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麻理將電子束光刻可刻制最小圖像尺寸降至9nm
麻省理工學(xué)院的研究人員表示，他們已經(jīng)研制出了一種可以刻制尺寸為9nm圖像的電子束光刻技術(shù)，而此前電子束光刻技術(shù)所能刻制的圖像尺寸極限則為25nm左右.有關(guān)這次研究的詳細(xì)內(nèi)容將發(fā)表在下一期的《微電子工程》（ Mic
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光源供應(yīng)商看好EUV導(dǎo)入量產(chǎn)時(shí)程
盡管紫外光微影(EUV)的一再延遲，已讓人對(duì)于它的實(shí)際商用時(shí)程產(chǎn)生疑問(wèn)，但 EUV 光源供應(yīng)商 Cymer 表示，隨著可提高晶圓產(chǎn)出的新一代光源技術(shù)日漸成熟，預(yù)估最快在14nm節(jié)點(diǎn)， EUV 將可望導(dǎo)入晶圓的量產(chǎn)中。Cymer迄今已
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光源問(wèn)題仍是EUV光刻技術(shù)中的難題
GlobalFoundries公司的光刻技術(shù)專家Obert Wood在最近召開(kāi)的高級(jí)半導(dǎo)體制造技術(shù)會(huì)議ASMC2011上表示，盡管業(yè)界在改善EUV光刻機(jī)用光源技術(shù)方面取得了一定成效，但光源問(wèn)題仍是EUV光 刻技術(shù)成熟過(guò)程中最“忐忑”的因素。
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GlobalFoundries光刻專家談EUV最新進(jìn)展
GlobalFoundries公司的光刻技術(shù)專家Obert Wood在最近召開(kāi)的高級(jí)半導(dǎo)體制造技術(shù)會(huì)議ASMC2011上表示，盡管業(yè)界在改善EUV光刻機(jī)用光源技術(shù)方面取得了一定成效，但光源問(wèn)題仍是EUV光刻技術(shù)成熟過(guò)程中最“忐忑”的因素。O
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臺(tái)積電將加入日本主導(dǎo)的國(guó)際半導(dǎo)體工藝研發(fā)聯(lián)盟
日本 Renesas Electronics(瑞薩電子) 和臺(tái)積電，將加入一個(gè)由日本主導(dǎo)、從事新世代芯片制程技術(shù)開(kāi)發(fā)的國(guó)際聯(lián)盟。該聯(lián)盟預(yù)計(jì)這個(gè)月開(kāi)始研發(fā) EUV (超紫外光) 微影技術(shù)，目標(biāo)在 2015 年底前結(jié)束。企業(yè)成員將運(yùn)用這項(xiàng)技術(shù)
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臺(tái)積電將加入國(guó)際半導(dǎo)體工藝研發(fā)聯(lián)盟
《日本經(jīng)濟(jì)新聞》日前報(bào)導(dǎo)，日本 Renesas Electronics(瑞薩電子) 和臺(tái)積電，將加入一個(gè)由日本主導(dǎo)、從事新世代芯片制程技術(shù)開(kāi)發(fā)的國(guó)際聯(lián)盟。該聯(lián)盟預(yù)計(jì)這個(gè)月開(kāi)始研發(fā) EUV (超紫外光) 微影技術(shù)，目標(biāo)在 2015 年底前結(jié)
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臺(tái)積電 加入EIDEC聯(lián)盟
臺(tái)積電(2330)及日本IDM廠客戶瑞薩電子（Renesas）決定加入由日本半導(dǎo)體業(yè)聯(lián)合出資成立的EUVL基盤開(kāi)發(fā)中心（EIDEC），與英特爾、三星、信越化學(xué)、旭硝子等國(guó)際級(jí)半導(dǎo)體廠合作，共同投入次世代極紫外光（EUV）微影技術(shù)
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半導(dǎo)體三王聯(lián)手日經(jīng)：臺(tái)積電將加入國(guó)際制程研發(fā)聯(lián)盟
傳臺(tái)積電將加入國(guó)際制程研發(fā)聯(lián)盟《日本經(jīng)濟(jì)新聞》周五報(bào)導(dǎo)，日本RenesasElectronics(6723-JP)(瑞薩電子)和臺(tái)積電(2330-TW)，將加入一個(gè)由日本主導(dǎo)、從事新世代晶片制程技術(shù)開(kāi)發(fā)的國(guó)際聯(lián)盟。該聯(lián)盟預(yù)計(jì)這個(gè)月開(kāi)始研發(fā)
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半導(dǎo)體三王聯(lián)手日經(jīng)：臺(tái)積電將加入國(guó)際制程研發(fā)聯(lián)盟
傳臺(tái)積電將加入國(guó)際制程研發(fā)聯(lián)盟 《日本經(jīng)濟(jì)新聞》周五報(bào)導(dǎo)，日本Renesas Electronics(6723-JP)(瑞薩電子) 和臺(tái)積電(2330-TW)，將加入一個(gè)由日本主導(dǎo)、從事新世代晶片制程技術(shù)開(kāi)發(fā)的國(guó)際聯(lián)盟。 該聯(lián)盟預(yù)計(jì)
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SEMI研究報(bào)告稱2012年全球光刻掩膜板市場(chǎng)預(yù)計(jì)可達(dá)32億美元的規(guī)模
SEMI研究報(bào)告最新研究報(bào)告顯示，2010年全球半導(dǎo)體光刻掩膜板市場(chǎng)達(dá)到了30億元規(guī)模，預(yù)估2012年這一數(shù)字可達(dá)32億美元。由于有2008和2009連續(xù)兩年的簽約保障下，半導(dǎo)體光刻掩膜板市場(chǎng)在2010年增長(zhǎng)了10%，而未來(lái)兩年光刻
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ASML單價(jià)近一億美元的EUV光刻機(jī)訂單已達(dá)10臺(tái) 預(yù)計(jì)2012年開(kāi)始正式交貨
2010年浸潤(rùn)式微米光刻機(jī)臺(tái)設(shè)備(Immersion Scanner)大缺貨，形成DRAM產(chǎn)業(yè)轉(zhuǎn)進(jìn)40納米工藝的天險(xiǎn)，隨著缺貨問(wèn)題解決，ASML針對(duì)20納米工藝，推出深紫外光(EUV)機(jī)臺(tái)，目前已有10臺(tái)訂單在手，預(yù)計(jì)2012年將正式交貨；不過(guò)，
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ASML單價(jià)近一億美元的EUV光刻機(jī)訂單已達(dá)10臺(tái) 預(yù)計(jì)2012年開(kāi)始正式交貨
2010年浸潤(rùn)式微米光刻機(jī)臺(tái)設(shè)備(ImmersionScanner)大缺貨，形成DRAM產(chǎn)業(yè)轉(zhuǎn)進(jìn)40納米工藝的天險(xiǎn)，隨著缺貨問(wèn)題解決，ASML針對(duì)20納米工藝，推出深紫外光(EUV)機(jī)臺(tái)，目前已有10臺(tái)訂單在手，預(yù)計(jì)2012年將正式交貨；不過(guò)，對(duì)
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ASML單價(jià)近一億美元EUV光刻機(jī)訂單已達(dá)10臺(tái)
2010年浸潤(rùn)式微米光刻機(jī)臺(tái)設(shè)備(Immersion Scanner)大缺貨，形成DRAM產(chǎn)業(yè)轉(zhuǎn)進(jìn)40納米工藝的天險(xiǎn)，隨著缺貨問(wèn)題解決，ASML針對(duì)20納米工藝，推出深紫外光(EUV)機(jī)臺(tái)，目前已有10臺(tái)訂單在手，預(yù)計(jì)2012年將正式交貨;不過(guò)，對(duì)
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2012年光刻掩膜板市場(chǎng)預(yù)計(jì)可達(dá)32億美元
SEMI研究報(bào)告最新研究報(bào)告顯示，2010年全球半導(dǎo)體光刻掩膜板市場(chǎng)達(dá)到了30億元規(guī)模，預(yù)估2012年這一數(shù)字可達(dá)32億美元。由于有2008和2009連續(xù)兩年的簽約保障下，半導(dǎo)體光刻掩膜板市場(chǎng)在2010年增長(zhǎng)了10%，而未來(lái)兩年光刻
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臺(tái)積電加入SEMATECH組織
晶圓代工龍頭臺(tái)積電（2330）昨（11）日宣布，為了加速半導(dǎo)體技術(shù)研發(fā)，決定加入美國(guó)半導(dǎo)體制造技術(shù)產(chǎn)業(yè)聯(lián)盟SEMATECH組織，并成為核心成員之一。臺(tái)積電希望藉由加入SEMATECH，與成員合作開(kāi)發(fā)20納米以下先進(jìn)制程，包括
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EUV光源廠商散伙 EUV未來(lái)充滿變數(shù)
日本的Komatsu和Ushio稍早前宣布，已終止有關(guān)光源合資企業(yè)Gigaphoton的合作協(xié)議。Komatsu將從Ushio手中買下50%股權(quán)。未來(lái)Gigaphoton將成為Komatsu的全資子公司。而此舉會(huì)為EUV的未來(lái)投下何種變數(shù)仍有待觀察。成立于2
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EUV光源廠商散伙
日本的Komatsu和Ushio稍早前宣布，已終止有關(guān)光源合資企業(yè)Gigaphoton的合作協(xié)議。Komatsu將從Ushio手中買下50%股權(quán)。未來(lái)Gigaphoton將成為Komatsu的全資子公司。而此舉會(huì)為EUV的未來(lái)投下何種變數(shù)仍有待觀察。成立于2
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EUV光源廠商散伙，EUV未來(lái)充滿變數(shù)
日本的Komatsu和Ushio稍早前宣布，已終止有關(guān)光源合資企業(yè)Gigaphoton的合作協(xié)議。Komatsu將從Ushio手中買下50%股權(quán)。未來(lái)Gigaphoton將成為Komatsu的全資子公司。而此舉會(huì)為EUV的未來(lái)投下何種變數(shù)仍有待觀察。成立于2
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EUV光源廠商Ushio從Gigaphoton撤資
日本小松公司(Komatsu)與Ushio公司近日決定終止兩家公司有關(guān)EUV光刻機(jī)光源合資廠商Gigaphoton項(xiàng)目的合資合同。小松將從Ushio公司手中收購(gòu)Gigaphoton余下的50%股份，這樣Gigaphoton將成為小松的獨(dú)資公司。Gigaphoton原
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Komatsu、Ushio拆夥 影響EUV光源開(kāi)發(fā)？
日本的 Komatsu 和 Ushio 稍早前宣布，已終止有關(guān)光源合資企業(yè) Gigaphoton 的合作協(xié)議。 Komatsu 將從 Ushio 手中買下50%股權(quán)。未來(lái) Gigaphoton 將成為 Komatsu 的全資子公司。而此舉會(huì)為EUV的未來(lái)投下何種變數(shù)仍有待
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