示,公司已將最新的芯片制造技術(shù)授權(quán)給美國制造商GlobalFoundries。此舉旨在幫助后者改善生產(chǎn)力,以提高其在面對像蘋果這樣的大訂單時與臺積電的競爭力。GlobalFoundries是
臺積電(2330)今(17日)召開法說會,市場也聚焦臺積于資本支出CAPEX與先進制程的最新進展。臺積電財務(wù)長何麗梅指出,雖然此刻要估計明年資本支出CAPEX老實說還太早,不過粗估臺積明年CAPEX應(yīng)該約略與今年持平,維持在百
Mentor Graphics公司日前宣布,其集成電路設(shè)計到制造的整套解決方案已獲得TSMC 16nm FinFET工藝的設(shè)計規(guī)則手冊(DRM)和1.0版本SPICE模型認證。 該認證包括的工具有Calibre®物理驗證及可制造性設(shè)計(DFM)平臺、Ol
全空乏絕緣上覆矽(Fully depleted silicon-on-insulator,F(xiàn)D SOI)是 28奈米與 20奈米半導(dǎo)體制程節(jié)點的最佳解決方案,主要原因是該技術(shù)與塊狀CMOS制程技術(shù)相比,其成本與泄漏電流較低,性能表現(xiàn)則更高。 同樣是100mm
3月24日,在Synopsys公司2014年用戶大會的第一站-美國站上,Synopsys正式向業(yè)界發(fā)布了幾款重量級新產(chǎn)品,Synopsys官方稱之為業(yè)界最快的仿真系統(tǒng)ZeBu Server-3,為完整驗證流程提供革命性技術(shù)支持的Verification Comp
據(jù)業(yè)內(nèi)人士透露,臺積電(TSMC )可能改進16nm代工業(yè)務(wù),增加兩個更先進的工藝,從而與英特爾和三星電子的14nm代工業(yè)務(wù)競爭。根據(jù)臺積電原本路線圖,16nm FinFET工藝有望在2014年底試生產(chǎn),但是,現(xiàn)在臺積電決定在年底
在歷史上,半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的成長仰賴制程節(jié)點每一次微縮所帶來的晶體管成本下降;但下一代芯片恐怕不會再伴隨著成本下降,這將會是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)近20~30年來面臨的最嚴重挑戰(zhàn)。具體來說,新一代的20納米塊狀高介電金屬柵極(
在歷史上,半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的成長仰賴制程節(jié)點每一次微縮所帶來的電晶體成本下降;但下一代晶片恐怕不會再伴隨著成本下降,這將會是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)近20~30年來面臨的最嚴重挑戰(zhàn)。 具體來說,新一代的20奈米塊狀高介電金屬閘極
全球半導(dǎo)體大廠臺積電、英特爾(Intel)及三星電子(SamsungElectronics)在10納米級多重閘極3D架構(gòu)的鰭式場效電晶體(FinFET)技術(shù)展開激烈競爭,三星和英特爾為確保14納米FinFET技術(shù)領(lǐng)先,紛準備投入量產(chǎn),臺積電則致力于
訊:全球半導(dǎo)體大廠臺積電、英特爾(Intel)及三星電子(Samsung Electronics)在10納米級多重閘極3D架構(gòu)的鰭式場效電晶體(FinFET)技術(shù)展開激烈競爭,三星和英特爾為確保14納米FinFET技術(shù)領(lǐng)先,紛準備投入量產(chǎn),臺
全球半導(dǎo)體大廠臺積電、英特爾(Intel)及三星電子(Samsung Electronics)在10納米級多重閘極3D架構(gòu)的鰭式場效電晶體(FinFET)技術(shù)展開激烈競爭,三星和英特爾為確保14納米FinFET技術(shù)領(lǐng)先,紛準備投入量產(chǎn),臺積電則致力
日商大和證券昨(11)日指出,臺積電(2330)第一季營收可望優(yōu)于財測,且目前20奈米良率已達50%至60%,優(yōu)于三星(005930-KR),代表量產(chǎn)時間點會較三星提早一季,預(yù)估第二季營收成長率可達20%,市值更有望挑戰(zhàn)千億美元。故
重點:· 認證確保精確性方面不受影響,并包含用于65納米至14納米FinFET制程的物理驗證簽收的先進技術(shù)· 雙方共同的客戶可通過它與Cadence Virtuoso及Encounter平臺的無縫集成進行版圖設(shè)計和驗證版圖21
重點:·認證確保精確性方面不受影響,并包含用于65納米至14納米FinFET制程的物理驗證簽收的先進技術(shù)·雙方共同的客戶可通過它與CadenceVirtuoso及Encounter平臺的無縫集成進行版圖設(shè)計和驗證版圖全球電
FinFET晶體管大量的金錢和精力都花在探索FinFET工藝,它會持續(xù)多久和為什么要替代他們?在近期內(nèi),從先進的芯片工藝路線圖中看已經(jīng)相當清楚。芯片會基于今天的FinFET工藝技術(shù)或者另一種FDSOI工藝的平面技術(shù),有望可縮
FinFET晶體管大量的金錢和精力都花在探索FinFET工藝,它會持續(xù)多久和為什么要替代他們?在近期內(nèi),從先進的芯片工藝路線圖中看已經(jīng)相當清楚。芯片會基于今天的FinFET工藝技術(shù)或者另一種FDSOI工藝的平面技術(shù),有望可縮
大量的金錢和精力都花在探索FinFET工藝,它會持續(xù)多久和為什么要替代他們?在近期內(nèi),從先進的芯片工藝路線圖中看已經(jīng)相當清楚。芯片會基于今天的FinFET工藝技術(shù)或者另一種FDSOI工藝的平面技術(shù),有望可縮小到10nm節(jié)點
賽靈思(Xilinx)繼日前宣布旗下首款20納米FPGA系列產(chǎn)品,已在臺積電(2330)投片量產(chǎn),并由臺積電獨享代工大單后,昨(26)日又宣布完成全球首顆采用16納米FinFET(鰭式場效晶體管)的FPGA產(chǎn)品,力挺臺積電16納米制
對于英特爾來說,要想在移動芯片市場多分得一杯羹,就需要借助其更加先進的制造能力的優(yōu)勢。而今日宣布的新款A(yù)tom SoCs——舉例來說——即基于22nm的3D或“三柵極晶體管”工藝。與傳統(tǒng)的(基于平面晶體管結(jié)構(gòu)的)芯片相
對于英特爾來說,要想在移動芯片市場多分得一杯羹,就需要借助其更加先進的制造能力的優(yōu)勢。而今日宣布的新款A(yù)tom SoCs——舉例來說——即基于22nm的3D或“三柵極晶體管”工藝。與傳統(tǒng)