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Intel 7nm EUV工藝2021年首發(fā)：密度翻倍 每瓦性能提升20%
在制程工藝上，Intel從2015年到現(xiàn)在一直在魔改14nm工藝，10nm工藝說是今年6月份量產(chǎn)了，但在時(shí)間進(jìn)度上確實(shí)要比臺(tái)積電等公司落后了，AMD今年都出7nm的CPU和顯卡了。今年5月份的投資會(huì)議
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三星5nm EUV工藝關(guān)鍵突破：能效提升25％
眼下，臺(tái)積電和三星都在全力沖刺5nm工藝，這將是7nm之后的又一個(gè)重要節(jié)點(diǎn)，全面應(yīng)用EUV極紫外光刻技術(shù)，提升效果會(huì)非常明顯，所以都受到了高度重視?，F(xiàn)在，三星的5nm取得了重要進(jìn)展，來自EDA(電子自
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韓媒：日本若擴(kuò)大限制名單，將會(huì)威脅三星EUV工程
日本出臺(tái)對(duì)韓限制出口政策引發(fā)韓國(guó)企業(yè)跳腳，《媒體》更進(jìn)一步指出，由日本獨(dú)占市場(chǎng)的光罩基底（Mask Blank）可能成為下一個(gè)犧牲品，外界擔(dān)憂，三星電子EUV工程（極紫外光）可能因此受沖擊。據(jù)《韓聯(lián)
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臺(tái)積電5nm 流片需3億，僅剩蘋果華為嘗鮮
臺(tái)積電首席財(cái)務(wù)官何麗梅日前表示，臺(tái)積電5納米制造工藝預(yù)計(jì)將于2020年上半年實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)，這意味著蘋果公司的下一代A系列處理器將率先采用5納米制造工藝。
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臺(tái)積電打遍天下無敵手，臺(tái)灣大規(guī)模投資潮即將打來？
臺(tái)灣南部科學(xué)工業(yè)園區(qū)的最北端，正轟轟隆隆趕工中的是臺(tái)積電最新的18廠，將成為世界第一條真正將EUV大規(guī)模投入實(shí)戰(zhàn)的產(chǎn)線。
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三星即將推Exynos 9825處理器：7nm EUV，用于地表最強(qiáng)旗艦
在7nm工藝上，三星沒有爭(zhēng)取到多少客戶，而且三星選擇直接進(jìn)入EUV時(shí)代，進(jìn)度也不如臺(tái)積電，自家的Exynos 9820處理器都沒趕上7nm EUV工藝，好在今年6月份三星真的能夠量產(chǎn)7nm EUV工藝
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臺(tái)積電 7nm EUV 已量產(chǎn)，產(chǎn)能今年將提升 150%
5月27日消息，據(jù)國(guó)外媒體報(bào)道，在芯片工藝方面，臺(tái)積電近幾年都走在行業(yè)前列，在去年率先量產(chǎn)7nm工藝之后，其更先進(jìn)的7nm EUV工藝也已開始量產(chǎn)。
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下血本擴(kuò)充產(chǎn)能！臺(tái)積電投資1217.82億新臺(tái)幣
晶圓代工龍頭廠臺(tái)積電14日董事會(huì)決議，為升級(jí)并擴(kuò)充先進(jìn)制程產(chǎn)能，加上欲轉(zhuǎn)換部分邏輯制程產(chǎn)能為特殊制程產(chǎn)能，通過資本預(yù)算約1217.82億元新臺(tái)幣(單位下同)。
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決戰(zhàn)7nm EUV，臺(tái)積電和三星拼出“生死時(shí)速”
當(dāng)前用于蘋果A12、驍龍855、麒麟980的7nm工藝是臺(tái)積電的第一代，而技術(shù)更先進(jìn)、集成EUV光刻技術(shù)的第二代7nm也終于塵埃落定。最新報(bào)道稱，臺(tái)積電將在今年第二季度末開始7nm EUV量產(chǎn)，其中麒麟985先行。
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7nm EUV芯片來啦！三星宣布今年6月開啟大規(guī)模生產(chǎn)
據(jù)businesskorea報(bào)道，三星電子將于今年6月開始大規(guī)模生產(chǎn)7納米(nm)極紫外(EUV)芯片。
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三星工廠完成，于 2020 年底前量產(chǎn) 7 納米
在當(dāng)前全球晶圓制造的先進(jìn)制程領(lǐng)域中，只剩下臺(tái)積電、三星以及英特爾可以一較高下。三星雖然早在 2018 年 10 月份就已經(jīng)宣布量產(chǎn) 7 納米 EUV 制程，但實(shí)際情況并非如此。因?yàn)?，就連三星自己的 Exynos 9820 處理器都沒用上 7 納米 EUV 制程，這是因?yàn)槿堑?7 納米工廠過去一直都沒完成。直到日前，三星提交的報(bào)告顯示，他們投資 13 億美元的華城生產(chǎn)線已經(jīng)完成建設(shè)工作，三星的 7 納米 EUV 制程現(xiàn)在才算真正進(jìn)入量產(chǎn)。
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ASML已同意收購(gòu)Mapper知識(shí)產(chǎn)權(quán)資產(chǎn)
ASML今天宣布，已同意收購(gòu)位于荷蘭代爾夫特的高科技公司Mapper的知識(shí)產(chǎn)權(quán)資產(chǎn)。此外，ASML還打算為Mapper在研發(fā)和產(chǎn)品組裝方面的員工提供合適的職位。
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三星7nm EUV技術(shù)正式接單，IBM向其拋出橄欖枝
IBM亦結(jié)束了與過去CPU制造合作伙伴格羅方德(GlobalFoundries)共同開發(fā)7奈米制程的技術(shù)， IBM所授予Globalfroundies制造協(xié)議，包括晶圓廠等，都將于本月劃上句點(diǎn)。
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新思科技攜手中科院微電子所成立EUV光刻仿真聯(lián)合實(shí)驗(yàn)室
近日，新思科技與中國(guó)科學(xué)院微電子研究所強(qiáng)強(qiáng)聯(lián)手，正式組建“EUV光刻仿真聯(lián)合實(shí)驗(yàn)室”并舉行揭牌儀式。雙方聯(lián)合宣布將在北京合作共建國(guó)際一流、國(guó)內(nèi)領(lǐng)先的聯(lián)合實(shí)驗(yàn)室，共同合作開發(fā)基于EUV的光刻仿真及應(yīng)用，致力提高中國(guó)EUV研發(fā)能力并共同培養(yǎng)該領(lǐng)域尖端人才。該聯(lián)合實(shí)驗(yàn)室得到了北京市科學(xué)技術(shù)委員會(huì)國(guó)際科技合作專項(xiàng)的支持。
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7nm時(shí)代來臨，明年臺(tái)積電將代工100多款7nm芯片
來自外媒的消息報(bào)道說，預(yù)計(jì)到2018年底，臺(tái)積電用7nm工藝完成流片的芯片設(shè)計(jì)將超過50款，而到2019年底會(huì)有100多款芯片采用其7nm和增強(qiáng)版7nm EUV極紫外光刻技術(shù)。
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ASML、IMEC聯(lián)合研發(fā)第二代EUV光刻機(jī)，制造更小的晶體管
隨著三星宣布7nm EUV工藝的量產(chǎn)，2018年EUV光刻工藝終于商業(yè)化了，這是EUV工藝研發(fā)三十年來的一個(gè)里程碑。不過EUV工藝要想大規(guī)模量產(chǎn)還有很多技術(shù)挑戰(zhàn)，目前的光源功率以及晶圓產(chǎn)能輸出還沒有達(dá)
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臺(tái)積電7nm有多厲害？包攬2018年7nm 工藝
雖然本周三星宣布7nm LPP量產(chǎn)，且還導(dǎo)入了EUV光刻技術(shù)，但事實(shí)是，基于臺(tái)積電7nm打造的蘋果A12芯片、華為麒麟980等都已經(jīng)商用，三星7nm的成品仍舊是個(gè)未知數(shù)，保守來說，或許要等到明年的新E
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存儲(chǔ)器產(chǎn)業(yè)也將引入EUV技術(shù)，三星、SK海力士開始，最快2020年量產(chǎn)
根據(jù)韓國(guó)媒體的報(bào)導(dǎo)，不論是處理器還是存儲(chǔ)器，現(xiàn)在的半導(dǎo)體生產(chǎn)幾乎都離不開光刻機(jī)。至于采不采用最先進(jìn)的EUV極紫外光光科技術(shù)目前主要是看廠商的需求及成本。相較來說，以邏輯芯片的處理器產(chǎn)品來看，因?yàn)樵谥瞥坦?jié)點(diǎn)推進(jìn)到7納米制程之后，對(duì)EUV技術(shù)的需求就明顯而直接。而且越往下的先進(jìn)制程，未來也就越仰賴EUV技術(shù)。
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日媒稱：中國(guó)半導(dǎo)體行業(yè)采購(gòu)歐洲設(shè)備以尋找出路
日媒稱，日前獲悉，中國(guó)新興半導(dǎo)體存儲(chǔ)器企業(yè)合肥長(zhǎng)鑫計(jì)劃從半導(dǎo)體制造設(shè)備廠商荷蘭阿斯麥(ASML)引進(jìn)最尖端設(shè)備。報(bào)道稱，中國(guó)由于與美國(guó)的貿(mào)易戰(zhàn)和高科技摩擦日趨激烈，越來越難以從美國(guó)引進(jìn)技術(shù)。為了發(fā)展屬于產(chǎn)業(yè)創(chuàng)新關(guān)鍵的半導(dǎo)體，將轉(zhuǎn)向采購(gòu)歐洲設(shè)備以尋找出路。
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臺(tái)積電EUV工藝7+nm投片，明年4月試產(chǎn)EUV 5nm
在工藝技術(shù)方面，臺(tái)積電宣布以N7+工藝節(jié)點(diǎn)投片客戶芯片，該工藝節(jié)點(diǎn)采用可處理4層光罩的EUV。而其N5 EUV則可提高到處理多達(dá)14層光罩，并將在明年4月準(zhǔn)備好進(jìn)行風(fēng)險(xiǎn)試產(chǎn)。透過EUV技術(shù)可望減少先進(jìn)設(shè)計(jì)所需的光罩?jǐn)?shù)，從而降低成本。
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