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代號大角星！AMD將會推出7nm EUV工藝的Navi顯卡
明年AMD將會推出7nm工藝的Navi顯卡，官方也已經(jīng)表態(tài)了，而Navi下一代也規(guī)劃了，會使用第二代的7nm EUV工藝，架構(gòu)上也不再延續(xù)現(xiàn)在的GCN，現(xiàn)在AMD Linux社區(qū)員工爆料稱Navi的繼任者代號是Arcturus大角星，是牧夫座中最亮的一顆星。
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力不從心，英特爾放棄搶推EUV？
曾是電子工程師的市場研究機構(gòu)Bernstein分析師Mark Li表示，英特爾不會在短時間內(nèi)導(dǎo)入EUV，該公司仍在克服量產(chǎn)10納米制程的困難，因此其7納米制程還得上好幾年，何時會用上EUV更是個大問題。
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Entegris新一代光罩盒通過ASML認證 可用于EUV技術(shù)生產(chǎn)制程上
微電子產(chǎn)業(yè)特種化學(xué)品和材料解決方案廠商英特格 (Entegris) 宣布，新一代的光罩盒已獲得半導(dǎo)體生產(chǎn)設(shè)備商艾司摩爾 (ASML) 的認證，可用于極紫外光 (EUV) 微影技術(shù)的芯片大量生產(chǎn)上，用以保護在制造過程中光罩的完整。
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臺積電慌了！三星攜手ARM優(yōu)化7納米及5納米制程芯片
雖然2018年包括臺積電、三星、格羅方德都要導(dǎo)入7納米制程技術(shù)。其中，三星為了追趕臺積電，還在首代的7納米(LPP)制程中導(dǎo)入EUV技術(shù)。不過，臺積電也非省油的燈，除了積極布局7納米制程技術(shù)之外，2018年初也已經(jīng)宣布在南科啟動5納米建廠計劃，正式投入5納米制程的研發(fā)。因此，三星為了能縮減與臺積電的差距，5日正式宣布攜手知識產(chǎn)權(quán)大廠安謀(ARM)，雙方協(xié)議將進一步優(yōu)化7納米及5納米制程芯片。
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三星已啟動EUV 1ynm工藝的DRAM內(nèi)存芯片研發(fā) 最快2020年投產(chǎn)使用
EUV光刻目前被三星、臺積電、Intel等用于7nm工藝節(jié)點上，制造的普遍是AP(應(yīng)用處理器)。三星曾表示，7nm LPP工藝將在今年下半年量產(chǎn)，明年上半年推出首款可商用的邏輯芯片。
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美光：內(nèi)存工藝短時間不需要用EUV光刻工藝
美光CEO Sanjay Mehrotra日前在參加伯恩斯坦年度戰(zhàn)略決策會上回答了有關(guān)的工藝問題，在EUV光刻工藝上，他認為EUV光刻機在DRAM芯片制造上不是必須的，直到1α及1β工藝上都也不會用到它。
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美光：下一代1Y nm工藝DRAM正在驗證中，暫不需要EUV光刻
三星是第一家量產(chǎn)18nm工藝，也就是第一個進入1X nm節(jié)點的，遙遙領(lǐng)先其他公司，美光現(xiàn)在也開始向1X nm工藝轉(zhuǎn)進，下一代的1Y nm工藝已經(jīng)進入客戶驗證階段了，今年下半年問世，1Z nm工藝節(jié)點在處于工藝優(yōu)化階段，1α及1β工藝則是在不同研發(fā)階段。
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EUV技術(shù)量產(chǎn)已進入最后沖刺階段
隨著工藝節(jié)點來到單納米尺寸，研究人員開始將缺陷歸因于為小細節(jié);舉例來說，一次EUV曝光中的光子數(shù)量，會影響化學(xué)放大光阻劑(chemically amplified resists)，而其他種類的光阻劑性能也會因為所嵌入的金屬分子定向(orientation)而有所變化。
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“超級設(shè)備”入華 芯片自主生產(chǎn)有希望？
據(jù)多家媒體證實，長江存儲從荷蘭阿斯麥(ASML)公司訂購的一臺光刻機已抵達武漢。這臺光刻機價值價值7200萬美元，約合人民幣4.6億元。另據(jù)媒體報道，中芯國際在中興事件之后也向該公司下單了一臺光刻機，這臺名為EUV(極紫外線)光刻機更是身價不菲，價值1.2億美元，交貨日期尚不確定。
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4.6億元!長江存儲向ASML訂購的光刻機已到貨
近日消息，長江存儲從荷蘭阿斯麥(ASML)公司訂購的一臺光刻機（非EUV光刻機）已抵達武漢。這臺光刻機價值高達7200萬美元，約合人民幣4.6億元。此外，中芯國際中芯國際也向阿斯麥下單了一臺價值高達1.2億美元的EUV(極
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中芯國際斥資1.2億購進芯片制造設(shè)備EUV
據(jù)知情人士透露，中國最大的晶圓代工廠中芯國際已經(jīng)訂購了一臺EUV設(shè)備，在中美兩國貿(mào)易緊張的情況下，此舉旨在縮小與市場領(lǐng)先者的技術(shù)差距，確保關(guān)鍵設(shè)備的供應(yīng)。EUV是當(dāng)前半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)中最先進也最昂貴的芯片制造設(shè)備。
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挖礦客戶轉(zhuǎn)向7nm，EUV 7nm強化版明年量產(chǎn)
今日臺積電發(fā)布了截止3月31日的2018財年第一季度財報。臺積電第一季度合并營收為2480.79億元(新臺幣，下同)(約合84.58億美元)，較上年同期的2339.14億元增長6.1%;凈利潤為897.85億元(約合30.61億美元)，較上年同期的876.29億元增長2.5%。折算為12英寸晶圓的晶圓出貨量為26800片，同比增長8.4%。
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臺積電、三星EUV需求增強 2019年產(chǎn)量訂單有望全滿
《巴倫》報導(dǎo)，芯片設(shè)備供應(yīng)商艾司摩爾ASML的表現(xiàn)可能要比大多數(shù)人想像的要好，瑞士信貸分析師Farhan Ahmad即認為，艾司摩爾的產(chǎn)品是芯片制造商臺積電與競爭對手三星電子爭奪霸主地位的關(guān)鍵要素，估計可以在鷸蚌相爭中，漁翁得利。
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搶驍龍855!三星 7nm首次上EUV極紫外光刻
近日消息，據(jù)外媒報道，三星已經(jīng)完成了7nm新工藝的研發(fā)，而且比預(yù)期進度提早了半年，這為三星與臺積電爭搶高通驍龍855代工訂單奠定了基礎(chǔ)。自從16/14nm節(jié)點開始，三星和臺積電的工藝之爭愈發(fā)激烈，都不斷砸下巨資加速
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臺積電 砸2200億投資5納米3納米芯片
全球芯片代工龍頭臺積電舉行年度供應(yīng)鏈管理論壇，共有超過600個來自全球的合作伙伴參加。臺積電共同執(zhí)行長劉德音在論壇宣示大投資計劃，由于看好人工智能(AI)及5G的龐大市場，臺積電5納米新廠Fab 18將于明年動土興建，2019年上半年進入風(fēng)險試產(chǎn)，3納米新廠的投資金額更超過200億美元(約合人民幣1323.6億元)。
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光學(xué)光刻和EUV光刻中的掩膜與晶圓形貌效應(yīng)
半導(dǎo)體制造中微型化的進展使得光刻掩膜和晶圓上的幾何圖形不斷增加。準(zhǔn)確模擬這些圖形產(chǎn)生的衍射要求運用精確的電磁場(EMF)模擬方法。這些方法是在給定的幾何形狀、材料參數(shù)和入射場(照明)條件下，用合適的數(shù)值方法解麥克斯韋方程組。
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可望不可即嗎？臺積電將投200億美元開發(fā)3nm工藝
PChome整機頻道資訊報道近日，臺積電通過公告稱他們現(xiàn)已將3nm工藝芯片的研發(fā)選址定在臺灣南科臺南園區(qū)，不過臺積電官方并沒有公布該投資計劃的詳情，臺灣經(jīng)濟部門預(yù)計，臺積電這次投資3nm工藝的規(guī)模至少為5千億新臺幣，同時業(yè)界還有分析認為，3nm芯片的節(jié)點將大量采用EUV光刻技術(shù)，新技術(shù)+新研發(fā)場地，臺積電這次的總投資額或?qū)⒏哌_200億美元，這也將成為臺灣科技史上投資規(guī)模最大的計劃。
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EUV或?qū)Q定半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)方向
近日，TRUMPF公司CTO及股東Peter Leibinger在談到令人著迷的激光創(chuàng)新時重點提及極紫外光刻，也就是我們常說的EUV。他認為，EUV令人著迷的原因是其極富挑戰(zhàn)性及對世界的重要影響。
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更新?lián)Q代？芯片制造商看好EUV設(shè)備
據(jù)今日公布的一項調(diào)查顯示，芯片行業(yè)的高管們越來越樂觀地認為，該行業(yè)將采用極端的紫外線光刻技術(shù)和多波束掩模。新系統(tǒng)將有助于推動先進設(shè)備的發(fā)展，而這一時代正變得越來越復(fù)雜和昂貴。
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7nm工藝時代，國內(nèi)廠商該怎么辦
隨著三星 10 納米制程借高通驍龍 835 處理器的亮相，以及由臺積電 10 納米制程所生產(chǎn)的聯(lián)發(fā)科 Helio X30 處理器，在魅族 Pro 7 系列手機首發(fā)，之后還有海思的麒麟 970 及蘋果 A11 處理器的加持下，手機處理器的 10 納米制程時代可說是正式展開。而對于下一代的 7 納米制程，當(dāng)前來看，應(yīng)該仍是三星與臺積電兩大龍頭的天下。由于在 7 納米制程中，極其依賴的極紫外光( EUV) 設(shè)備，中國廠商在短期間內(nèi)仍無法購買到。這對于正積極建構(gòu)自身半導(dǎo)體生產(chǎn)能量的中國來說，將可能在 7 納米這個
