近期DRAM廠掀起一股40納米熱潮,這一切都要從爾必達(dá)(Elpida)說(shuō)起。因?yàn)闋柋剡_(dá)2009年沒(méi)錢(qián)轉(zhuǎn)進(jìn)50納米技術(shù)制程后,最后決定跳過(guò)50納米,直接轉(zhuǎn)進(jìn)45納米,這下刺激了美光(Micron)陣營(yíng),南亞科和華亞科近期宣布42納米制程
2010年4大DRAM陣營(yíng)三星電子(SamsungElectronics)、海力士(Hynix)、爾必達(dá)(Elpida)和美光(Micron)戰(zhàn)場(chǎng)直接拉到40納米世代!繼爾必達(dá)跳過(guò)50納米制程,大舉轉(zhuǎn)換至45納米后,美光陣營(yíng)也不甘示弱宣布年中將同步轉(zhuǎn)42納米。
臺(tái)積電新竹Fab 12第5期(phase 5)19日正式舉行上梁典禮,臺(tái)積電營(yíng)運(yùn)資深副總劉德音表示,phase 5預(yù)計(jì)2010年第3季投入28納米制程量產(chǎn),此外,南科Fab 14第4期廠房過(guò)完農(nóng)歷年后亦將開(kāi)始動(dòng)工興建,以加速擴(kuò)充40納米制程產(chǎn)
臺(tái)積電新竹Fab 12第5期(phase 5)19日正式舉行上梁典禮,臺(tái)積電營(yíng)運(yùn)資深副總劉德音表示,phase 5預(yù)計(jì)2010年第3季投入28納米制程量產(chǎn),此外,南科Fab 14第4期廠房過(guò)完農(nóng)歷年后亦將開(kāi)始動(dòng)工興建,以加速擴(kuò)充40納米制程產(chǎn)
2010已經(jīng)到來(lái),不過(guò)整個(gè)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)仍然存在著許多不確定因素……別慌張,來(lái)參考一下未卜先知水晶球吧!下面是來(lái)自EETimes美國(guó)版資深編輯Mark LaPedus針對(duì)新年度產(chǎn)業(yè)趨勢(shì)所做的25項(xiàng)預(yù)測(cè)及其分析,或許您可以從中獲得一
超微(AMD;AMD-US)旗下晶圓代工廠Global Fundries(GF) 8日宣布與高通(Qualcomm;QCOM-US)簽下45/40納米與28納米代工合約,臺(tái)積電(TSMC;TSM-US;2330-TW)稍后同時(shí)宣布,正與高通攜手推進(jìn)28納米,預(yù)計(jì)今年中投產(chǎn),顯示
臺(tái)積電40納米良率上軌道后,去年第四季40納米占單季營(yíng)收10%,約新臺(tái)幣90億元,在恩威迪亞、超微、博通等主力客戶助攻下,法人樂(lè)觀認(rèn)為本季臺(tái)積電40納米挑戰(zhàn)百億元(新臺(tái)幣,下同),在40納米代工市場(chǎng)市占率高達(dá)90%至
一度缺席全球DRAM產(chǎn)業(yè)50納米制程大戰(zhàn)的爾必達(dá)(Elpida),隨著美光(Micron)2010年加入50納米制程,爾必達(dá)狀況更顯得困窘,在經(jīng)過(guò)近1年臥薪嘗膽后,爾必達(dá)2010年開(kāi)春終于宣布,40納米6F2制程技術(shù)已于廣島廠順利完成試產(chǎn)
臺(tái)積電40納米良率上軌道后,去年第四季40納米占單季營(yíng)收10%,約新臺(tái)幣90億元,在恩威迪亞、超微、博通等主力客戶助攻下,法人樂(lè)觀認(rèn)為本季臺(tái)積電40納米挑戰(zhàn)百億元(新臺(tái)幣,下同),在40納米代工市場(chǎng)市占率高達(dá)90%至
韓國(guó)存儲(chǔ)器廠海力士(Hynix)于2009年12月20日發(fā)表40納米制程2GbGDDR5繪圖芯片DRAM,工作頻寬為7Gbps,32位元I/O通道,數(shù)據(jù)處理速率每秒28GB/s,電壓為1。35V。 新推出的GDDR5繪圖DRAM采用海力士40納米制程制造,體積
三星電子(Samsung Electronics)加速制程微縮,積極導(dǎo)入40納米制程,第4季已開(kāi)始小幅試產(chǎn)DDR3,預(yù)計(jì)2010年下半40納米將成為主流制程,成本結(jié)構(gòu)再度領(lǐng)先競(jìng)爭(zhēng)同業(yè),而美光 (Micron)陣營(yíng)50納米制程2010年大量產(chǎn)出,爾必
近期半導(dǎo)體業(yè)界再度傳出臺(tái)積電40納米制程良率大降至40%,導(dǎo)致繪圖芯片大客戶恩威迪亞(NVIDIA)、超微(AMD)出貨計(jì)畫(huà)順延,臺(tái)積電董事長(zhǎng)張忠謀29日對(duì)此證實(shí)指出,臺(tái)積電40納米制程確實(shí)遇到設(shè)備腔體接合(chamber matchin
隨著聯(lián)電、中芯等競(jìng)爭(zhēng)者45納米制程推展進(jìn)程加快,晶圓代工龍頭臺(tái)積電決定擴(kuò)大投資力道,全面拉開(kāi)與競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手差距,臺(tái)積電計(jì)劃南、北開(kāi)攻,啟動(dòng)新竹、南科12寸晶圓廠全新擴(kuò)產(chǎn)計(jì)畫(huà),總投資額將上看60億美元,預(yù)計(jì)2010年
隨著聯(lián)電、中芯等競(jìng)爭(zhēng)者45納米制程推展進(jìn)程加快,晶圓代工龍頭臺(tái)積電決定擴(kuò)大投資力道,全面拉開(kāi)與競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手差距,臺(tái)積電計(jì)劃南、北開(kāi)攻,啟動(dòng)新竹、南科12寸晶圓廠全新擴(kuò)產(chǎn)計(jì)畫(huà),總投資額將上看60億美元,預(yù)計(jì)2010年
中芯國(guó)際集成電路制造有限公司(「中芯國(guó)際」,紐約證交所股票代碼:SMI,香港聯(lián)合交易所股票代碼:0981今天宣布其45納米的互補(bǔ)型金屬氧化物半導(dǎo)體(CMOS)技術(shù)將延伸至40納米以及55納米。這些新工藝技術(shù)進(jìn)一步豐富了中
中芯國(guó)際(NYSE:SMI)日前宣布其45納米的互補(bǔ)型金屬氧化物半導(dǎo)體(CMOS)技術(shù)將延伸至40納米以及55納米。這些新工藝技術(shù)進(jìn)一步豐富了中芯國(guó)際現(xiàn)有的技術(shù)能力,更好地滿足全球客戶的需求,包括快速增長(zhǎng)的中國(guó)市場(chǎng)在內(nèi)。其