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2010決勝年 ASML 主攻38納米、EUV設(shè)備
全球最大半導(dǎo)體微顯影設(shè)備業(yè)者ASML表示，目前客戶訂單增加相當(dāng)多，但主是來(lái)自半導(dǎo)體業(yè)者制程微縮而非產(chǎn)能擴(kuò)充的需求，半導(dǎo)體業(yè)者仍持續(xù)微縮半導(dǎo)體制程，摩爾定律預(yù)料將持續(xù)延續(xù)。以目前ASML最先進(jìn)的浸潤(rùn)式微顯影機(jī)種
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EUV: 一場(chǎng)輸不起的賭局
2010年， ASML將有5臺(tái)最先進(jìn)的EUV設(shè)備整裝發(fā)往全球的5家客戶。業(yè)界傳言，最新的NXE3100系統(tǒng)將發(fā)送給3家頂級(jí)存儲(chǔ)器廠商和2家頂級(jí)邏輯廠商。EUV勝利的曙光正在向我們招手，雖然目前工程師們還在荷蘭Veldhoven專為EUV新
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EUV蓄勢(shì)待發(fā) Carl Zeiss向ASML出貨EUV光學(xué)系統(tǒng)
德國(guó)Carl Zeiss SMT AG已向半導(dǎo)體設(shè)備商ASML出貨首臺(tái)EUV光學(xué)系統(tǒng)。該公司已使EUV光學(xué)系統(tǒng)達(dá)到了生產(chǎn)要求。光學(xué)系統(tǒng)是EUV設(shè)備的核心模塊，首臺(tái)EUV設(shè)備預(yù)計(jì)將在2010年出貨。幾周前，美國(guó)公司Cymer完成了EUV光源的開(kāi)發(fā)，
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半導(dǎo)體設(shè)備業(yè)的“合作”難題
在Semicon West期間的一場(chǎng)記者會(huì)上，兩大半導(dǎo)體設(shè)備廠應(yīng)材(Applied Materials)與TEL (Tokyo Electron Ltd)的高層正好在貴賓桌上分坐兩端；這也許是巧合，但也可能不是──畢竟這兩家公司向來(lái)是死對(duì)頭，雙方大有理由王
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ASML的上半年訂單落空 預(yù)期下半年有望回復(fù)
按全球第一大光刻設(shè)備供應(yīng)商ASML公司的預(yù)估，其Q1的銷售額將從08年Q4的4.94億歐元下降到1.84億歐元，而去年同期為9.19億歐元，下降達(dá)80％。 ASML預(yù)計(jì)Q2的銷售額在2.1-2.3億歐元間，因?yàn)槭芄に囍瞥痰倪M(jìn)一步縮小推動(dòng)
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臺(tái)積電28nm工藝仍將采用液浸ArF曝光 EUV將用于22nm以下工藝
臺(tái)積電（TSMC）于2008年10月20日在橫浜舉行的技術(shù)研討會(huì)“TSMC 2008 Technology Symposium”上公布了其有關(guān)曝光技術(shù)的發(fā)展藍(lán)圖。 該公司首先公布了未來(lái)的發(fā)展方針，表示繼已量產(chǎn)的40nm工藝之后，預(yù)定2010年初開(kāi)始
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IMEC將在2010年上半年制預(yù)投產(chǎn)EUV光刻機(jī)
據(jù)EETimes報(bào)道，歐洲研發(fā)機(jī)構(gòu)IMEC首席運(yùn)營(yíng)官Luc Van den Hove表示，IMEC將在2010年上半年制成預(yù)投產(chǎn)EUV（極紫外）光刻設(shè)備。 按照目前的進(jìn)程，該設(shè)備將于2012年在IMEC的300mm生產(chǎn)線上投產(chǎn)。盡管對(duì)于EUV在商業(yè)制造中
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日本啟動(dòng)EUV光源開(kāi)發(fā)項(xiàng)目
據(jù)半導(dǎo)體國(guó)際網(wǎng)站報(bào)道，日前一個(gè)關(guān)于極紫外（EUV）光刻光源開(kāi)發(fā)的新聯(lián)盟在日本啟動(dòng)，這是繼EUV曝光技術(shù)開(kāi)發(fā)完成后，日本極紫外光刻系統(tǒng)開(kāi)發(fā)協(xié)會(huì)(ExtremeUltravioletLithographySystemDevelopmentAssociation，EUVA，
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2008年半導(dǎo)體行業(yè)十大預(yù)言
新年好！2008年剛剛開(kāi)始呈現(xiàn)在電子行業(yè)面前，根據(jù)最新的行業(yè)數(shù)據(jù)，在空氣中就已經(jīng)彌漫著不確定性。對(duì)于2008年及其以后的整個(gè)半導(dǎo)體以及IC設(shè)備的展望，行業(yè)預(yù)測(cè)專家似乎具有不同的觀點(diǎn)。為了幫助澄清市場(chǎng)中似是而非的
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22納米后EUV光刻還是電子束光刻？市場(chǎng)看法存分歧
浸潤(rùn)式微顯影雙重曝光能進(jìn)一步延伸摩爾定律的壽命至32納米，不過(guò)，22納米以下究竟哪種技術(shù)得以出頭，爭(zhēng)議不斷。據(jù)了解，臺(tái)積電目前正積極研發(fā)22納米以下直寫(xiě)式多重電子束(MEBDW)方案，并已有具體成果，但積極推動(dòng)深紫
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EUV時(shí)代已來(lái)臨，ASML全力以赴
ASML公司EUV(Extreme ultraviolet)系統(tǒng)產(chǎn)品開(kāi)發(fā)經(jīng)理Hans Meiling透露，其公司采用EUV alpha演示工具印制出了亞40納米光阻圖像。 Meiling在提交給SPIE微光刻大會(huì)的一篇論文中匯報(bào)了EUV領(lǐng)域的進(jìn)展，包括EUV掩膜、可工
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以色列邀和黃購(gòu)國(guó)營(yíng)固網(wǎng)
以 色 列 電 訊 部 長(zhǎng) Reuven Rivlin 本 周 一 曾 與 和 黃 ( 0013 ) 主 席 李 嘉 誠(chéng) 共 晉 午 膳 ， 并 邀 請(qǐng) 和 黃 收 購(gòu) 以 色 列 的 國(guó) 營(yíng) 固 網(wǎng) 公 司 Bezeq 。 以 色 列 政 府 已 委 托 美 林 安 排 出
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