-
什么是“雙芯疊加”技術(shù)？
在芯片設(shè)計方面，華為公司也新曝出了一個“雙芯疊加”專利，這種方式甚至可以讓14nm芯片經(jīng)過優(yōu)化后比肩7nm性能。根據(jù)華為曝出的專利來看，華為這種“雙芯疊加”專利確實能夠大大提升14nm芯片的性能。當(dāng)然，如果說要比肩真正的7nm芯片，那可能還存在一定差距，就好比英特爾的14nm工藝...
-
英特爾加速制程工藝和封裝技術(shù)創(chuàng)新
7月27日，英特爾公布了公司有史以來最詳細的制程工藝和封裝技術(shù)路線圖，展示了一系列底層技術(shù)創(chuàng)新。
-
ASML新財報：首臺全新EUV極紫外光刻機交付！
作為全球第一光刻機供應(yīng)商,荷蘭ASML(阿斯麥)今天公布了2021年第二季度財報。
-
ASML第一臺全新EUV TWINSCAN NXE:3600D EUV極紫外光刻機交付
作為全球第一光刻機供應(yīng)商，荷蘭ASML(阿斯麥)今天公布了2021年第二季度財報。
-
臺積電6nm EUV火爆，高通、紫光展銳等搶單5G芯片
做為全球第一大晶圓代工廠廠，臺積電在先進工藝上遙遙領(lǐng)先其他對手，現(xiàn)在高通、聯(lián)發(fā)科及紫光展銳都在搶著下單，三家公司旗下的5G芯片都要上6nm EUV工藝。
-
ASML第二代EUV光刻機跳票三年：售價貴出天際！
第二代EUV光刻機原本預(yù)計最快2023年問世，但最新傳聞稱NXE:5000系列跳票，而且一下子就跳票三年，要到2025-2026年才有可能問世了。
-
三星意在美國建5nm EUV芯片廠，預(yù)計2024量產(chǎn)
在新一代半導(dǎo)體工藝中，美國本土的廠商已經(jīng)落后于三星、臺積電，Intel最先進的工藝現(xiàn)在還是10nm。日前有消息稱三星準備在美國建設(shè)5nm EUV芯片廠。
-
全球首顆2nm EUV芯片面世
日前，IBM宣布造出了全球第一顆2nm工藝的半導(dǎo)體芯片。
-
中國芯片沒有EUV光刻機，這該何去何從呢
提到芯片，就不得不說光刻機，因為光刻機是制造芯片的必要設(shè)備，沒有光刻機，芯片制造就從無談起。都知道，臺積電是全球芯片制造技術(shù)最先進的廠商，拿下了全球超過50%的芯片訂單，而臺積電之所領(lǐng)先，很大一部分原因就是因為其安裝了大量先進的EUV光刻機。據(jù)悉，EUV光刻機是全球頂尖技術(shù)的集合體，其零部件超過10萬多個，像美國的光源技術(shù)、德國徠卡的鏡片等等，雖然是ASML研發(fā)生產(chǎn)的，但90%的零部件都依賴進口。
-
ASML極紫外光技術(shù)培訓(xùn)中心在臺灣開張 就近服務(wù)臺積電
8月21日消息，據(jù)臺灣媒體報道，半導(dǎo)體行業(yè)光刻系統(tǒng)供應(yīng)商ASML（阿斯麥）的EUV(極紫外光刻)技術(shù)培訓(xùn)中心昨日在臺灣臺南科學(xué)園區(qū)開張，就近服務(wù)第一大客戶臺積電。 ASML ASML的EUV技術(shù)培訓(xùn)
-
三星官宣:首款采用EUV技術(shù)，16Gb LPDDR5 DRAM已開始量產(chǎn)
三星8月30日宣布，其位于韓國平澤的第二條生產(chǎn)線已開始量產(chǎn)業(yè)界首款采用極紫外光(EUV)技術(shù)的16Gb LPDDR5移動DRAM。新的16Gb LPDDR5基于三星第三代10nm級(1z)工藝打造，擁有當(dāng)下最高的移動產(chǎn)品內(nèi)置內(nèi)存性能和最大的容量。
-
臺積電占據(jù)業(yè)界 EUV光刻機安裝量的 50%，晶圓累計產(chǎn)量達60%
臺積電最近舉行了年度技術(shù)研討會，在會上透露了大量關(guān)于未來芯片制造業(yè)務(wù)的信息。其中包括關(guān)于臺積電先進工藝節(jié)點的新細節(jié)，比如 N5、N4、N3 和 N12e。
-
臺積電單位產(chǎn)品用電量去年上升17.9% 此前擬定目標(biāo)為降低11.5%
7月29日消息，據(jù)臺灣媒體報道，臺積電單位產(chǎn)品用電量去年上升17.9%，而該公司擬定的目標(biāo)為降低11.5%。 臺積電 臺積電未能達到計劃的提升能源使用效率的目標(biāo)。 臺媒稱，以執(zhí)行力著稱的臺積電管理團
-
內(nèi)存又要跌價了？SK海力士計劃在M16工廠引入EUV光刻機
在進入20nm節(jié)點之后，內(nèi)存工業(yè)也面臨著CPU工藝一樣的制造難題，微縮越來越困難，制造工藝復(fù)雜，導(dǎo)致內(nèi)存成本居高不下。如今7nm以下的處理器用上了EUV光刻機，內(nèi)存很快也要跟進了，SK海力士計劃在韓國
-
中國還需要EUV光刻機嗎？中芯國際：量產(chǎn)和研發(fā)工藝暫不需要
EUV光刻機是制造7nm以下節(jié)點先進工藝的必備工具，目前國內(nèi)還沒有EUV設(shè)備。作為國內(nèi)最先進的晶圓代工廠，中芯國際董事長周子學(xué)日前表態(tài)，該公司已經(jīng)量產(chǎn)和研發(fā)的工藝還不需要EUV光刻機。 光刻是半導(dǎo)體芯
-
中科院研發(fā)新型激光光刻技術(shù)：不用EUV 直擊5nm
荷蘭ASML公司是全球唯一能生產(chǎn)EUV光刻機的公司，他們之前表態(tài)7nm以下工藝都需要EUV光刻機才行?，F(xiàn)在中科院蘇州納米所的團隊開發(fā)了一種新的激光光刻技術(shù)，不需要使用EUV技術(shù)就可以制備出5nm特征線
-
技術(shù)奇跡！EUV光刻機被美國限制出口的真相
EUV光刻機是一項技術(shù)奇跡。 一臺發(fā)生器每秒噴射出5萬個微小的熔錫液滴，高功率激光對每個液滴進行兩次爆破，第一次可以使錫成形，第二次是使錫蒸發(fā)成等離子體。 等離子體發(fā)出極紫外光輻射，這種輻射聚集成光束
-
ASML放言：沒有我們的EUV光刻機 芯片廠商造不出7nm以下工藝
作為半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)過程中最重要的裝備，光刻機一直牽動人心，制程工藝越先進就要離不開先進光刻機。ASML副總裁Anthony Yen日前表態(tài)，如果沒有EUV光刻機，那么芯片廠商是造不出7nm以下工藝芯片
-
華為、蘋果7/5nm需求大 臺積電狂加EUV訂單
2020年因為全球經(jīng)濟的問題，本來電子行業(yè)會下滑，但是晶圓代工場合不降反升，臺積電Q1季度營收大漲了30%，牢牢坐穩(wěn)了全球晶圓代工一哥的位置。由于華為、蘋果等公司的7nm及5nm工藝需求大，臺積電目前
-
14nm工藝已量產(chǎn)華為麒麟芯片 中芯國際7nm研發(fā)多時
作為國內(nèi)最先進的晶圓代工廠，中芯國際SMIC去年底已經(jīng)量產(chǎn)了14nm工藝，Q1季度14nm工藝貢獻了1.3%的營收，預(yù)計到明年將貢獻10%的營收。 中芯國際14nm工藝一大重要進展就是成功為華為代工麒
