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照亮半導體創(chuàng)新之路
上海2024年9月5日 /美通社/ -- 全球半導體行業(yè)正處于爆炸性增長的軌道上，預計到2030年市場規(guī)模將達到驚人的1萬億美元（2023年超過5000億美元）。這種擴張主要由微處理器的持續(xù)小型化和不斷增強的性能所推動。每一代更小、更強大的芯片都使得全新的技術成為可能，同時也降低...
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英特爾完成全球首臺ASML High NA EUV光刻機組裝！
業(yè)內(nèi)消息，近日英特爾表示其已成為第一家完成組裝荷蘭ASML的新型“High NA”（高數(shù)值孔徑）EUV（極紫外）光刻設備的公司，目前已轉向光學系統(tǒng)校準階段。這是這家美國芯片制造商超越競爭對手的重要舉措。
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ASML已交付第三代EUV，用于制造2nm芯片！
業(yè)內(nèi)消息，最近ASML（阿斯麥）交付了第三代極紫外（EUV）光刻工具，新設備型號為Twinscan NXE:3800E，配備了0.33數(shù)值孔徑透鏡。相比于之前的Twinscan NXE:3600D，性能有了進一步的提高，可以支持未來幾年3nm及2nm芯片的制造。
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三星斥資 10 萬億大量采購 ASML 光刻機
日前韓國今日電子新聞報道稱三星計劃斥巨資進口大量的半導體設備，其中包括更多的 ASML 極紫外（EUV）光刻設備。盡管因為合同中的保密條款未能披露具體細節(jié)，但證券市場消息稱，該協(xié)議將使 ASML 在五年內(nèi)提供總共 50 套設備，而每臺單價約為 2000 億韓元（當前約合人民幣 11.16 億），總價值可達 10 萬億韓元（當前約合人民幣 558 億）。
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佳能 CEO：納米壓印“光刻機”無法出口中國！
上個月佳能（Canon）發(fā)布了一個名為 FPA-1200NZ2C 的納米壓印半導體制造設備，號稱通過納米壓印光刻（NIL）技術實現(xiàn)了目前最先進的半導體工藝。然而，近日佳能首席執(zhí)行官三井藤夫在采訪中表示，該設備無法出口到中國。
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挑戰(zhàn) EUV！佳能發(fā)布新型 2nm 光刻機
最新消息，近日佳能(Canon)發(fā)布了一個名為 FPA-1200NZ2C 的納米壓印半導體制造設備，號稱通過納米壓印光刻(NIL)技術實現(xiàn)了目前最先進的半導體工藝。
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國產(chǎn)“光刻廠”落地？官方正式回應！
近日，網(wǎng)傳清華大學的國產(chǎn) EUV 方案通過用“空間”換“時間”的方式，通過將光刻機放大為光刻廠的方案來規(guī)避技術難點，實現(xiàn)“換道超車”。對此，昨天下午中國電子工程設計院官方表示，該項目并非網(wǎng)傳的國產(chǎn)光刻機工廠，而是北京高能同步輻射光源項目(HEPS)。
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臺積電美國鳳凰城工廠導入第一臺 EUV
業(yè)內(nèi)消息，臺積電亞利桑那鳳凰城的晶圓廠已經(jīng)導入了當?shù)氐谝慌_極紫外光(EUV)設備。
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ASML 和 IMEC 將合作研發(fā) high-NA EUV 光刻技術
據(jù)業(yè)內(nèi)消息，近日荷蘭半導體設備巨頭 ASML 和比利時微電子研究中心(IMEC)宣布雙方將在開發(fā)最先進高數(shù)值孔徑(High-NA)極紫外(EUV)光刻試驗線的下一階段加強合作，為使用半導體技術的行業(yè)提供原型設計平臺和未開發(fā)的未來機遇。
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在日本援助下，美光將在廣島 DRAM 工廠安裝 EUV
據(jù)業(yè)內(nèi)信息，美光在日本政府的援助下向其位于廣島的 DRAM 工廠投資了 37 億美元，該公司計劃在廣島工廠安裝 EUV 設備來升級工藝，進而使廣島工廠能夠制造美光最新一代 DRAM(1-gamma)，這將是日本首次使用 EUV 設備。
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為減少支出，美光1γnm DRAM推遲到2025年
因為計算機內(nèi)存芯片需求下降的狀況下產(chǎn)生眾多供應和開支方面的問題，美光明年將裁員10%，并采取其他削減成本的措施，比如將1γnm DRAM推遲到2025年。
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ASML：2022年EUV出貨超50臺，下一代2年后面世
據(jù)業(yè)內(nèi)信息，近日全球光刻機巨頭ASML在今年的半導體EUV生態(tài)系統(tǒng)全球大會上表示，EUV設備出貨量這幾年來不斷上升，去年大約為42臺，而今年預測將超過50臺。2024年年底預計推出下一代High-NA EUV設備。
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日本拋橄欖枝：邀請臺積電擴建二廠并引入EUV
據(jù)業(yè)內(nèi)消息，近日日本政府再次對臺積電拋出橄欖枝，希望臺積電在日本建設第二座芯片代工廠，同時日本表示希望ASML公司在先進制程方面和臺積電合作。
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采用6nm EUV先進制程，紫光展銳發(fā)布T820處理器
據(jù)業(yè)內(nèi)信息，紫光展銳發(fā)布了采用6nm EUV先進制程的T820處理器，該處理器是系統(tǒng)級安全高性能5G SoC 8核心CPU芯片。
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最近申請的一項光刻裝置專利到底是什么呢？公開圖紙，我們也造不出來？
11 月 19 日消息，在半導體行業(yè)，極紫外光刻技術 (Extreme Ultraviolet，EUV) 對于未來光刻技術乃至于先進制程有著重要意義。
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ASML再次拒絕，美國對荷蘭的游說又失敗?
據(jù)業(yè)內(nèi)信息報道，本月美國和荷蘭談判并游說ASML不要將光刻機設備出口給中國，但是遭到了ASML的再次拒絕。
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禁止向中國出口光刻機！華盛頓談判施壓荷蘭，首相表態(tài)
自從美國出口管制措施后，荷蘭ASML對我國的光刻機貿(mào)易就受到了一些限制，但近日華盛頓當局將從光刻機領域尋求對華的進一步技術封鎖。
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阿斯麥第三季度凈銷售額同比增長10.24%
荷蘭光刻機巨頭阿斯麥(ASML)發(fā)布2022年第三季度業(yè)績。期內(nèi)凈銷售額58億歐元，同比增長10.24%；凈利潤17億歐元，同比下降2.24%。第三季度，ASML賣出了80臺全新的光刻系統(tǒng)，以及6臺二手光刻系統(tǒng)。三季度新增訂單金額達到約89億歐元，創(chuàng)下歷史新高，這其中38億歐元來...
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AMD笑而不語 Intel CPU將實現(xiàn)10年來最大升級：首次128核+“3nm EUV”
在桌面級處理器上，AMD多年來一直在多核上有優(yōu)勢，不過12代酷睿開始，Intel通過P、E核異構實現(xiàn)了反超，13代酷睿做到了24核32線程，核心數(shù)已經(jīng)超過了銳龍7000的最大16核。在服務器處理器上，AMD優(yōu)勢更大，64核128線程的都用了兩代了，Zen4這一代的Genoa做到了...
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目前最高制造精度，美Zyvex產(chǎn)出0.7nm線寬芯片
據(jù)業(yè)內(nèi)消息，近日美國一家商業(yè)精密制造公司Zyvex表示制出了亞納米分辨率光刻系統(tǒng)ZyvexLitho1，這個系統(tǒng)沒有采用EUV光刻技術，但是卻能產(chǎn)出只有0.7nm線寬的芯片，是目前最高制造精度。
